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reversal patternとは 意味・読み方・使い方
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「reversal pattern」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
The space pattern 2S of the second alignment mark 2 is a reversal pattern of the line pattern 1L of the first alignment mark 1.例文帳に追加
第2アライメントマーク2のスペースパターン2Sは、第1アライメントマーク1のラインパターン1Lの反転パターンとなっている。 - 特許庁
The scroll direction of the pattern is changed at the timing when a displayed pattern becomes the reversal starting pattern.例文帳に追加
そして、表示されている図柄が逆転開始図柄になったタイミングで図柄のスクロール方向を切換える。 - 特許庁
Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.例文帳に追加
ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの2種類を用いるようにする。 - 特許庁
The heat-resistant fine particle layer is desirably formed to be a prescribed pattern, and this pattern and its reversal pattern can form a getter film.例文帳に追加
耐熱性微粒子層は所定のパターンで形成することが望ましく、このパターンと反転するパターンでゲッタ膜を形成することができる。 - 特許庁
Each stage function of a data agitation section is provided with a pair of the pattern of a mask (a) and the mask pattern which is a reversal of its bit.例文帳に追加
データ攪拌部1の各段関数5において、マスクaのパターンとそのビット反転のマスクパターンのペアが設けられる。 - 特許庁
Concretely after a reversal pattern 22 is formed on the surface of the substrate 10, the reversal pattern 22 is cut in ultra high precision with a single crystal diamond bit 30 to form a prism portion 23.例文帳に追加
具体的には、基板10の表面に反転型22を形成した後、単結晶ダイヤモンドバイト30で反転型22を超精密切削加工を行い、プリズム部23を形成する。 - 特許庁
The device for recording a hologram includes a spatial light modulator 18 which displays, through the function of a pattern generator 16, a partial reversal pattern (bright and dark image) obtained by partially reversing a data pattern, and generates a signal light S based on the partial reversal pattern.例文帳に追加
ホログラム記録装置において、空間光変調器18は、パターン生成器16の機能により、データパターンを部分的に反転させた部分反転パターン(明暗画像)を表示し、この部分反転パターンにより信号光Sを生成する。 - 特許庁
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「reversal pattern」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
A resist pattern 33 with a period in accordance with a period of polarization reversal is formed on a secondary nonlinear optical crystal 31.例文帳に追加
2次非線形光学結晶31に、分極反転の周期に一致するレジストパターン33を形成する。 - 特許庁
Using the first reticule 101 and the second reticule 103, the main pattern and the reversal pattern are stacked in the same region on a sensitized board for exposure and transfer.例文帳に追加
第1のレチクル101と第2のレチクル103を用いて、主パターンと反転パターンを、感応基板上の同一領域に重ねて転写露光する。 - 特許庁
A left and right reversal pattern 11 of a required pattern is printed with a toner 13 on a foil layer 122 of a hot stamping foil 12 by using a personal computer 1 and a laser printer 2.例文帳に追加
パーソナル・コンピュータ1およびレーザプリンタ2を用いて、ホットスタンプ箔12の箔層122に、所望パターンの左右反転パターン11をトナー13で印刷する。 - 特許庁
A diffusion pattern causing reversal of brightness and darkness and a diffusion pattern which does not cause reversal of brightness and darkness are formed alternately along the longitudinal direction of a lamp on the lower face of a diffusion plate that is located at the upper part of a plurality of lamps in the backlight assembly.例文帳に追加
バックライトアセンブリにおいて、複数のランプの上部に位置する拡散板の下部面には、明暗反転が生じる拡散パターンと、明暗反転が生じない拡散パターンとがランプの長手方向に沿って交互に形成される。 - 特許庁
The reversal pattern of a mold having the reversal pattern of the fine pattern is coated with a solution, which is prepared by dissolving a fluorine-containing polymer (A) not substantially containing a reactive functional group (x) in a solvent, and the solvent is removed to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加
微細パターンの反転パターンを有するモールド4の該パターン上に、反応性官能基(x)を実質的に有さない含フッ素重合体(A)を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、溶媒を除去して、モールド4の表面に含フッ素重合体層1を形成する。 - 特許庁
The two patterns are combined, to which a reversal pattern in the relation of reversed positive/negative images is formed.例文帳に追加
これら2つのパターンを組み合わせた後、このパターンに対して、ポジ・ネガ反転の関係を持つ反転パターンを作成する。 - 特許庁
To provide a patterning process in which a closely packed dot pattern and an isolated dot pattern are formed in one exposure using a positive resist film and which patterns are used to form a hole pattern by positive/negative reversal.例文帳に追加
ポジ型レジスト膜を用い、1回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A reversed pattern number is renewed for every starting winning by a reversed pattern number counter, and when generation of a reach (ready- for-winning) condition is decided, a reversal starting pattern is determined based on the reversed pattern number at the time and an expected stopped pattern (S73-S77).例文帳に追加
逆転図柄数カウンタにより始動入賞毎に逆転図柄数を更新し、リーチ状態を発生させることが決定された場合に、その時の逆転図柄数と予定停止図柄とに基づいて逆転開始図柄を決定する(S73〜S77)。 - 特許庁
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