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silicon thin filmsとは 意味・読み方・使い方
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「silicon thin films」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 77件
The thin films of any among insulating films constituting TFTs (Thin-Film Transistors), silicon films and conductive films are formed by coating application of liquid and heat treatment.例文帳に追加
ＴＦＴを構成する絶縁膜、シリコン膜及び導電膜のうちのいずれかの薄膜を液体を塗布し熱処理することにより形成する。 - 特許庁
Thus, a thin film F1 having a silicon single crystal thin films 11 and 41 laminated is obtained.例文帳に追加
これにより、シリコン単結晶薄膜１１、４１が積層された薄膜Ｆ１を得る。 - 特許庁
A dielectric multilayered film 17 having a multilayered structure of high refractive index films (silicon films) and low refractive index thin films (silicon oxide films) is formed instead of a black matrix on a TFT device 7.例文帳に追加
ブラックマトリクスの代わりに高屈折率薄膜（シリコン膜）と低屈折率薄膜（シリコン酸化膜）の多層構造の誘電体多層膜１７をＴＦＴ素子７上部に形成する。 - 特許庁
A thin etching stopper film 18 (silicon nitride film) and an inter-layer insulating film 19 (silicon oxide film) are formed on oxide barrier films 16 and inter-layer insulating films 17 (silicon oxide films), and then, openings larger than the oxide barrier films are formed by dry etching immediately above the oxide barrier films 16.例文帳に追加
酸素バリア膜１６、層間絶縁膜１７（酸化シリコン膜）上に、薄いエッチングストッパー膜１８（窒化シリコン膜）、層間絶縁膜１９（酸化シリコン膜）を形成し、酸素バリア膜１６の直上にそれより大きい開口部をドライエッチングにより形成する。 - 特許庁
Four metallic layers are provided on the silicon substrate 109 and BCB thin films 106.例文帳に追加
シリコン基板１０９及びＢＣＢ薄膜１０６上には４層の金属層が設けられている。 - 特許庁
The method further comprises the steps of then, as shown in Fig. (D), forming metal thin films 60 and 70 on the gate insulation film 50, irradiating the films with a laser beam 80 from above to crystallize the amorphous silicon thin film 40 to a polycrystalline silicon thin film 90 and a single-crystal silicon thin film 100.例文帳に追加
つぎに、図１（Ｄ）に示すように、ゲート絶縁膜５０の上に金属薄膜６０および７０を形成し、その上からレーザー光８０を照射して非晶質シリコン薄膜４０を結晶化させ、多結晶シリコン薄膜９０および単結晶シリコン薄膜１００とする。 - 特許庁
To reduce variations of characteristics of two kinds of thin-film transistors having channel-length directions made orthogonal to each other which are so formed of polysilicon thin films as to change amorphous silicon films into the polysilicon films crystallized by the scanning projection of a CW laser on the amorphous silicon films, in an active-matrix type liquid crystal display.例文帳に追加
アクティブマトリクス型液晶表示装置において、アモルファスシリコン薄膜をＣＷレーザのスキャン照射により結晶化させてなるポリシリコン薄膜により形成された、チャネル長方向が互いに直交する２種類の薄膜トランジスタの特性のバラツキを小さくする。 - 特許庁
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「silicon thin films」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 77件
Amorphous thin silicon films can be formed simultaneously on the opposite sides of a glass substrate by depositing amorphous thin silicon films on the glass substrate by low pressure (LP)-CVD method.例文帳に追加
減圧(LP)-CVD法により非晶質シリコン薄膜をガラス基板上に堆積することによりガラス基板両面に一度に非晶質シリコン薄膜を形成することができる。 - 特許庁
A multilayer optical element 1 is formed by alternately stacking silicon oxide thin films and niobium pentoxide thin films to form a multilayer structure consisting usually of 50 to 100 layers and has a total thickness of 20 to 30 μm.例文帳に追加
多層膜光学素子１は、酸化ケイ素薄膜と五酸化ニオブ薄膜を交互に積層（通常５０〜１００層）して形成されており、全体として２０〜３０μｍの厚さとなっている。 - 特許庁
As a photovoltaic element used is a photovoltaic element including as a component a laminate wherein an n-type impurity semiconductor silicon thin film and a p-type impurity semiconductor silicon thin film are bonded via an intrinsic semiconductor silicon thin film, and at least one of those silicon thin films is a silicon thin film containing chlorine atoms at a concentration of, for example, 0.005 to 5 atom.%.例文帳に追加
光起電力素子として、ｎ型不純物半導体であるシリコン系薄膜とｐ型不純物半導体であるシリコン系薄膜とが真性半導体であるシリコン系薄膜を介して接合され、且つこれらシリコン系薄膜の少なくとも１つが例えば０．００５原子％〜５原子％の濃度の塩素原子を含有するシリコン系薄膜である積層体を構成要素とする光起電力素子を使用する。 - 特許庁
This wiring for display device is formed in the upper part of a silicon or glass substrate and includes thin films consisting of silver or silver alloy.例文帳に追加
ケイ素またはガラス基板上部に形成されており、銀または銀合金からなる薄膜を含む表示装置用配線。 - 特許庁
The gate insulating film 4 comprises silicon nitride films 4a and 4b, so neither electric characteristic nor reliability varies in the thin film transistor 1c.例文帳に追加
ゲート絶縁層４は、シリコン窒化膜４ａ、４ｂであるので、薄膜トランジスタ１ｃの電気特性や信頼性が変化しない。 - 特許庁
To crystalize amorphous silicon thin films formed on a substrate to be processed according to a specified pattern.例文帳に追加
被処理基板上に形成されたアモルファスシリコン薄膜を、所定のパターンに従って結晶化することができるレーザアニール装置を提供する。 - 特許庁
In a thin film transistor, its foundational film, its gate insulation film, and its interlayer insulation film are formed out of silicon oxide films.例文帳に追加
薄膜トランジスタにおいて、下地膜、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜を酸化珪素膜で形成する。 - 特許庁
This minute structural body is formed by using silicon layers made of thin films on an insulating substrate.例文帳に追加
本発明は、絶縁基板上に薄膜でなるシリコン層を用いて微小構造体を形成することを特徴とする。 - 特許庁
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