over exposure areaとは 意味・読み方・使い方

To provide an exposure apparatus capable of transferring an image of a pattern laid on a mask onto a photosensitive substrate with high accuracy over the entire area of the pattern.例文帳に追加

マスクに設けられたパターンの像をパターン全域にわたって高精度に感光基板に転写することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of first exposure segments are arranged in adjoining one another in a pattern area defined on a substrate where a resist film is formed; and the resist film in each first exposure segment is successively exposed to light in a first exposure luminous energy to transfer a mask pattern over the entire pattern area.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板上に定義されるパターン領域に複数の第１露光区画を互いに隣接させて配列し、パターン領域の全面にわたり第１露光量で、マスクパターンを第１露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。 - 特許庁

To provide a near-field exposure mask, a resist pattern formation method, and a device manufacturing method capable of securing close contact between a mask and an exposure target over a large area.例文帳に追加

大面積にわたってマスクと被露光物との密着を確保することのできる近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

Through opening/closing control over a shutter 3 by the controller 14 and driving control over the liquid crystal blind 17, the size precision of a resist pattern image formed by projection exposure on a resist film surface of a semiconductor wafer 13 passing through a projection area (in an exposure shot surface) of the reticle 10 is improved.例文帳に追加

コントローラ１４によるシャッタ３の開閉制御、液晶ブラインド１７の駆動制御に伴い、レチクル１０の投影領域内（露光ショット面内）を通る半導体ウエハ１３のレジスト膜面上の投影露光によるレジストパターン像の寸法精度が向上する。 - 特許庁

By arranging the flat part F, the step difference S can be prevented from being over-developed up to the area where the electrode 24 should be arranged, namely, over-removal can be prevented when the step difference S is formed for the insulating film 22 by exposure and development processing.例文帳に追加

平坦部Ｆを設けたことにより、露光及び現像処理によって絶縁膜２２に段差Ｓが形成される際、段差Ｓが電極２４が設けられるべき領域までオーバー現像、すなわち過剰除去されることを防止できる。 - 特許庁

A timing controller 17 controls the exposure timing of a CCD camera 6 to obtain beam detection information by detecting a scan beam 2 over a two-dimensional area.例文帳に追加

２次元の検出エリアを走査ビーム２を検出してビーム検出情報を得るためのＣＣＤカメラ６の露光タイミングをタイミング制御部１７により制御する。 - 特許庁

The thick-film section 103a has a large exposure area to a thinner atmosphere, so that it is softened fast and the flow advances toward the target region S_1 over a stepped part D.例文帳に追加

厚膜部１０３ａは、シンナー雰囲気に対する露出面積が大きいため、軟化が速く、段差Ｄを越えてターゲット領域Ｓ_１へ向けて流動が進行する。 - 特許庁

To provide a lithographic projection apparatus, in which interferometer systems 6, 8, 14, 15, and 16 have a capacity area, extending over a measurement station 4 and a exposure station 2, and a method.例文帳に追加

干渉計システム６、８、１４、１５、１６が第１の測定ステーション４及び第２の露光ステーション２にわたって広がる能力範囲を有するリソグラフィ投影装置１及び方法。 - 特許庁