Otherwise, a tube-shaped or pipe shaped of a coating material of a high-function resin is tightly applied to the outer circumferential surface of the roll to coat it, and the outer circumferential surface of the coating material is polished to be the semi-mirror plane or the mirror plane of Ra 1.0 μm or smaller.例文帳に追加

ロール外周面に高機能樹脂製のチューブ状或いはパイプ状の被覆材を密着被覆し、その被覆材の外周面をＲａ１．０μｍ以下の準鏡面又は鏡面に研磨することもできる。 - 特許庁

In the carrying/guide roll, the outer circumferential surface of the roll is polished to make the outer circumferential surface to be a semi-mirror plane or a mirror plane of Ra 1.0 μm or smaller.例文帳に追加

本発明のガイド用、搬送用ロールは、ロール外周面を研磨してその外周面をＲａ１．０μｍ以下の準鏡面又は鏡面とした。 - 特許庁

In a focus ring 1 having a mirror surface whose center line surface roughness Ra is 1 μm or less, at least the external sidewall 14 of the focus ring 1 is set to have center line surface roughness Ra which is from over 1 μm to 1.6 μm.例文帳に追加

表面の中心線表面粗さＲａが１μｍ以下の鏡面を有するフォーカスリング１において、前記フォーカスリング１の少なくとも外周側壁１４を中心線表面粗さＲａ：１μｍ越え〜１．６μｍの粗面にしたことを特徴とする。 - 特許庁

A reflective coating having a reflectance of 75% or more can be easily formed by polishing the surface of the silicon carbide sintered compact to a mirror polished surface having a center line average roughness (Ra) of 15 nm or less.例文帳に追加

炭化珪素焼結体の鏡面研磨面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を１５ｎｍ以下とすることにより、反射率７５％以上の反射膜を容易に形成することができる。 - 特許庁

A resist film R is formed on a mirror finished surface of a substrate 10 consisting of silicon or glass subjected to mirror finish polishing on its surface and this resist film is exposed by a convergent electron beam or UV laser, etc., and is developed, thereby, the resist films Ra of the patterns corresponding to rugged shapes are formed.例文帳に追加

表面を鏡面研磨したシリコンあるいはガラスからなる基板１０の鏡面上にレジスト膜Ｒを形成し、このレジスト膜に集束電子ビームあるいは紫外線レーザなどにより露光し、さらに現像して、凹凸形状に対応するパターンのレジスト膜Ｒａを形成する。 - 特許庁

The arithmetic average roughness Ra of the reflector-forming surface 10a of the substrate 10, on which the reflecting mirror 20 is formed, is set at most 15 μm; and the maximum height Ry thereof is set at most 20 μm.例文帳に追加

反射鏡２０が形成される基体１０の反射鏡形成面１０ａの算術平均粗さＲａを１５μｍ以下にし、最大高さＲｙを２０μｍ以下にする。 - 特許庁

The surface of the AlN sintered body subjected to the intermediate finish-machining is subjected to a mirror finishing so that an arithmetic mean roughness Ra may be ≤0.05 μm and subjected to a finish-machining so that skewness Rsk of the machined surface may be ≥0 and ≤1.例文帳に追加

中仕上げ加工されたＡｌＮ焼結体の表面を、算術平均粗さＲaが０．０５μｍ以下となるように鏡面加工し、加工表面のスキューネスＲskを０以上１以下に仕上げ加工する。 - 特許庁

Next, the surface of the mirror finished surface of the substrate is processed to the rugged shapes (projecting parts 10a and recessed parts 10b) by dry etching, etc., using the resist films Ra as a mask, by which the stamper 10 (ST) is formed.例文帳に追加

次に、レジスト膜Ｒａをマスクとしたドライエッチングなどにより、基体の鏡面の表面を凹凸形状（凸部１０ａおよび凹部１０ｂ）に加工し、スタンパ１０（ＳＴ）とする。 - 特許庁

The surface of the oxide substrate useful for producing an epitaxial film is a non-mirror surface having an arithmetic mean roughness (Ra), prescribed by JISB0601-1994, of >0.02 μm.例文帳に追加

エピタキシャル膜製造用の酸化物基板は、エピタキシャル膜を成長させる表面が、表面粗さをＪＩＳＢ０６０１−１９９４で規定されている算術平均粗さ（Ｒａ）で表した場合に０．０２μｍよりも大きい非鏡面である。 - 特許庁

The wafer for an elastic surface wave device has at least a side which is a mirror surface comprising lithium tantalite single crystal with an arithmetic average roughness (Ra) of the side being below 1.5 nm.例文帳に追加

タンタル酸リチウム単結晶から成るウエハの少なくとも側面が鏡面であるとともに、側面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５ｎｍ以下とする弾性表面波素子用単結晶ウエハとする。 - 特許庁

The member 60 has a mirror surface 62 whose arithmetic mean roughness Ra is ≥0.05μm and ≤0.20μm on the surface 61, and one part of the surface 62 is made proximate to the roller 4.例文帳に追加

円弧面６１内に、算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下である鏡面６２を有し、鏡面６２内の一部分が現像ローラ４に近接する。 - 特許庁

This mirror is provided with the reflecting surfaces Ra and Rb of the two plane mirrors 2a and 2b disposed perpendicularly facing to each other in a body 1, and the angle adjusting mechanism 3, when the reflecting surfaces Ra and Rb of the two plane mirrors 2a and 2b are deflected from the right angle, adjusting the angle to be returned to its original right angle.例文帳に追加

本体１に二枚の平面鏡２ａ、２ｂの反射面Ｒａ、Ｒｂを直角に向かい合わせて設けると共に、前記二枚の平面鏡２ａ、２ｂの反射面Ｒａ、Ｒｂを向かい合わせた角度が直角からずれた場合に、その角度を調整して直角に復帰させるようにした角度調整機構３を設けたものとしている。 - 特許庁

A molten thermoplastic resin is molded by using a mold wherein a heat insulating layer is provided at least at a part of the mold wall surface constituting a cavity and the center line average roughness (Ra) of the mirror surface part of the uppermost surface of the cavity is 0.1 μm or less and the maximum height (Rmax) thereof is 1.0 μm or less.例文帳に追加

キャビティを構成する型壁面の少なくとも一部に断熱層を有し、該キャビティ最表面の鏡面部分の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、最大高さ（Ｒｍａｘ）が１．０μｍ以下である金型を用いて、熱可塑性樹脂を溶融成形する。 - 特許庁

In the wafer polishing method where the main face of the wafer is in slidable contact with a polishing pad formed by impregnating nonwoven fabric with resin and mirror-polishing is performed, the ratio of the surface roughness of the polishing pad and compressibility (surface roughness Ra (μm)/ compressibility (%)) is set at 3.8 or layer and polishing is performed.例文帳に追加

不織布に樹脂を含浸させた研磨パッドにウェーハ主面を摺接させて、鏡面研磨するウェーハの研磨方法において、前記研磨パッドの表面粗さと圧縮率の比｛表面粗さＲａ（μｍ）／圧縮率（％）｝を３.８以上にし研磨するようにした。 - 特許庁

The optical reflection mirror is constituted by forming the reflection mirror directly on the surface of the base plate composed of the SiC-Si composite material obtained by compositing SiC reinforcing material in an Si matrix, and the content of SiC in the SiC-Si composite material is 60 to 90 volume %, and the surface roughness Ra of the base plate is ≤10nm.例文帳に追加

Ｓｉマトリックス中にＳｉＣ強化材が複合されたＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に直接に反射膜を形成してなる光学反射ミラーであって、前記ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料中のＳｉＣの含有率が６０〜９０体積％であり、かつ、前記基板の表面粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学反射ミラー。 - 特許庁

Here, reading R1 of signals generated by the row of focus detection picture elements by the light P1 exposed actually to the imaging element and the processings M1 for computing the phase difference AF are performed and reading Ra of signals generated by the light Pa exposed to the AF module and the processings Ma for computation after mirror down driving Kd are performed to detect the phase difference AF during continuous shooting.例文帳に追加

ここで、連写撮影中に位相差ＡＦを行う場合には、撮像素子への本露光Ｐ１により焦点検出画素列で生成された信号の読出しＲ１および位相差ＡＦの演算処理Ｍ１を実行するとともに、ミラーダウン駆動Ｋｄ後におけるＡＦモジュールへの露光Ｐａにより生成された信号の読出しＲａおよび演算処理Ｍａを実行する。 - 特許庁

The mirror-faced aluminum material comprises an aluminum base material and a barrier-type anodic oxide coating formed on the surface of the aluminum base material, wherein the aluminum base material contains ≥99.5 wt.% Al, and its surface shows an arithmetical mean roughness Ra of ≤0.1 μm and a mean distance Sm between concaves and convexes of ≥10 μm.例文帳に追加

９９．５重量％以上のＡｌを含有し、表面における０．１μｍ以下の中心線平均粗さＲａと１０μｍ以上の凹凸平均間隔Ｓｍとを有するアルミニウム基材と、その表面に形成され１００〜５００ｎｍの厚さを有するバリア型陽極酸化皮膜とを備えることを特徴とする鏡面アルミニウム材。 - 特許庁

The hard coat layer exhibits 40% or over of haze and 0.10 μm or less surface roughness Ra (average roughness on the middle line), and average refraction rate value of 65% or over in 5° mirror reflectance to an average value of integrated reflection rate in a range of 450 nm to 650 nm wave length.例文帳に追加

透明支持体上に、少なくとも一層のハードコート層と最外層に位置する低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、ハードコート層のヘイズが４０％以上であり、反射防止フィルムの表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）が０．１０μｍ以下であり、且つ４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域における積分反射率の平均値に対する５度鏡面反射率の平均値が６５％以上であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁