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plasma phaseとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 プラズマ相

JST科学技術用語日英対訳辞書での「plasma phase」の意味

plasma phase


「plasma phase」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 165



例文

PLASMA CHEMICAL VAPOR PHASE GROWTH DEVICE例文帳に追加

プラズマ化学気相成長装置 - 特許庁

MULTI-PHASE AC PLASMA GENERATING DEVICE例文帳に追加

多相交流プラズマ発生装置 - 特許庁

PLASMA GENERATING DEVICE USING THREE-PHASE ALTERNATING CURRENT例文帳に追加

三相交流を用いたプラズマ発生装置 - 特許庁

the branch of physics concerned with matter in its plasma phase発音を聞く 例文帳に追加

物質のプラズマ相に関する物理学の分野 - 日本語WordNet

The diffused region 367 is formed through vapor-phase doping, plasma doping, or plasma infiltration ion implantation.例文帳に追加

拡散領域は、気相ドーピング、プラズマドーピング、あるいはプラズマ浸漬イオンインプランテーションにより形成される。 - 特許庁

METHOD FOR DRIVING PLASMA DISPLAY BY MATRIX TRIGGERING IN SUSTAINED PHASE例文帳に追加

持続段階中のマトリクストリガー処理によるプラズマディスプレイ駆動方法 - 特許庁

例文

To execute etching in the vapor phase without generating plasma damaging a substrate.例文帳に追加

基板にダメージを与えるプラズマを発生させずに気相でエッチングを行う。 - 特許庁

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「plasma phase」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 165



例文

METHOD FOR CONVERTING CARBON DIOXIDE TO COMBUSTIBLE GAS BY PLASMA GASEOUS PHASE REACTION例文帳に追加

プラズマ気相反応による二酸化炭素を可燃性ガスへ転化する方法 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY PLASMA TREATMENT METHOD WHEREIN PLASMA IS EXCITED BY INDUCTIVE STRUCTURE IN WHICH PHASE AND ANTI-PHASE PORTIONS OF CAPACITIVE CURRENTS BETWEEN GENERATED PLASMAS ARE BALANCED例文帳に追加

発生させたプラズマ間の容量電流における位相部と逆位相部が平衡する誘導構造によって励起される高周波プラズマ処理方法 - 特許庁

PORTABLE DEFORMED 12-PHASE AC PLASMA DISCHARGING DEVICE FOR WASTE DISPOSAL TREATMENT AND FURNACE例文帳に追加

可搬式廃棄物処理用変形12相交流プラズマ放電装置及び炉 - 特許庁

Next, the phase difference layer 62 is completed, by subjecting it to RIE plasma treatment which is an anisotropic etching on the phase difference layer body.例文帳に追加

次に、位相差層体に異方性エッチングであるRIEプラズマ処理を施して位相差層62を完成させる。 - 特許庁

GAS PHASE-LIQUID PHASE MIXING APPARATUS AND GAS PHASE-LIQUID PHASE REACTION METHOD USING LIQUID SURFACE PLASMA REACTION, PRODUCTION OF AMMONIA AND HYDROGEN, AND METHOD AND APPARATUS FOR FIXING NITROGEN TO ORGANIC SOLVENT例文帳に追加

液面プラズマ反応による気相−液相混合装置および気相−液相反応方法並びにアンモニアおよび水素の生成と、有機溶媒への窒素固定方法および装置 - 特許庁

To prevent the wasteful consumption of high-frequency power and control plasma density distribution without the limitation of the connecting position of a phase control circuit in a plasma processor unifying the plasma density distribution in a chamber by adjusting the phase of the high-frequency power applied to a plasma generating electrode with the phase control circuit.例文帳に追加

プラズマ生成用電極に加える高周波電力の位相を位相制御回路で調整して、チャンバ内のプラズマ密度分布を均一化するプラズマ処理装置において、高周波電力消費の無駄をなくし、かつ位相制御回路の接続箇所の制約を伴うことなく、プラズマ密度分布の制御を可能とする。 - 特許庁

An electric charge is poured into the ONO laminated film 5 by plasma dry etching or plasma chemical gas phase growing method after the charge accumulation treatment.例文帳に追加

電荷蓄積処理の後、プラズマ・ドライエッチングまたはプラズマ化学的気相成長法によりONO積層膜5に電荷を注入する。 - 特許庁

例文

To provide a plasma processor equipped with a function to use the optimum signal for phase control.例文帳に追加

位相制御にとって最適な信号を用いる機能を備えたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

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