plasma observationとは 意味・読み方・使い方

The emission wavelength of the plasma arc Pa is measured with a spectroscope 11a through an observation port 11 that is provided at the decomposition chamber 1.例文帳に追加

プラズマアークＰａの発光波長を、分解室１に設けたのぞき窓１１を通じて分光器１１ａにより測定する。 - 特許庁

For a semiconductor manufacturing device and a semiconductor processing method that perform processing using plasma, a pickup driving unit 111 is provided which varies an observation direction and an observation position of a light emitting pickup 11 for observing plasma light emission for each process condition, and an observation in the most suitable direction and at the most suitable position corresponding to a condition is made with the single light emitting pickup.例文帳に追加

プラズマによる処理を行う半導体製造装置及び半導体処理方法において、プロセス条件ごとにプラズマ発光を観測する発光ピックアップ１１の観測方向や観測位置を可変とするピックアップ駆動手段１１１を設けて、条件に応じた最適な方向および位置での観測を単一の発光ピックアップにて行う。 - 特許庁

To provide an ICP emission spectroscopic analyzer which can easily perform observation from the lateral direction and/or the axial direction with a spectroscope and a plasma torch fixed, especially can perform observation under the condition with larger quantity of light from the lateral direction.例文帳に追加

分光器とプラズマトーチを固定したまま簡単に横方向と軸方向の観測の同時観測および切り替えができ、しかも横方向観測で光量が大きい状態で観測ができるＩＣＰ発光分光分析装置を提供する。 - 特許庁

A plasma etch treatment apparatus is provided with an internal chamber on its upper part, and it is also provided with a plasma treatment vessel 2 made of electrically conductive material, an upper electrode 12 arranged on the upper part of the internal chamber, and an observation tube 100 mounted to the upper electrode 12.例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置は、上部に内部チャンバを有し、導電性材料から成るプラズマ処理容器２と、内部チャンバ内の上部に配置された上部電極１２と、上部電極１２に設けられた内視筒１００とを備える。 - 特許庁

When the plasma is generated, the luminous intensity at a predetermined wavelength of light emitted on the substrate is detected through an observation window provided to the film deposition container.例文帳に追加

プラズマを発生させたとき、基板上で発光する光の所定の波長の発光強度を、成膜容器に設けられた観測窓を介して検出する。 - 特許庁

To obtain a plasma etching system in which the end point of etching can be detected with a high accuracy regardless of the aging of an optical system or a measuring equipment, contamination of an observation window, or the like.例文帳に追加

光学系や測定計の経時変化、観測窓の汚れ等の影響を受けずに、エッチングの終点を高精度に検出できるようにする。 - 特許庁

This mask inspection device comprises a subchamber which carries the mask from the atmosphere and exhausts preliminarily, a plasma generator which is installed in the subchamber, generates a plasma and neutralizes the charge on the mask carried into the pre-exhausted subchamber and a carrying method set the mask at the observation position, carrying the mask to the chamber from the subchamber after neutralizing the charge on the mask.例文帳に追加

マスクを大気中から搬送して予備排気するサブチャンバーと、予備排気されたサブチャンバーに設けてプラズマを発生させて当該サブチャンバーに搬送されているマスク上の電荷を中和するプラズマ発生装置と、マスク上の電荷を中和した後に、当該マスクを上記サブチャンバーからチャンバーに搬送して観察位置に設定する搬送手段とを備えるように構成する。 - 特許庁

This plate for microscopic observation consists of a synthetic resin and the wet tension of at least the segments of the plate surface, which segments come into contact with the specimen, is specified to 3.5×10^-2 to 9.5×10^-2 N/m by a plasma or a corona discharge treatment.例文帳に追加

合成樹脂からなる顕微鏡観察用プレートであって、プラズマ放電処理またはコロナ放電処理により、プレート表面のうち少なくとも検体と接触する部分のぬれ張力が、３．５×１０^-2〜９．５×１０^-2Ｎ／ｍとなされていることを特徴とする顕微鏡観察用プレート。 - 特許庁