transverse defectとは 意味・読み方・使い方

The defect as the object is changed, and, with the registered rectangular region as the object, in the case the rectangular region comprises the defect, the longitudinal and transverse cutter lines are set so as to evade the defect.例文帳に追加

対象となる欠点を変更し、登録された矩形領域を対象として、当該矩形領域がその欠点を含む場合には、この欠点を避けるように縦および横のカッター線を設定する。 - 特許庁

With a defect located in front of the flowing direction of a ribbon-like glass sheet, as a starting object, successively, cutter lines in a longitudinal direction and a transverse direction are set so as to evade each defect.例文帳に追加

リボン状ガラス板の流れ方向の前方に位置する欠点から順次対象として、各欠点を避けるように縦方向および横方向のカッター線を設定する。 - 特許庁

To manufacture a gallium nitride-based compound semiconductor substrate which eliminates a device process such as a transverse-direction growth process or the like to the substrate and whose defect is low.例文帳に追加

基板への横方向成長等のデバイス工程を無くした低欠陥である窒化ガリウム系化合物半導体基板を製造できるようにする。 - 特許庁

Image data of longitudinal or transverse plural adjacent lines is read out from the image memory part 20 as a first image data, average data of a data level in a direction orthogonal to a reading-out direction is calculated, and a line-shaped defect in an image is detected by a defect detecting part 24.例文帳に追加

画像メモリ部２０から、第１の画像データとして縦方向あるいは横方向に隣接する複数ライン分の画像データを読み出し、読み出し方向と直交する方向のデータレベルの平均値を算出し、ライン状の画像欠陥を欠陥検出部２４で検出する。 - 特許庁

The formed boule is of microelectronics device quality, such as having a transverse dimension greater than 1 cm, a length greater than 1 mm, and a top surface defect density of less than 10^7 defects per 1 cm^2.例文帳に追加

形成されるブールは、マイクロエレクトロニクス・デバイス品質を含み、例えば、１ｃｍより大きい断面寸法、１ｍｍを超える長さ、および１ｃｍ^2あたり１０^7未満欠陥の上面欠陥密度を有する。 - 特許庁

By employing the method of forming the shoulder under the condition of applying a transverse magnetic field at predetermined intensity, the occurrence of dislocation in the step of forming the shoulder can be suppressed and a silicon single crystal having no defect can be grown with high production efficiency.例文帳に追加

この肩形成方法は、所定強さの横磁場を印加した条件下で適用すれば、肩形成工程での有転位化を抑制し、欠陥のないシリコン単結晶を高い生産効率で育成することができる。 - 特許庁

The screen displaying/defect determining apparatus 23 identifies the generated thickness reduction from a Rayleigh wave echo component and finds the thickness reduction depth from a relational expression among an appearance location of a transverse reflection wave echo in the thickness reduction section, a previously-found reflection strength, and a distance.例文帳に追加

画面表示及び欠陥判別装置２３は、レイリー波エコー成分から減肉の発生を識別し、減肉部の横波反射波エコーの出現位置と予め求めた反射強度および距離の関係式から減肉深さを求める。 - 特許庁