v formationとは 意味・読み方・使い方

(v) in cases where a branch office is established after the formation of a Company, within three weeks from the day of establishment of the branch office.発音を聞く 例文帳に追加

五　会社の成立後に支店を設けた場合　支店を設けた日から三週間以内 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In the V-shaped trench formation step, a V-shaped tool 4 that has more rigidity than the thin film 2 and at least the cross section of which has a V shape is pressed against the thin film to form a V-shaped trench 3 not reaching the substrate 1 and having at least the cross section of V shape in the thin film 2.例文帳に追加

Ｖ字溝形成過程は、薄膜２よりも硬性を有する少なくとも断面がＶ字形状のＶ字工具４を薄膜に押圧させ、基板１まで達さない少なくとも断面がＶ字形状のＶ字溝３を薄膜２に形成する。 - 特許庁

To obtain a method of growing a crystal, which prevents reduction in crystallizability of the crystal and formation of a distortion modified layer due to a group V desorption or a group V substitution, in a method of manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

Ｖ族脱離、あるいはＶ族置換に起因する結晶性の低下、歪変成層の形成を防ぐ結晶の成長方法を得る。 - 特許庁

The overcoat layer 42 is provided in the display area V of the color filter substrate 5 and an area beyond a formation portion of the seal material 4 from the display area V.例文帳に追加

オーバーコート層４２はカラーフィルタ基板５の表示領域Ｖと該表示領域Ｖからシール材４の形成部を越えた領域に設けられている。 - 特許庁

A microfabrication method for a substrate comprises a thin film formation step, a V-shaped trench formation step, a thin film etching step, a substrate etching step, and a thin film elimination step.例文帳に追加

基板の微細加工方法は、薄膜形成過程と、Ｖ字溝形成過程と、薄膜エッチング過程と、基板エッチング過程と、薄膜除去過程と、からなる。 - 特許庁

A V-shaped groove is provided to the element forming layer 50 through anisotropic etching, and metal is deposited for the formation of a gate 30.例文帳に追加

異方性エッチングで素子形成層５０のＶ字型の溝を作り、ゲート３０のための金属を堆積する。 - 特許庁

The base plate S1 for mounting optical parts is characterized by the formation of a V-groove 2 for loading the optical waveguide body F on the plate 1 and the formation of a through-hole 3 for determining the end position of the optical waveguide body F at one end of the V-groove 2.例文帳に追加

基板１に、光導波体Ｆを搭載するＶ溝２と、該Ｖ溝２の一端部に光導波体Fの端部位置を定めるための貫通孔３が形成されていることを特徴とする光部品実装用基板S1とする。 - 特許庁

A constant current control is performed by a setting current value before image formation and a detected voltage value V at the time is recorded.例文帳に追加

画像形成直前に設定電流値で定電流制御を行ってそのときの検知電圧値Ｖを記録。 - 特許庁