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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "ほごまく"に関連した英語例文

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"ほごまく"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6058



例文

半導体層の表面に絶縁層を形成し、前記絶縁層に複数のコンタクトホールを形成し、前記コンタクトホールが形成された前記絶縁層の表面に通孔を有する保護膜を形成し、前記通孔から露出している前記絶縁層を貫通させて前記半導体層に不純物を注入することにより複数の前記コンタクトホールの間にピエゾ抵抗部を形成する、ことを含むMEMS製造方法。例文帳に追加

A method for manufacturing the MEMS includes the steps of: forming an insulating layer on the surface of a semiconductor layer; forming a plurality of contact holes in the insulating layer; forming a protective film having holes on the surface of the insulating layer with the contact hole formed; and forming the piezoresistive part between the plurality of contact holes by implanting impurities to the semiconductor layer through the insulating layer exposed from the holes. - 特許庁

可撓性の高い、例えばポリイミド樹脂シートを基材とし、基材の片側平面に発熱抵抗体及び個別電極及び信号入力電極及び保護膜を、スパッタリング及びフォトリソ工程等をもちいて成膜及びパタニーングを行い同一平面状に発熱体駆動素子を搭載し、個別電極と信号入力電極と電気的に接合して、駆動素子と電気的接合部位を樹脂接着剤で保護を行い、樹脂および金属等の剛性体、例えば面取りを施した平版に、貼りつけて構成されるサーマルヘッドにする。例文帳に追加

Heater drive elements are mounted on the same plane, the discrete electrodes and the signal input electrodes are bonded electrically, the drive elements and the electrical bonding part are protected with resin adhesive and then it is stuck to a rigid body of resin and metal, e.g. a beveled flat plate, thus constituting a thermal head. - 特許庁

本発明のカラーフィルター用硬化性樹脂溶液組成物は、脂環式エポキシ化合物、平面構造基を有するエポキシ化合物、カチオン性重合開始剤、ポリオール化合物およびオルガノアルコキシシラン類を含有することを特徴とするものであり、また、本発明のカラーフィルターは、かかるカラーフィルター用硬化性樹脂溶液組成物の硬化物で構成された透明保護膜を有することを特徴とするものである。例文帳に追加

The curable resin solution composition for the color filter is characterized by containing an alicyclic epoxy compound, an epoxy compound with a planar structural group, a cationic polymerization initiator, a polyol compound and organoalkoxysilanes and the color filter is characterized by having the transparent protection layer comprising a cured material of the curable resin solution composition for the color filter. - 特許庁

液体噴射ヘッドは、下電極60、圧電体層70、及び上電極80をこの順で積層してなる圧電素子300と、前記圧電素子が一方面側に設けられると共にノズル開口に連通する圧力発生室12が設けられた流路形成基板とを具備し、当該圧電体層70の上面72及び側面71上部に亘って前記上電極80が設けられると共に、当該圧電体層70の当該上電極により覆われていない部分には、保護膜310が設けられている。例文帳に追加

The upper electrode 80 is provided over the upper face 72 and the upper part of the side face 71 of the piezoelectric body layer 70, and a protective film 310 is provided on a part which is not covered by the upper electrode of the piezoelectric body layer 70. - 特許庁

例文

絶縁性基板11上にゲート電極12を配置し、その上にゲート絶縁層13を配置し、更にその上にソース電極15およびドレイン電極14を配置し、その上に有機半導体層16および保護膜17を配置してなる電界効果型有機トランジスタであって、該ゲート絶縁層16が光異方性材料を含有し、その光異方性材料により該有機半導体層が配向している電界効果型有機トランジスタである。例文帳に追加

A gate electrode 12 is disposed on an insulating substrate 11, on which a gate insulating layer 13 is disposed, and further, a source electrode 15 and a drain electrode 14 are disposed on it, on which an organic semiconductor layer 16 and a protective film 17 are arranged. - 特許庁


例文

基板上に形成されたInGaAlP層をその厚みの途中まで選択的にドライエッチングして略ストライプ状の凸状体を形成する工程と、前記凸状体の上面と両側面とに保護膜を形成する工程と、前記凸状体の周囲の前記InGaAlP層をフッ酸を含有する溶液でエッチングすることにより、前記凸状体を含むリッジを形成する工程と、を備えたことを特徴とする光半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

The manufacturing method of an optical semiconductor element comprises the steps of forming a substantially stripe-shaped protruded structure by selectively dry etching an InGaAlP layer formed on a substrate up to the middle of its thickness, forming a protective film on the upper surface and both side surfaces of the protruded structure, and forming the ridge including the protruded structure by etching the InGaAlP layer around the protruded structure with a solution containing fluorinated acid. - 特許庁

上記保護膜形成用樹脂組成物は、(A)エポキシ基を有する重合性不飽和化合物に由来する繰り返し単位を有する重合体、(B)多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物、(C)シリコーン鎖を有する特定の重合体、(D)2個以上のカチオン重合性基を有する化合物ならびに(E)エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物を含有する。例文帳に追加

This resin composition for forming the protective film includes (A) a polymer having a repeating unit derived from a polymerizable unsaturated compound with an epoxy group, (B) at least one compound selected from the group consisting of polycarboxylic anhydride and polycarboxylic acid, (C) a specific polymer having a silicone chain, (D) a compound having at least two cationically polymerizable groups, and (E) an alkoxysilane compound having an epoxy group. - 特許庁

例文

この発明は、低濃度の不純物を含有する低濃度不純物基板に高濃度不純物拡散層を形成し、更にその上層に前記高濃度不純物拡散層より低濃度の不純物を含有するエピタキシャル層を形成した構造とすることで、ロット内で均一な抵抗を有する高濃度不純物層を容易に形成することができ、しかも高濃度不純物層からの不純物の外方拡散を防ぐための保護膜を必要としない半導体基板を得ようとするものである。例文帳に追加

To provide a semiconductor substrate in which a heavily doped layer having a resistance that is uniform within a lot is easily formed, and furthermore any protective film for inhibiting out-diffusion of the impurity from the heavily doped layer is not required. - 特許庁

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