「"ほごまく"」に関連した英語例文の一覧と使い方(121ページ目) - Weblio英語例文検索

ウエハプロセスパッケージ（ＷＰＰ）技術が適用されたメモリであって、複数のメモリセルの上部に形成された配線Ｍ４を覆うように形成された層間膜９と、層間膜９上に形成された層間膜１０と、層間膜１０を覆うように形成された保護膜１２とを有してメモリ１００が構成される。例文帳に追加

A memory 100 with a wafer process package (WPP) technique applied thereto includes an interlayer film 9 formed to cover wiring M4 formed on an upper portion of a plurality of memory cells, an interlayer film 10 formed on the interlayer film 9, and a protective film 12 formed to cover the interlayer film 10. - 特許庁

基板（シリコン基板１、絶縁膜２）の上において、電極材１０，１１を保護膜１２により被覆して構成した一対の電極２０，２１が、当該電極２０，２１が大気に晒される状態で配置され、被水による水の付着に伴う一対の電極２０，２１間の容量の変化を検出する。例文帳に追加

A pair of electrodes 20 and 21 constituted by covering electrode materials 10 and 11 with a protective film 12 are arranged on a substrate (a silicon substrate 1 and an insulating film 2) so as to be exposed to the atmosphere and a change in the capacitance between a pair of the electrodes 20 and 21 accompanied by the adhesion of water is detected. - 特許庁

半導体装置２１は、半導体回路２を有する半導体基板１と、半導体基板上方に設けられ、半導体回路上方に位置する電極パッド３と、半導体基板１上を覆い且つ電極パッド上方に開口部４ａを有する表面保護膜４と、電極パッド３上方に設けられたバンプ５とを備える。例文帳に追加

A semiconductor device 21 has a semiconductor substrate 1, having a semiconductor circuit 2; an electrode pad 3 prepared above the semiconductor substrate and located above the semiconductor circuit; a surface protective film 4 covering the semiconductor substrate 1 and having an opening 4a above the electrode pad; and a bump 5 installed above the electrode pad 3. - 特許庁

フィラメント線材の母線となる発熱用の第１の金属としてのタングステンの表面に、酸化防止用の保護膜としての第２の金属としてのイリジウムをコーティングし、前記第２の金属の被膜の表面に熱電子出用のトリウム酸化物またはイットリウム金属酸化物をコーティングするようにする。例文帳に追加

On the surface of a tungsten as a first metal for generating heat which becomes the bus-bar of filament wire materials, iridium as a second metal as a protective film for preventing oxidation is coated, and on the surface of the coating of the second metal, thorium oxide or yttrium metal oxide for emitting the thermal electrons is coated. - 特許庁

有機発光表示装置用駆動パッケージは、中央領域と周辺領域とを含むベースフィルム、ベースフィルムの中央領域上に装着されている駆動回路チップ、ベースフィルムの周辺領域のうちの少なくとも一部分に形成されている複数の導電体、及び導電体上に形成されていて、導電体の長さ方向の両側端部を露出する保護膜を含む。例文帳に追加

The driving package for the organic luminescence display device comprises; a base film including a center region and a peripheral region; a driving circuit chip mounted on the center region of the base film; a plurality of conductors formed on at least a part of the peripheral region of the base film; and a protection film formed on the conductors; in which both side edge parts to length directions are exposed. - 特許庁

（Ａ）式１及び式２の構成単位から構成され且つグリシジル基を２個以上有するポリマーと、（Ｂ）式３ａまたは式３ｂで表される官能基を２個以上有する化合物とを、水酸基を含有しない溶剤に溶解または分散させた塗工液を、カラーフィルター上に塗工し、硬化させて保護膜を形成する。例文帳に追加

A coating liquid prepared by dissolving or dispersing (A) a polymer, comprising constitutional units of formulae 1 and 3 and having two or more glycidyl groups and (B) a compound, having two or more functional groups of formula 3 (a) or 3 (b) in a solvent which does not contain a hydroxyl group is applied on a color filter and cured to form the objective protective film. - 特許庁

非磁性基体の上に、少なくとも非磁性下地層、グラニュラー磁性層、保護膜、および液体潤滑層を順次有する磁気記録媒体であって、グラニュラー磁性層は、Ｃｏを含有する強磁性結晶粒子と、該強磁性結晶粒子を取り巻く非磁性粒界とから構成され、強磁性結晶粒子が１５原子％以上１７原子％以下のＰｔを含有する。例文帳に追加

In the magnetic recording medium successively having at least a non-magnetic base layer, the granular magnetic layer, a protective film and a liquid lubricating layer on a non-magnetic substrate, the granular magnetic layer is constituted of ferromagnetic grains containing Co and a non-magnetic grain boundary surrounding the ferromagnetic grains and the ferromagnetic grain contains 15 atom % to 17 atom % Pt. - 特許庁

磁気ディスクの保護膜上に潤滑膜として形成するアルコール官能基を有するフロロポリエーテルを主成分とする潤滑剤を、分子内アルコール価数の最大値と最小値の差で示されるアルコール価数分布を０．４８以下、分子内アルコール価数を３．００〜３．９１に制御したフロロポリエーテル潤滑剤で構成する。例文帳に追加

A lubricant mainly containing fluoropolyether having an alcohol functional group formed as a lubricant film on the protective film of a magnetic disk is prepared in such a manner that an alcohol valence distribution indicated by a difference between the maxium and minimum values of an in-molecule alcohol valence is set to 0.48 or lower, and the in-molecule alcohol valence is controlled to be 3.00 to 3.91. - 特許庁

金属を埋め込む必要のある部分の深さ、および、配線幅が大きく異なっていても、大幅なディッシングによる膜厚の減少を防止して平坦な研磨面を与えることで、保護膜の厚みを小さくしても耐久性の劣化を招かずに印字速度を向上させることが可能となる熱インクジェット記録ヘッドの簡便な製造方法を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a simple method for manufacturing a thermal inkjet recording head which can improve a printing speed without causing a degradation of durability, even if making a protective film thickness less by preventing the film thickness from reducing due to a large dishing and giving a flat polished face even if the depth of the part needing the embedding of a metal and the wiring width are largely different. - 特許庁

耐熱性、平坦化性、透明性及び低吸水性などの諸特性を兼ね備えた工業的に経済性上有利な液晶表示素子、有機ＥＬ素子等のディスプレイ材料の電極保護膜、平坦化膜、絶縁膜若しくは光通信システムの光導波路の熱又は光硬化樹脂を提供すること。例文帳に追加

To provide a thermally or optically curable resin that has various properties such as heat resistance, high flatness, transparency and low water absorption, is economically advantageous for industrial use, and can be used for electrode protection films, planarizing films and insulating films for display materials such as liquid crystal display elements and organic EL elements, or for light guides for optical communications systems. - 特許庁

液晶表示装置の黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改善できる理想的な波長分散特性を複数の位相差フィルムの積層により実現した光学補償シート、前記光学補償シートを保護膜として使用した偏光板、前記偏光板を使用した液晶表示装置の提供。例文帳に追加

To provide an optical compensation sheet capable of improving color change when the visual angle is inclined from the front side at the time of the black display of a liquid crystal display device and realizing ideal wavelength dispersion characteristic by lamination of a plurality of optical retardation films, a polarizing plate using the optical compensation sheet as a protective film, and a liquid crystal display device using the polarizing plate. - 特許庁

半導体素子は、半導体基板１００上に順次積層されたトンネル絶縁膜１０１、フローティングゲート用導電膜１０２、誘電体膜１０３、コントロールゲート用導電膜１０４、およびタングステン膜で形成されたゲート電極膜１０５、並びに、ゲート電極膜１０５の側壁に、窒化膜１０７ａおよび酸化膜１０７ｂからなる二重膜で形成された保護膜１０７を含む。例文帳に追加

The semiconductor device 100 includes: a tunnel insulating layer 101; a conductive film 102 for a floating gate; a dielectric layer 103; a conductive film 104 for a control gate; a gate electrode layer 105 formed of a tungsten layer; and a protective layer 107 formed of a dual layer consisting of a nitride layer 107a and an oxide layer 107b, on a sidewall of the gate electrode layer 105. - 特許庁

非磁性支持体１上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層２、カーボン保護膜３が順次形成されて成る磁気記録媒体１０において、不活性ガス雰囲気下で紫外線照射処理を施したカーボン保護層３に、末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテルとアミンとの化合物と、部分フッ化カルボン酸アルキルエステルとを組み合わせた潤滑剤を保持させる。例文帳に追加

In a magnetic recording medium 10 of which a magnetic layer 2 consisting of a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective layer 3 are formed in order on a non magnetic support 1, a lubricant which is combined the compound of a perfluoropolyether having carboxyl group at its end and amine with a partial earboxylic acid alkyl ester fluoride is held on the carbon protective layer 3 treated at an ultraviolet-rays irradiation processing under inert gas atmosphere. - 特許庁

保護すべきタイヤ１の保護外面Ｓに、第１の塗剤１０Ａを用いて形成されこのタイヤのコニシティ及び／又はＲＦＶを含むタイヤ情報を表示するマーク１０と、水洗除去可能な第２の塗剤１１Ａを用いて形成されかつ前記保護外面Ｓに塗布されることにより前記マーク１０を可視化する前記保護膜１１とを設けた。例文帳に追加

A protection outer face S of a tire 1 to be protected is provided with a mark 10 formed using first paint agent 10A to display tire information including conicity and/or RFV of the tire and a protection film 11 formed using removable second paint agent 11A washable by water and to visualize the mark 10 by applying the second paint agent on the protection outer face S. - 特許庁

レーザー加工装置１は、上面に開口部２７を有する筐体２８と、ウェーハＷを保持すると共に筐体２８内部に収容可能な保護膜形成・除去用テーブル２６と、筐体２８内部に設けられたウェーハＷの被加工面を洗浄する洗浄用ノズル３２と、ウェーハＷの洗浄の際に開口部２７を覆うシャッター機構３０とを備える。例文帳に追加

A laser beam machining device 1 includes a casing 28 having an opening part 27 at the top surface, a protective film forming/removing table 26 holding a wafer W and capable of housing inside the casing 28, a washing nozzle 32 for washing a worked surface of the wafer W provided inside the casing 28, and a shutter mechanism 30 for covering the opening part 27 when washing the wafer W. - 特許庁

上述の目的を達成するために、内部および外部バルーン（４）および（６）、並びに排液ホース（８）を用いて人工肛門装置を構成するときに、固定補助器具が、前記排液ホース（８）の外側部に配置され且つ支持チューブ（１５）の端縁部の先端側面が、前記内部バルーンと外部バルーンの間の保護膜（１９）によって被覆される。例文帳に追加

In configuring the colostomy device by using the external and internal balloons (4) and (6) and an exhaust hose (8), a fixed auxiliary implement is arranged at the outside part of the exhaust hose (8) and the edge side surface of the end of a support tube (15) is covered by a protective film (19) between the internal balloon and the external balloon. - 特許庁

次に、リリース必要領域Ｔの中央上方の保護膜２０、配線積層部３０の一部を可動電極５０を露出しない深さに除去することにより、リリース必要領域Ｔ内に所定の間隔を設けて複数配設されたが平面視略矩形状の予備開口部Ｃ１ｂを形成する。例文帳に追加

Next, each of a part of the protective membrane 20 and the wiring laminated part 30 above the center of a release requiring region T is removed up to such a depth that prevents the movable electrode 50 from being exposed to form a plurality of preliminary opening parts C1b arranged at a predetermined interval in the release requiring region T and having a substantially rectangular shape in plan view. - 特許庁

ガラス基板１上に銀鏡面膜２と、銅保護膜３と、裏止め塗膜４とを順次形成してなる鏡であって、裏止め塗膜４が、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、及びクレゾールノボラックエポキシ樹脂から選ばれた１種又は２種以上のエポキシ樹脂を含む粉体塗料組成物を用いた粉体塗装により形成されている鏡である。例文帳に追加

A mirror constituted by forming, in the following order, a silver mirror surface film 2, a copper protective film 3, and a back coating film 4 on a glass substrate 1, wherein the back coating film 4 is formed by means of powder coating using a powder coating composition which includes one kind or two kinds or more epoxy resins selected from bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, and cresol novolac epoxy resins. - 特許庁

親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、２〜８個のメルカプト基を有する化合物（Ｃ）、および光ラジカル重合開始剤（Ｄ）からなる感光性樹脂組成物であり、該感光性樹脂組成物の固形分の重量に基づく（メタ）アクリロイル基濃度が６．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることを特徴とする、カラーフィルター保護膜用の感光性樹脂組成物（Ｑ）である。例文帳に追加

The photosensitive resin composition (Q) for color filter protective films comprises a hydrophilic resin (A), a polyfunctional (meth)acrylate monomer (B), a compound (C) having 2-8 mercapto groups and a photo-radical polymerization initiator (D), wherein the concentration of (meth)acryloyl groups based on the weight of a solid component of the photosensitive resin composition is ≥6.0 mmol/g. - 特許庁

容量絶縁膜（５２０）は、高誘電率を有する誘電体膜（５２１）と、当該誘電体膜（５２１）よりエッチングレートが低い保護膜（５２２）とから構成されているため、容量絶縁膜（５２０）がエッチング処理によってパターニングされた際に、誘電体膜５２１が過剰にエッチングされることがなく、所定の形状にパターニングされる。例文帳に追加

Since a capacitance insulating film (520) is composed of the dielectric film (521) having a high dielectric constant, and a protective film (522) having an etching rate lower than that of the dielectric film (521), when the capacitance insulating film (520) is patterned by an etching process, the dielectric film (521) is never be excessively etched, and is patterned to a prescribed shape. - 特許庁

ローバー５０あるいは磁気ヘッドスライダ１０の浮上面機械研磨後に、導電性スメアを除去するためにイオンビーム照射によるクリーニングを行い、イオンビーム照射により磁気抵抗効果膜５の中間層１４の端面に形成されている損傷領域１４ａを回復させるために酸素曝露を行い、この後、浮上面保護膜７，８を形成し、続いてレール加工を行う。例文帳に追加

Cleaning by ion beam irradiation is performed to eliminate conductive smear after grinding a row bar or a floating plane of a magnetic head slider 10, oxygen exposure is performed to recover a damage region 14a formed at an end plane of an intermediate layer 14 of a magneto-resistance effect film 5 by ion beam irradiation , after that, floating plane protection films 7, 8 are formed, successively, rail processing is performed. - 特許庁

基板１２上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜１３と、この薄膜の上方に成膜された化学増幅型のレジスト膜２０を備えるマスクブランクであって、レジスト膜の化学増幅機能を阻害する物質がレジスト膜の底部からレジスト膜内へ移動することを阻止する保護膜２０を、前記薄膜とレジスト膜との間に備えている。例文帳に追加

The mask blank comprises: a thin film 13 which is formed on a substrate 12 and for forming a mask pattern; and a chemically amplified resist film 20 formed above the thin film, wherein a protective film 20 preventing a substance inhibiting the chemical amplification function of the resist film from moving from the bottom of the resist film into the resist film, is provided between the thin film and the resist film. - 特許庁

また、第１の配線パターン１４の一部として形成された下部電極２１、並びに、下部電極２１上に順次に形成された容量絶縁膜２２及び上部電極２３を有する容量素子２０と、容量絶縁膜２２及び上部電極２３と下部電極２１の一部とを覆い、且つ、第２の絶縁層１３によって覆われる保護膜２４とを備える。例文帳に追加

It also has a capacity element 20 having a lower electrode 21 formed as a part of the first wiring pattern 14, and a capacity insulating film 22 and an upper electrode 23 formed on the lower electrode 21 one by one; and a protection film 24 covering the capacity insulating film 22, the upper electrode 23, and a part of the lower electrode 21, and covered by the second insulating layer 13. - 特許庁

硬化塗布膜層（HC層）及び抗静電気膜層（AS層）等の表面処理層が、製造時に混合黒色染料塗布によって保護膜を形成させることにより製作され、暗い状態において光が漏れるのを抑制して、下方視野角のコントラストを向上させることができる液晶モニターの下方視野角のコントラストを向上させる偏光板を提供することにある。例文帳に追加

To provide a polarizing plate which improves the contrast of the downward viewing angle of a liquid crystal monitor by coating a surface processing layer such as a hardened coating film layer (an HC layer) and an anti-static electricity film layer (an AS layer) or the like with mixed black dyes and forming a protective film during the manufacture, thereby suppressing the leakage of light beams under a dark condition. - 特許庁

フィルタードカソーディックアーク法により形成される保護膜の内部応力が大きく磁性膜から剥離しやすく耐久性の悪い欠点を改善し、５ｎｍ以下の極薄膜においても、高耐久性かつ高耐蝕性のハードディスク用磁気記録媒体およびこの磁気記録媒体を備えた磁気記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetic recording medium for hard disk of high durability and high corrosion-resistance even in an ultrathin film of 5 nm or less by improving the defect of large internal stress of a protective coat formed by a filtered cathodic arc process and poor durability easily exfoliated from a magnetic film, and a magnetic recording device equipped with the magnetic recording medium. - 特許庁

砥粒、導体の酸化剤、金属表面に対する保護膜形成剤、酸及び水を含有する研磨液であり、砥粒濃度が０．０５〜３．０重量％であり、金属用研磨液のｐＨが３以下であり、かつ導体の酸化剤の濃度が０．０１〜３重量％であることを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The metal polishing solution includes abrasive grains, a conductor oxidizing agent, a protective film forming agent for a metal surface, an acid, and water, wherein the concentration of the abrasive grains is 0.05 to 3.0 wt.% and the metal polishing solution has a pH of ≤3 and the concentration of the conductor oxidizing agent is 0.01 to 3 wt.%. - 特許庁

半導体装置は、溶断部１０１ａを有するポリシリコンヒューズ１０１を備え、溶断部１０１ａ上に凹部１０６ａを有する層間絶縁膜１０６と、凹部１０６ａ上に開口部１０７ａを有する表面保護膜１０７と、凹部１０６ａ及び開口部１０７ａを充填する緩衝膜１０８と、封止樹脂層１０９とが順次積層されている。例文帳に追加

The semiconductor is provided with the polysilicon fuse 101 having a blowout section 101a, an interlayer insulating film 106 having a recess 106a on the blowout section 101a, a surface protective film 107 having an opening section 107a on the recess 106a, a buffer film 108 with which the recess 106a and the opening 107a are filled, and a sealing resin layer 109 are sequentially laminated. - 特許庁

ＬＳＩチップ１０は、半導体ウエファの状態で、能動素子等が形成された後、銅を主成分とした材料で内部配線１９が行われ、その後表面保護膜（パシベーション膜）２４が形成され、適当なエッチング技術を用いて、外部接続用電極１４の領域に対応する開口部が設けられる。例文帳に追加

In a large-scale integrated chip 10, an active element or the like is formed in a state of a semiconductor wafer, then the inner wirings 19 are formed of a material containing the copper as a main component; thereafter a surface protective film (passivation film) 24 is formed; and an opening corresponding to a region of an external connection electrode 14 is provided by using a suitable etching technique. - 特許庁

非磁性基板上に、少なくとも、下地層、磁性層、カーボン系保護層が順次設けられた磁気記録媒体の製造方法において、カーボン系保護層の形成工程以降に、少なくとも、水溶性樹脂を含むレーザ保護膜を形成する工程と、レーザビームにより磁気記録媒体を加工する工程を順次含む製造方法とする。例文帳に追加

The method of manufacturing the magnetic recording medium wherein at least a base layer, a manetic layer and a carbon based protective layer are successively formed on a non-magnetic substrate successively comprises: at least a step for forming a laser protective film containing a water soluble resin; and a step for working the magnetic recording medium by using a laser beam after a step for forming the carbon based protective layer. - 特許庁

滅菌検知インジケータ１０は、紙製または多孔質材製の基材１上の一部分に、測定すべき温度、および／または高圧蒸気に反応して変色するインジケータ部２が付され、熱可塑性高分子材３がインジケータ部２ごと基材１を被覆しつつ基材１の内部へ浸透されて一体化している保護膜６を形成しているというものである。例文帳に追加

The sterilization detection indicator 10 has an indicator part 2 which changes colors in response to temperature to be measured and/or high pressure steam attached to a part on a base material 1 made of paper or a porous material and while a thermoplastic polymer material 3 covers the base material 1 together with the indicator part 2 to form a protection film 6 which penetrates into the base material 1 and is integrated. - 特許庁

基板上に積層され、その表面にリッジを有する窒化物半導体層と、電極とを備えた窒化物半導体レーザ素子であって、前記リッジの側面から、該リッジの両側の窒化物半導体層の表面にわたる領域の少なくとも一部にエアギャップを有するように第１の保護膜が形成されてなる窒化物半導体レーザ素子。例文帳に追加

The nitride semiconductor laser element having a nitride semiconductor layer that is laminated on a substrate and has a ridge on its surface and an electrode, wherein a first protective film is formed so as to have air gaps in at least a part of regions over surfaces of the nitride semiconductor layers on both sides of the ridge from sides of the ridge. - 特許庁

断面がテーパー形状であるアルミニウムゲイト電極と、前記ゲイト電極上のゲイト絶縁膜と、前記ゲイト絶縁膜上のチャネル形成領域を構成するＩ型のアモルファスシリコン膜と、前記Ｉ型のアモルファスシリコン膜上の保護膜と、前記Ｉ型のアモルファスシリコン膜及び保護膜上のｎ型のアモルファスシリコン膜からなるソース領域及びドレイン領域と、前記ソース領域に電気的に接続されたアルミニウムソース電極と、前記ドレイン領域に電気的に接続されたアルミニウムドレイン電極と、前記ゲイト絶縁膜上の画素電極と、前記ゲイト電極に電気的に接続されたアルミニウムゲイト配線と、を有し、前記ドレイン領域と前記画素電極とはアルミニウムを介して電気的に接続されていることを特徴とする。例文帳に追加

The drain region and the pixel electrode are electrically connected through aluminum. - 特許庁

基板表面に第1の電極を形成する工程と、前記第1の電極の上層に発光物質層を形成する工程と、前記発光物質層の上に、前記発光物質層から出射した光が透過可能に形成された第２の電極を形成する工程と、前記第２の電極の形成された前記基板表面に保護膜を形成する工程と、前記保護膜を形成する工程に先立ち、前記第２の電極の形成された前記基板表面に、前記発光物質層に到達し得る条件で、前記発光物質層が発光し得る波長の光を照射する光照射工程とを含み、前記第１の電極と前記第２の電極とを介して前記発光物質層に電界を供給し、前記発光物質層を発光させるようにしたことを特徴とする。例文帳に追加

An electric field is supplied to the light emitting substance layer through the first electrode and the second electrode so that the light emitting substance layer can emit light. - 特許庁

焼結体の相対密度が５０％以上９０％未満であり、酸化マグネシウム純度が９７質量％以上であり、かつ、粒径２００μｍ以上の粗大粒子を含むことを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。例文帳に追加

The protective film for a plasma display panel is produced by an electron beam deposition method, an ion irradiation deposition method, or a sputtering method using the single crystal magnesium oxide sintered compact as a target material. - 特許庁

粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。例文帳に追加

The protective film for PDP is formed by the electron beam vapor deposition method, the ion irradiation vapor deposition method or the sputtering method using the single crystal MgO sintered compact as the target material. - 特許庁

保護膜３５の製造方法は、基板上にカーボンナノチューブを散布または結晶成長させ、その上に金属酸化物溶液を塗布する工程と、または、金属酸化物溶液中にカーボンナノチューブを分散し、カーボンナノチューブが分散された溶液を基板上に塗布する工程と、または、金属酸化物溶液を基板上に塗布し、その上にカーボンナノチューブを散布させる工程と、溶液を焼成する工程と、を備える。例文帳に追加

The manufacturing method for the protective film 35 includes a process of spraying carbon nanotubes or making crystal growth on a substrate and applying a metal oxide solution onto it, a process of dispersing the carbon nanotubes into the metal oxide solution and applying the solution wherein the carbon nanotubes are dispersed onto the substrate, a process of applying the metal oxide solution onto the substrate and dispersing the carbon nanotubes on it, and a process of calcining the solution. - 特許庁

本発明に係る半導体装置の製造方法は、第１の工程で除去されなかった部分の反射防止膜を除去するために第２のエッチング処理を行う第３の工程であって、前記第２のエッチング処理での温度と、前記温度に依存する、前記第２のエッチング処理により除去されるであろう反射防止膜の除去量、保護膜の除去量、及び、前記両除去量の比との関係を参照して、前記第２のエッチング処理に割り当てられた時間に基づき特定される温度で前記第２のエッチング処理を行う第３の工程とを有する。例文帳に追加

The second etching process is performed after referring to the relation of the temperature in the second etching process with the quantity of the antireflective film to be removed depending on that temperature, the quantity of a removed protective film, and the ratio of both removed films quantities. - 特許庁

非磁性支持体１上に少なくとも磁性層２を形成し、最外層となる保護膜３に、末端にカルボキシル基を有する二官能パーフルオロポリエーテルとアミンの化合物、或いは末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテルとアミンの化合物、或いは末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテルとジアミンの化合物の３種類の化合物のうちの１種類と、パーフルオロカルボン酸エステルを含有する潤滑剤を保持させる。例文帳に追加

A ferromagnetic metallic thin film is formed as a magnetic layer 2 on a nonmagnetic base 1 and a protective film 3 is formed as the outermost layer on this magnetic layer. - 特許庁

（Ａ）少なくとも酸二無水物残基とジアミン残基を含み、ジアミン残基がフルオレン系ジアミンの残基を含むポリイミド系樹脂、（Ｂ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、（Ｃ）エポキシ基と反応可能な活性水素を有する化合物を含む樹脂組成物からなり、液晶配向膜、封止剤、保護膜、多層基板用接着剤、フレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ）用接着剤などの電子工業分野で広く使用可能である。例文帳に追加

The resin composition can be widely used in the electronic industrial field such as liquid crystal oriented films, sealants, protective films, adhesives for multilayer substrates, and adhesives for flexible printed wiring boards (FPC). - 特許庁

波長４５０、５５０、および６５０ｎｍでのレターデーション値（Ｒｅ４５０、Ｒｅ５５０、およびＲｅ６５０）が、下記式（１）と（２）を満たす長尺状ポリマーフイルムからなり、該フイルム面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙ、および厚み方向の屈折率ｎｚが、０．５≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦２を満たす長尺状位相差フイルムが、その少なくとも一方の表面に剥離可能な保護膜が積層された状態でロール状に巻き取られてなる位相差フイルムロール。例文帳に追加

The phase difference type film roll is manufactured by winding up the following phase difference type long film with a peelable protective film laminated on at least one surface of the film into a roll state. - 特許庁

本発明の実施例による薄膜トランジスタ表示基板は、液晶キャパシタを構成する重畳する導電体の面積を大きくしないで、２つの導電体を相対的に厚さの薄い保護膜を介在して重畳するようにしたり、あるいは維持電極を不透明な反射電極下に維持電極を配置することで、表示装置の開口率を減少することなく、より大きな保持容量を有するストレージキャパシタを有することができる。例文帳に追加

The TFT display substrate of the invention has the storage capacitor having the large hold capacity without reducing the aperture ratio of a display device, by superimposing two conductors across a relatively thin protection film without increasing the area of the superimposing conductors for composing a liquid crystal capacitor, or, by arranging a sustain electrode under an opaque reflective electrode. - 特許庁

本発明の製造方法は、基板100上にトランジスタ薄膜パターン120を形成する段階、保護膜140を形成する段階、フォトレジスト層を形成する段階、画素領域150aを形成する段階、互いに分離された画素電極170及び導電膜160を形成する段階、ストリッピング組成物184を利用してフォトレジストパターン150をストリッピングして、フォトレジスト表面に形成された導電膜160を基板100から分離するストリッピング段階、及び貯蔵タンク186内で分離した導電膜を溶解させる段階を含む。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a thin-film transistor (TFT) substrate that can simplify a manufacturing process of a TFT substrate. - 特許庁

基板１１０、該基板上に形成されゲート電極１２４を備えるゲート線、ゲート線上に形成されているゲート絶縁膜１４０、ゲート絶縁膜上に形成されているソース電極１７３を備えるデータ線及びソース電極と対向しているドレイン電極１７５、データ線及びドレイン電極上に形成されている保護膜１８０、及びドレイン電極と接続されている画素電極１９０を備える。例文帳に追加

The system is provided with a substrate 110, a gate line provided with a gate electrode 124 formed on the substrate, a gate insulating film 140 formed on the gate line, a drain electrode 175 opposed to a data line and a source electrode provided with source electrodes 173 formed on the gate insulating film, a protective film 180 formed on the data line and drain electrode, and a pixel electrode 190 connected to the drain electrode. - 特許庁

ポリシリコン膜１０５をエッチングした後に、カーボンを含むプラズマによりポリシリコン膜１０５の側壁にカーボンポリマの保護膜１０７を形成させることで、ウェハの高温化や処理圧力の低圧力化により揮発性をあげたエッチング条件下で、ハロゲン系ガスのプラズマにより下層膜である金属材料１０４のエッチング処理を行っても、ポリシリコン膜１０５のサイドエッチ及び側壁荒れを防止することができる。例文帳に追加

A protective film 107 of a carbon polymer is formed on a sidewall of a polysilicon film 105 with plasma containing carbon after the polysilicon film 105 is etched to prevent side etching and sidewall roughening of the polysilicon film 105 even when the metal material 104 forming a lower-layer film is subjected to etching processing with plasma of halogen-based gas under etching conditions of volatility increased by keeping a wafer at higher temperature and processing pressure lower. - 特許庁

有効ピクセル及び有効ピクセルの周辺に配置される複数のボンディングパッドから構成される複数のダイを備える半導体基板を準備し、有効ピクセルが選択的に覆われるように、半導体基板上に保護膜を形成した後、有効ピクセルの端部を取り囲むように接着パターンを形成し、接着パターンにより有効ピクセルと対応するように透明カバーを付着する光学装置の製造方法である。例文帳に追加

This manufacturing method of an optical device comprises: preparing a semiconductor substrate equipped with a plurality of dies comprising an effective pixel and a plurality of bonding pads arranged around the effective pixel; forming a protective film on a semiconductor substrate for selectively covering the effective pixel; forming an adhering pattern surrounding a terminal part of the effective pixel; and attaching a transparent cover to the substrate through the adhering pattern corresponding to the effective pixel. - 特許庁