nitric elementとは 意味・読み方・使い方

A nitric acid solution comprising the ions of any one kind of element selected from Ru, Rh and Pd as rare elements FP, and Re as a rare element is subjected to constant current electrolysis and is electrolytically reduced to deposit the above element ions on an electrode.例文帳に追加

希少元素ＦＰであるＲｕ、Ｒｈ、Ｐｄまたは希少元素であるＲｅのいずれか１種の元素イオンを含む硝酸溶液を定電流電解して電解還元することにより電極上に前記元素イオンを析出させる。 - 特許庁

Alternatively, a nitric acid solution comprising the ions of two or more kinds selected from the group consisting of Ru, Rh and Pd as rare elements FP, and Re as a rare element is subjected to constant current electrolysis and is electrolytically reduced, thus the element ions are collectively deposited on an electrode.例文帳に追加

あるいは、希少元素ＦＰであるＲｕ、Ｒｈ、Ｐｄおよび希少元素であるＲｅからなる群から選ばれた２種以上の元素イオンを含む硝酸溶液を定電流電解して電解還元することにより電極上に前記元素イオンを一括析出させる。 - 特許庁

Thereafter, by the use of etchant containing a hydrofluoric acid and a nitric acid, only the amorphous silicon formed in the element isolating region 2 is selectively removed by etching, and the single crystal silicon formed in the active region 5 is hardly etched.例文帳に追加

その後、フッ酸と硝酸とを含むエッチング液を用い、アクティブ領域５に形成された単結晶シリコン部分をほとんどエッチングすることなく素子分離領域２に形成されたアモルファスシリコンのみを選択的にエッチングして除去する。 - 特許庁

In the overcurrent protection element in which the metal foils are provided on both surfaces of the sheet-shaped conductive composition, the metal foil is a rolling foil and its surface is roughened by a chemical treatment using a chemical solution of at least one or more of phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, hydrogen peroxide, and fluoric acid.例文帳に追加

シート状の導電性組成物の両面に金属箔を設けてなる過電流保護素子において、該金属箔が圧延箔であって、その表面をリン酸、クロム酸、硫酸、硝酸、塩酸、過酸化水素、フッ酸の少なくとも１以上の薬液による化学的処理により粗面化したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of opening an LSI package and of exfoliating and removing a protective film which covers the surface of a circuit element, a remaining film or the like of a packaging material without using a powerful drug such as a hydrofluoric acid, a fuming nitric acid, and a strong sulfuric acid.例文帳に追加

弗酸、発煙硝酸、濃硫酸といった劇薬を全く用いることなしに、ＬＳＩパッケージの開封および回路素子表面を被覆している保護膜やパッケージ材料残存膜等の剥離・除去作業を行うことができる方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

The surface of an electronic component package 1 is polished with a polishing paper until an electronic element 3 is exposed on the top of an electronic element 3 to be analyzed, and a nitrohydrofluoric acid etchant in which a hydrofluoric acid and a nitric acid are mixed at a ratio of 3:1 or a potassium hydroxide solution is used in this state to dissolve and eliminate the exposed electronic element 3.例文帳に追加

電子部品パッケージ１の表面を、解析対象となる電子素子３の上部の電子素子３が露出するまで研磨紙などで研磨し、この状態でフッ化水素酸と硝酸が３対１の比率で混合されたフッ硝酸エッチング液、または水酸化カリウム水溶液を用いて、露出した電子素子３を溶解して除去する。 - 特許庁