violet layerとは 意味・読み方・使い方

The insulating layer 32 is stacked on an n-side pad electrode 10b of the bluish violet semiconductor laser element 10, and a conductive layer 32a is formed on the insulating layer 32.例文帳に追加

青紫色半導体レーザ素子１０のｎ側パッド電極１０ｂ上に絶縁層３２が積層され、絶縁層３２上には導電層３２ａが形成されている。 - 特許庁

A thin film layer 15 having ultra-violet ray shielding action is formed on light-incident surface of the third lens 9.例文帳に追加

第３レンズ９の光入射面に、紫外線の遮断作用をもつ薄膜層１５が形成されている。 - 特許庁

The servo layer may include an organic material wherein the indices are created with an infrared or ultra violet light source.例文帳に追加

サーボ層は、指標が赤外線または紫外線光源を用いて生成される有機材料を含んでいてもよい。 - 特許庁

The bluish violet semiconductor laser element 1 is manufactured by forming a semiconductor layer on a GaN substrate.例文帳に追加

青紫色半導体レーザ素子１はＧａＮ基板上に半導体層を形成することにより作製される。 - 特許庁

An insulating layer 32 is provided on a pad electrode 10b on the n side of the bluish violet semiconductor laser element 10.例文帳に追加

青紫色半導体レーザ素子１０のｎ側パッド電極１０ｂ上に絶縁層３２が設けられている。 - 特許庁

Or, the self oscillation type blue/blue violet semiconductor laser or the high power blue/blue violet semiconductor laser containing the n-type clad layer, the active layer, and the p-type clad layer on the GaN substrate in which Si, O, Se, or Ge is doped comprises AlGaInN based compound, wherein a dopant concentration is not higher than 2×10^18 cm^-3.例文帳に追加

あるいは、Si、またはＯ、またはSe、またはGeをドーピングしたGaN基板上にn型クラッド層と活性層とp型クラッド層を含む自励発振型青／青紫色半導体レーザ又は高出力青／青紫色半導体レーザであって、ドーパント濃度が2×10^18cm^-3以下であり、AlGaInN系化合物から成る。 - 特許庁

The print film layer 3 is formed by ejecting the UV-curing ink through inkjet printing and curing the UV-curing ink through radiation of ultra-violet (UV) ray.例文帳に追加

印刷皮膜層３は、インクジェット印刷によりＵＶ硬化性インクを噴射し、ＵＶを照射して硬化させて形成する。 - 特許庁

This ultra-violet ray cured film is formed by irradiating an ultra-violet ray having a maximum radiation wave length of not greater than 315 nm on a cured layer material comprising a silicone alkoxide compound and a photo-catalyzing semi-conductor compound.例文帳に追加

シリコンアルコキシド系化合物および光触媒性半導体化合物を含んでなる硬化層原料に、最大放射波長が３１５ｎｍ以下のＵＶを照射することにより形成される紫外線硬化層。 - 特許庁