plasma etching techniqueとは 意味・読み方・使い方

To provide a technique capable of favorably forming a tapered hole by utilizing an etching technique (dry etching technique) that uses plasma.例文帳に追加

プラズマを利用したエッチング技術（ドライエッチング技術）を利用して、テーパ形状の孔を良好に形成し得る技術を提供することを一つの目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma etching method capable of etching a layer to be etched into a more fine pattern than in a conventional technique, a control program, a computer storage medium, and a plasma etching apparatus.例文帳に追加

従来に比べて被エッチング層を更に微細なパターンにエッチングすることのできるプラズマエッチング方法、制御プログラム、コンピュータ記憶媒体及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technique which reduces plasma damage during etching and improves the characteristics of FeRAM memory cells.例文帳に追加

エッチング時のプラズマダメージを低減させ、ＦｅＲＡＭのメモリセルの特性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of effecting a uniform etching process upon applying plasma processing or etching processing, for example, on a workpiece.例文帳に追加

被処理体に対してプラズマ処理例えばエッチング処理を行うにあたり、均一なエッチング処理を行うことができる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a technique capable of performing highly uniform etching to a substrate when a treatment gas is changed into plasma to perform dry etching to a film to be etched.例文帳に追加

処理ガスをプラズマ化して基板上の被エッチング膜をドライエッチングするにあたり、基板に対して均一性高くエッチング処理を行うことができる技術を提供すること。 - 特許庁

In this manufacturing technique, the relief profile is formed by selectively applying a plasma etching to a multilayered stack including alternative layers of a first material and a second material, which have relative etching selectivity.例文帳に追加

本発明の製造技術によれば、相対的なエッチング選択性を有する第１の材料および第２の材料の交互層を含む多層スタックを選択的にプラズマ・エッチングすることによりレリーフ状のプロファイルが形成される。 - 特許庁

To provide technique for detecting a terminal point of plasma etching steadily with superior accuracy even for a small aperture ratio, especially for an aperture of 1% or below while an influence of noises is controlled.例文帳に追加

開口率が小さい、特に１％以下の開口率でも精度良く、かつノイズ等の影響を抑制して安定してプラズマエッチング終点を検出する技術を提供する。 - 特許庁