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plated filmsとは 意味・読み方・使い方
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「plated films」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 56件
On the surfaces of the first plated films 22a, 22b, second plated films 24a, 24b containing Sn are formed as Sn-plated films defining the outermost layers.例文帳に追加
第1のめっき皮膜22a、22bの表面には、最外層となるSnめっき皮膜としてSnを含む第2のめっき皮膜24a、24bが形成される。 - 特許庁
On the surfaces of the electrodes 5, plated surface films composed of plated nickel films having thicknesses of ≥0.5 μm are formed.例文帳に追加
電極にはニッケルメッキ膜からなる表面メッキ膜が0.5μm以上の厚さに形成されている。 - 特許庁
Both plated films 3 and 4 are formed by the electroplating method.例文帳に追加
これら両メッキ膜3,4は電気メッキ法によって形成されている。 - 特許庁
The plated layer is formed by stacked plated films of a tensile-stress plated layer 3a and a compressive-stress plated layer 3b, to constitute an underlayer 3 or a precious metal layer 4.例文帳に追加
引張り応力めっき層3aと、圧縮応力めっき層3bの積層めっき膜によりめっき層を形成して、下地層3あるいは貴金属めっき層4とする。 - 特許庁
To provide a method for forming continuously plural combinations of plated films with a single transportation rail and forming the plated films with a high quality and uniform thickness on a lead frame and a surface of the lead.例文帳に追加
1本の搬送レールで連続して複数の組み合わせのメッキ膜を形成し、かつ、リードフレームおよびリード表面には、高品質で膜厚が均一なメッキ膜が形成されることが要望されている。 - 特許庁
The soft magnetic films 19, 21 are plated films consisting of Co, Fe, N, and O only and saturation flux density Bs is 2.39 T or more.例文帳に追加
本発明の軟磁性膜19,21は、CoとFeとNとOの元素のみからなるメッキ膜であり、飽和磁束密度Bsが2.39T以上である。 - 特許庁
The plated films 6 is separated from the mandrel 5 and cut into a prescribed width Wd to manufacture the belt.例文帳に追加
このめっき膜6を、マンドレル5から分離し、所定の幅Wdで裁断して無端ベルト1を作製する。 - 特許庁
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「plated films」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 56件
Then the exposed part of the substrate 21 where the photo resist films 25a and 25b are not formed is metal-plated.例文帳に追加
次にフォトレジスト膜25a、25bが形成されていない基板21の露出面に対して金属めっきを行なう。 - 特許庁
To obtain Sn series and Al series plated steel sheets coated with Cr-free post-treated films excellent in lubricity.例文帳に追加
潤滑性に優れるCrを含まない後処理皮膜を被覆したSn系およびAl系めっき鋼板を得る。 - 特許庁
Thus, several combinations of plated films can be formed continuously on an electro- conductive member with a single transportation rail.例文帳に追加
そのことにより、1本の搬送レールで連続して導電部材21に複数の組み合わせのメッキ膜を形成することができる。 - 特許庁
This substrate 1 for wiring board is constituted of a carbonaceous substrate 2, coating polyimide films 3 formed on both surfaces of the substrate 2, and plated metal layers 4 formed on the films 3.例文帳に追加
炭素質基板2と、前記炭素質基板2に設けられたポリイミド塗膜3と、前記ポリイミド塗膜3に設けられためっきによる金属層4とから配線板用基板1を形成する。 - 特許庁
This results in plated films 17, 18 having slits 19, 20 formed therein which extend in a laminated direction at positions of the notches 15, 16.例文帳に追加
それによって、めっき膜17,18には、切込み15,16の位置において積層方向に延びるスリット19,20が形成される。 - 特許庁
To provide an electroplating device where, in the case surface treatment is performed to the objects to be plated by dipping the same into a liquid bath, satisfactory plating films, particularly, plating films having uniform plating thickness are formed.例文帳に追加
液槽に浸漬することにより、被めっき物に表面処理を施す場合に、良好なめっき被膜、特に均一的なめっき厚を有するめっき被膜を形成する電解めっき装置を提供する。 - 特許庁
The chip capacitors 20 are electrically connected at first and second electrodes 21, 22 coated with copper plating films by means of copper-plated via holes 46.例文帳に追加
チップコンデンサ20は、銅めっき膜を被覆した第1、第2電極21,22に銅めっきによりなるバイアホール46で電気的接続を取ってある。 - 特許庁
The electrodes 14a and 14b comprise baked outer electrodes 16a and 16a and plated films 18a and 18b formed on the electrodes 16a and 16b, respectively.例文帳に追加
端子電極14a,14bは、焼き付けられた外部電極16a,16bと、その上に形成されためっき皮膜18a,18bとを含む。 - 特許庁
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