semiconductor Sとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 semiconductorの複数形。半導体
「semiconductor S」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 494件
In this method, an insulating layer GI is formed on the surface of a semiconductor substrate S.例文帳に追加
半導体基板Sの表面に、絶縁層GIを形成する。 - 特許庁
In the semiconductor substrate S, a couple of holes 17 are formed from its top surface Sa at right angles to the semiconductor substrate S.例文帳に追加
半導体基板Sには、その表面Saから半導体基板Sに垂直に一対の孔17を形成した。 - 特許庁
The electrode 2 of the semiconductor device is formed on the surface S of the semiconductor substrate 1 in the semiconductor module.例文帳に追加
半導体モジュールにおける半導体基板1の表面Sに半導体素子の電極2が形成される。 - 特許庁
The equation (1) is w=S/p and equation (2) is α=δ×p/S^2, where S is the irradiation area of one semiconductor laser device, p is an interval between the adjacent semiconductor laser devices, and δ is the amount of the displacement of the peak position of the light quantity.例文帳に追加
w=S/p (1) α=δ×p/S^2(2) 但し、S:1つの半導体レーザ装置の照射領域 p:相隣半導体レーザ装置間の間隔 δ:光量ピーク位置のずれ量 - 特許庁
A semiconductor substrate 1 is prepared, wherein the electrode 2a of the semiconductor device 2 and a pattern portion 7b are provided on a surface S.例文帳に追加
表面Sに半導体素子2の電極2aとパターン部7bとを設けた半導体基板1を用意する。 - 特許庁
The processing equipment comprises a transfer 1 which includes a plurality of suction nozzles 10 for holding a semiconductor element S and transfers the semiconductor element S by intermittent movement of the suction nozzles 10, and a processor 2 which includes processing mechanisms 21 and 22 for conducting processing on the semiconductor element S.例文帳に追加
半導体素子Sを保持する吸着ノズル10を複数備え、吸着ノズル10に間欠移動させて搬送する搬送部1と、半導体素子Sに工程処理を施す処理機構21,22を備えた処理部2とを有する。 - 特許庁
Inverse sputtering is executed to a forming face S of the semiconductor substrate 1 in order to remove a natural oxide film (not illustrated in Figure) formed on the forming face S of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加
まず、半導体基板1の形成面Sに形成された図示しない自然酸化膜を除去するために、半導体基板1の形成面Sの逆スパッタリングを行う。 - 特許庁
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「semiconductor S」の部分一致の例文検索結果
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The peeling means 16 is provided so that the protection sheet S may be peeled from the semiconductor wafer W while the sticking face of the protection sheet S of the semiconductor wafer W is directed downward.例文帳に追加
剥離手段16は、半導体ウエハWの保護シートS貼付面を下向きとした状態で、保護シートSを半導体ウエハWから剥離可能に設けられている。 - 特許庁
In the semiconductor device of the BGA package structure, there is no solder resist layer at a disconnection preventing region 148, centered at a position S immediately below the outer ridge of the semiconductor chip.例文帳に追加
BGAパッケージ構造の半導体装置において、半導体チップの外縁直下の位置Sを中心とした断線防止領域148には、ソルダーレジスト層が不存在である。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, TESTING METHOD FOR THE SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, AND PROBE CARD USED FOR BURN-IN STRESS AND D/S例文帳に追加
半導体集積回路装置、半導体集積回路装置のテスト方法、バーインストレス&D/Sに用いられるプローブカード - 特許庁
The semiconductor elements S, S' are bonded to the insulating substrate P such that two or more semiconductor elements of the same kind are not mounted on the one insulating substrate P, and the area A of a surface of the second metal plate M2 which is opposed to the heat sink B is set to be 1 to 2.5 times as large as the overall area At of the semiconductor elements S, S'.例文帳に追加
半導体素子S,S′は、一枚の絶縁基板Pに対し同種の半導体素子が2個以上は搭載されないようにして、絶縁基板Pに接合され、第2金属板M2の放熱板Bとの対向面の面積Aが、半導体素子S,S′の総面積Atの1〜2.5倍に設定される。 - 特許庁
The underspace below a first bonding wire 7 connected to the first semiconductor element 5 is filled with insulative resin 11 having a viscosity ranging from 1 Pa s or more to less than 1000 Pa s under filled-up conditions or with light-hardening insulative resin.例文帳に追加
第1の半導体素子5に接続された第1のボンディングワイヤ7の下部空間には、充填時粘度が1Pa・s以上1000Pa・s未満の絶縁性樹脂11、もしくは光硬化型絶縁性樹脂が充填されている。 - 特許庁
The semiconductor storage device includes a semiconductor base S, a cell transistor T having a pair of source/drain diffusion layers 11 formed on the semiconductor base S, and a ferroelectric capacitor C connected to the cell transistor T.例文帳に追加
半導体記憶装置は、半導体基板Sと、半導体基板S上に形成された一対のソース/ドレイン拡散層11を有するセルトランジスタTと、セルトランジスタTに接続された強誘電体キャパシタCとを備える。 - 特許庁
A sheet cutting device 10 that cuts the sheet S whose size exceeds the circumference of a semiconductor wafer W with a cutter blade 12 along the circumference of the semiconductor wafer W after affixing the sheet S to the semiconductor wafer W.例文帳に追加
半導体ウエハWの外周からはみ出る大きさのシートSを半導体ウエハWに貼付した後、当該半導体ウエハWの外周に沿ってカッター刃12で切断するシート切断装置10である。 - 特許庁
A photoelectric conversion element 100 comprises a substrate 11 having a flat surface S, a plurality of semiconductor nanowires 2 which are arrayed on the flat surface S and extend in a tapered shape from the flat surface S, and a semiconductor layer 30 which fills gaps between the plurality of semiconductor nanowires 2 and has a carrier type different from that of the semiconductor nanowires 2.例文帳に追加
平坦面Sを有する基板11と、平坦面S上に配列され、平坦面Sから先細り状に延びる複数の半導体ナノワイヤー2と、複数の半導体ナノワイヤー2同士の間隙を充填し、半導体ナノワイヤー2とは異なるキャリアタイプの半導体層30と、を備える光電変換素子100。 - 特許庁
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