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意味・対訳 プラズマシフト


JST科学技術用語日英対訳辞書での「plasma shift」の意味

plasma shift

プラズマシフト

「plasma shift」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 36



例文

ANODE FOR HEATING SHIFT TYPE PLASMA例文帳に追加

移行型プラズマ加熱用陽極 - 特許庁

To provide a plasma display panel having high luminance and hardly causing wavelength shift or luminance deterioration.例文帳に追加

輝度が高く波長シフトや輝度劣化が少ないプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching apparatus that can perform etching with excellent in-plane uniformity and that can reduce the nonuniformity of the CD shift caused by variations in the surface density.例文帳に追加

CDシフトの疎密差を含めた面内均一性に優れたプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To detect and correct a wafer shift if the wafer shift is made in a chamber processing room of a plasma device used in a stage of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程で使用されるプラズマ装置に際して、チャンバー処理室内でウエハズレが発生した場合に、それを検知して修正する。 - 特許庁

A first amount of positional shift between the light-emitting point detected by the plasma position monitor and a light-emitting reference position is determined, and the light-emitting section driver is driven based on the first amount of positional shift.例文帳に追加

そして、プラズマ位置モニタにより検出された発光点と発光基準位置との第1ズレ量を判断し、第1ズレ量に基づいて、発光部駆動装置を駆動する。 - 特許庁

To provide plasma welding equipment where timing in a shift from a pilot arc to a plasma arc is suitably detected, and the quantity of the heat to be applied to a weldment is correctly controlled.例文帳に追加

パイロットアークからプラズマアークへの移行タイミングを適切に検出して、溶接物への投入熱量を正確に制御するプラズマ溶接装置に関する。 - 特許庁

例文

After the shift of the plasma arc P, The plasma arc electrode 11 is further lowered to the position not hindering the conveyance of the cast slab H, i. e. below the lower surface of the cast slab H.例文帳に追加

プラズマアークPの移行後、プラズマアーク電極11は、鋳片Hの搬送を妨げない位置、すなわち鋳片Hの下面より下方までさらに下降する。 - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「plasma shift」の意味

plasma shift

プラズマシフト

「plasma shift」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 36



例文

Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention.例文帳に追加

さらに、遮光層3をパターニング処理して遮光パターン3aを形成し、さらに、シフター層2をICP(誘電結合プラズマ)タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン2aを形成し、本発明の位相シフトマスク100を得る。 - 特許庁

Since the CO and H_2O having dipole moment are made into radicals or ions and activated by the plasma, a CO shift reaction and a methanation reaction proceed simultaneously and efficiently.例文帳に追加

双極子モーメントを有するCO及び H_2Oはプラズマによってラジカル化あるいはイオン化して活性化されるので、COシフト反応及びメタン化反応が同時に効率よく進行する。 - 特許庁

To provide a method in which appropriate shift of charging to an electrode Y_as from an electrode X is guaranteed regardless of a type of phosphor of a cell in a plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルにおいて、電極Xから電極Y_asへの充電の適切な移行をセルの蛍光体のタイプに関係なく保証することのできる方法を提供する。 - 特許庁

To perform plasma etching to form a gate electrode on a workpiece of a large-size diameter, while ensuring the in-plane uniformity of CD shift of the gate electrode.例文帳に追加

大口径の被処理体にゲート電極の形成を目的としてプラズマエッチングを行う際に、ゲート電極のCDシフトの面内均一性を確保するのが困難になってきている。 - 特許庁

To provide semi-fabricated item of an electrode for a plasma arc torch having a structure preventing shift of an electron emission element during a heating process after assembly and its exposure to an atmosphere during the heating process.例文帳に追加

組立後の加熱工程で電子放出要素が移動せず、電子放出要素が加熱工程中の雰囲気に露出しない構造となるプラズマアークトーチ用電極の半製品を提供する。 - 特許庁

Thereby, the plasma gun 10 can stably generate the glow discharge in a short period of time, and can shift the glow discharge to the arc discharge though having a structure provided even with three intermediate electrodes.例文帳に追加

これにより、3つの中間電極を備えた構成であっても短時間にグロー放電を安定して生じさせることができ、アーク放電に移行させることができる。 - 特許庁

To provide a substrate transmitting device which controls the positional shift of the substrates without damaging the substrates, a burning system, and manufacturing method of plasma display panel.例文帳に追加

焼成炉内での基板の位置ずれを抑制し、基板の破損がない基板搬送装置と焼成装置およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

As a result, since no change is produced in the temperature distribution of the optical bench 2, even before and after the plasma flame 3 is ignited, the problem due to the positional shift of the optical element is solved and consumption of argon gas can be reduced also.例文帳に追加

結果として、プラズマ炎3の点火前も点火後も光学ベンチ2の温度分布に変化が生じないため、光学素子の位置ずれのよる問題が解決し、アルゴンガスの消耗も低減できる。 - 特許庁

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「plasma shift」の意味に関連した用語

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