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overpolishingとは 意味・読み方・使い方
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「overpolishing」を含む例文一覧
該当件数 : 8件
To realize W-CMP with low erosion and high overpolishing margin.例文帳に追加
低エロージョンかつ高オーバーポリッシングマージンのW−CMPを実現すること。 - 特許庁
To provide a polishing method and polishing apparatus capable of reducing rework caused by overpolishing or risk of yield reduction.例文帳に追加
過研磨によるリワークや歩留り低下のリスクを低減することが可能な研磨方法及び研磨装置を提供する。 - 特許庁
To provide a colored curable composition having resistance (polishing stopper ability) hard to receive excessive flattening treatment, such as overpolishing upon film forming.例文帳に追加
成膜した際に過研磨等の過剰な平坦化処理を受け難い耐性(研磨ストッパー性)を有する着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing that suppresses erosion and its speed when overpolishing is carried out in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加
化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁
To obtain an aqueous dispersion for chemical machine polishing useful for polishing copper, having a high polishing rate, capable of decreasing an erosion rate in overpolishing.例文帳に追加
研磨速度が高く、オーバーポリッシュ時のエロージョン速度を小さくすることができる銅の研磨に用いる化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁
To provide a polishing process of a substrate, where an overpolishing time is shortened, a dishing quantity is small and a high-reliability metal film embedded pattern can be formed.例文帳に追加
本発明は、オーバー研磨時間を短くし、ディッシング量が小さく、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁
This constituent of inhibitor is applied to chemico-mechanical polishing; and while a high polishing removal rate of a metallization layer is being maintained, it has the property of suppressing metal etching, so that polishing failures, such as overpolishing and erosion, can be reduced.例文帳に追加
該抑制剤の構成物は化学機械研磨において応用し、金属層の高研磨除去率を維持すると同時に、金属エッチングの抑制の特性を兼ね備え、研磨過剰及び侵食等の研磨欠陥を減らすことができる。 - 特許庁
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「overpolishing」を含む例文一覧
該当件数 : 8件
To provide an abrasive composition that can polish a copper film, barrier layer composed of a tantalum compound, and SiO_2 insulating layer at almost equal polishing speeds in a CMP process performed on a semiconductor device having the copper film, barrier layer composed of the tantalum compound, and SiO_2 insulating layer and can improve dishing and flatness than the overpolishing method does.例文帳に追加
銅膜、タンタル化合物のバリア層、SiO_2の絶縁層を有する半導体デバイスのCMP加工プロセスにおいて、銅膜、タンタル化合物のバリア層、SiO_2の絶縁層の研磨速度がほぼ同程度であり、ディッシング、平坦性がオーバーポリシング法より改善される研磨用組成物を提供する。 - 特許庁
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overpolish
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