local particleとは 意味・読み方・使い方

A charged particle beam apparatus is configured so that a plasma gas supply source and an electrode connected to a plasma power supply can be installed in the vicinity of a desired region inside the charged particle apparatus to realize local plasma processing and composite functions such as inspection, analysis, and microfabrication by a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線装置内にプラズマのガス供給源とプラズマ電源に繋がった電極を所望領域近傍に設置できる構成とし、局所的なプラズマ加工と荷電粒子線による検査、解析、微細加工等の複合機能を実現する。 - 特許庁

Specifically, particle size distribution and amount of suspension sand are calculated by a particle size distribution section 58 and a suspension sand amount section 60 based on local reduction of X-ray amount, and turbidity is measured based on the reduction of a background zone.例文帳に追加

具体的には、粒度分布部５８と浮遊砂量部６０によって、Ｘ線量の局所的な低下に基づいて浮遊砂の粒度分布と量が計算され、背景域の低下に基づいて濁度が計測される。 - 特許庁

Accordingly, a contact area between the charged particle beam B and the beam reception surface 12a can be increased, and thereby, local temperature increase can be suppressed.例文帳に追加

そのため、荷電粒子ビームＢとビーム受け面１２ａとの接触面積を大きくすることができ、局所的な温度上昇を抑制することができる。 - 特許庁

Thus, a problem is solved, that the search is stopped at the local optimum solution by the particle assemblage optimizing means, and any practically sufficient convergence performance cannot be obtained.例文帳に追加

これにより、粒子群最適化手法における局所最適解で探索が留まり実用上十分な収束性能を得られないという問題を解決する。 - 特許庁

To provide a method for producing fine polymer particles, by which the fine polymer particles having a low mol.wt., a uniform particle diameter distribution, and two or more local maximum values of mol.wt. can stably be produced.例文帳に追加

低分子量で、粒子径分布の揃った分子量極大値を２つ以上有するポリマー微粒子を安定に製造する方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The compound semiconductor device having the FRD and SBD formed on the one semiconductor substrate has a local lifetime control region formed by particle-beam irradiation.例文帳に追加

１つの半導体基板上に、ＦＲＤとＳＢＤとを形成した複合半導体装置において、粒子線照射により局所ライフタイム制御領域を形成する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus that reduces particle generation by preventing a clamped ring, a shield ring, and an equalization ring from intensively discharging electricity to a local region during plasma treatment.例文帳に追加

プラズマ処理中において、クランプリング、シールドリング及び均一化リングの局所への放電の集中を抑制して、パーティクルの発生を低減したプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a local cooling method capable of surely making a fatigue crack opening with a size enough to allow a fatigue crack proceeding speed reducing particle containing paste to enter into the opening.例文帳に追加

疲労き裂進展速度低下用粒子含有ペーストを進入させるに十分な大きさの疲労き裂開口を確実に生じさせることができる局部冷却方法を提供すること。 - 特許庁