lithographicallyとは 意味・読み方・使い方

The BARC layer is etched with a significant negative etching bias, to reduce the critical dimension of the opening in the multilayer mask to be smaller than the lithographically defined dimension in the photoresist.例文帳に追加

ＢＡＲＣ層は、大きな負のエッチングバイアスによりエッチングされて、フォトレジストに、リソグラフィーにより画定された寸法より小さく、多層マスクの開口部の限界寸法を減じる。 - 特許庁

Further, the image is directly formed on a printing plate material mounted on the plate cylinder of a printer based on the signal of image data by the method for ink jet recording, a printing plate is formed, and then the image is lithographically printed.例文帳に追加

更に、画像データの信号に基づき、印刷機の版胴に装着された版材上に、インクジェット記録方法により直接画像を形成し刷版を作成した後に平版印刷を行う。 - 特許庁

The method comprises obtaining a resist material 250 with predetermined resist properties, using the resist material for providing a resist layer 4 on the device to be processed lithographically, and illuminating the resist layer according to a predetermined pattern to be obtained.例文帳に追加

該方法は、所定のレジスト特性を有するレジスト材料２５０を取得し、リソグラフィー処理されたデバイスにレジスト層４を設けるため上記レジスト材料を使用し、及び、得るべき所定パターンによって上記レジスト層を照明することを備える。 - 特許庁

This press plate for lithography is obtained by forming an image on a water-resistant support having a hydrophilic surface to be lithographically printed with the help of an ink jet process using a water dipersion composed of a polyester resin containing an ionic group, at a glass transition temperature of 40°C or higher and thermally fixing the image.例文帳に追加

平版印刷可能な親水性表面を有する耐水性支持体上に、ガラス転位温度４０℃以上のイオン性基含有ポリエステル樹脂からなる水分散体をインクジェット方式にて画像形成し、熱定着により刷版を得る。 - 特許庁

The obtained resist material 250 thereby has a tuned concentration of a photo-acid generator component 254 and/or a tuned concentration of a quencher component 256 and/or a tuned acid mobility to reduce watermark defects on the lithographically processed device.例文帳に追加

これにより得られたレジスト材料２５０は、上記リソグラフィー処理されたデバイスのウオータマーク欠陥を低減するように、調整された光酸発生剤成分２５４の濃度、及び／又は調整されたクェンチャー成分２５６の濃度、及び／又は調整された酸移動性を備える。 - 特許庁

Embodiments provide an immersion lithography exposure system comprising a wafer holder for holding a wafer, an immersion liquid for covering the wafer, an immersion head to dispense and contain the immersion liquid, and a light source adapted to lithographically expose a resist on the wafer.例文帳に追加

本発明の実施形態は、ウェハを保持するためのウェハ・ホルダと、ウェハを覆うための浸漬液と、前述の浸漬液を分配及び収容するための浸漬ヘッドと、ウェハ上のレジストをリソグラフィ露光するように適合された光源と、を含む浸漬リソグラフィ露光システムを提供する。 - 特許庁

A microelectronic contact structural body is lithographically demarcated by applying a substrate 202 such as an electronic component, preparing an opening 222 on its mask layer 220, depositing the conductive trace of a seed layer 250 on the mask layer and in the opening, and building a mass of a conductive material on the conductive trace.例文帳に追加

電子部品のような基板２０２を適用し、このマスク層２２０に開口２２２を生成し、シード層２５０の導電性トレースを前記マスク層の上と前記開口の中に堆積して、導電性トレース上に導電性材料の塊を構築することにより、超小型電子接触構造体がリソグラフ的に画定され、製造される。 - 特許庁