wavelength modificationとは 意味・読み方・使い方

LATTICE MODIFICATION TYPE PHOTONIC CRYSTAL WAVELENGTH FILTER, ARRAY TYPE WAVELENGTH MULTIPLEXER/DEMULTIPLEXER USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THEM例文帳に追加

格子変調型フォトニック結晶波長フィルタ及びこれを用いたアレイ型波長合分波器並びにこれらの製造方法 - 特許庁

To improve detection sensitivity and wavelength resolution, by simple modification in an existing wavelength dispersive X-ray analyzer using a Johansson type X-ray spectroscope.例文帳に追加

ヨハンソン型Ｘ線分光器を用いた既存の波長分散型Ｘ線分析装置に対し、簡単な改造で以て検出感度及び波長分解能を改善させる。 - 特許庁

In a ceramic green sheet containing a glass powder for laser processing, metal ions having an absorption band in wavelength region of the laser beam are added to the glass powder as modification ions.例文帳に追加

ガラス粉末を含むレーザ加工用のセラミックグリーンシートにおいて、該ガラス粉末に、レーザ光の有する波長領域に吸収帯を有する金属イオンを修飾イオンとして添加する。 - 特許庁

To provide a manufacturing technology of a semiconductor device using a defective modification technology of a reflective mask which lets extreme ultraviolet (EUV) light having the wavelength of near 13.5 nm be an exposure light source.例文帳に追加

波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing technique of a semiconductor integrated circuit apparatus utilizing a defect modification technique of a reflection-type mask which uses an extreme ultra violet light (EUV) with a wavelength near 13.5 nm as an exposure light source.例文帳に追加

波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a new modification method for glass having UV cut off performance by which the adverse effect of an alkali component can be decreased while keeping excellent transmission characteristics with sharp cut off property against UV rays at specified wavelength or shorter.例文帳に追加

紫外線遮断性能を有するガラスについて、特定波長以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過特性を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減することができる新規な改質方法を提供する。 - 特許庁

In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.例文帳に追加

光及び／又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式Ｉ - 特許庁