技術的限界の英語

本発明は、限界解像度に近いサイズの矩形状の微細パターンであっても円形になり難く、目的の形状に合致した微細パターンを型くずれすることなく形成できるパターン形成技術の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a pattern forming technique capable of preventing a rectangular minute pattern having a size approximate to the limit resolution from easily becoming round, and forming minute pattern matching a target shape without causing shape collapse. - 特許庁

標的細菌が特定の検出技術の検出限界未満の低濃度である場合に同標的細菌が溶液中に存在しているかどうかを決定する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for determining if a target bacterium is present in a liquid solution when the target bacterium is or may be present in a low concentration that is at or near the detection limit for a particular detection technology. - 特許庁

水の凝集処理において、従来の凝集分離法の技術的限界を打破し、凝集スラッジを価値の高い資源として有効に利用する凝集汚泥の利用方法を提供する。例文帳に追加

To provide a flocculated sludge utilizing method breaking through the technical limit of a conventional flocculation separation method in the flocculation treatment of water and utilizing flocculated sludge as resources high in value. - 特許庁

超解像材料層に光学的開口を形成する方法を用いずに、記録情報を再生する光学ピックアップの解像限界以下の周期で記録された高密度情報を記録再生する技術の提供。例文帳に追加

To provide technology for recording and reproducing high density information recorded in a period equal to or shorter than a resolution limit of an optical pickup reproducing recorded information without using a method for forming an optical aperture in a super resolution material layer. - 特許庁

従来の技術的限界を克服して、新しい光−磁気材料として有用な、非線形光学活性強磁性材料を提供し、また、その製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a non-linear optically active ferromagnetic material useful as a novel magnetooptical material by overcoming a conventional technical limit and to provide its manufacturing method. - 特許庁

イメージセンサで使用することができ、従来技術の限界と短所に起因する問題を根本的に克服できる信号発生器と信号発生方法を提供する。例文帳に追加

To provide a signal generator and method, which is available for an image sensor and capable of fundamentally overcoming the problems caused by the limitations and weaknesses of the prior art. - 特許庁

本発明の目的は、リソグラフィー技術の限界を破ることのできる、微細な細線構造を備えた集積回路装置、特に集積記憶装置の製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an integrated circuit device, in particular, an integrated memory device including a fine wire structure capable of pushing past the limits of lithographic technology. - 特許庁

(e) 「粉塵」および「ミスト」の数値については、今後OECD試験ガイドラインが、吸入可能な形態での粉塵およびミストの発生、維持および濃度測定の技術的限界のために変更された場合、これらに適合できるよう見直しを行うこと。例文帳に追加

(e) The values for dusts and mists should be reviewed to adapt to any future changes to OECD Test Guidelines made due to technical limitations in generating, maintaining and measuring concentrations of dusts and mists in respirable forms. - 経済産業省