under etchingとは 意味・読み方・使い方

A plasma processing method uses CxHyFz gas, and etching is carried out under low pressure (≤1.0 Pa).例文帳に追加

CxHyFzガスを用い、低圧力(1.0Pa以下)にてエッチングを行う。 - 特許庁

In the second etching, etching is carried out under the condition where isotropic etching characteristics are strong, and the etching of the tungsten plug is not carried out so that tungsten residues can be completely removed.例文帳に追加

第２の過エッチングでは等方性エッチング特性が強い条件でエッチングし、タングステンプラグはエッチングされず、タングステン残留物を完全に除去する。 - 特許庁

To provide an etching treatment device capable of treating a sample having different etching areas under optimum etching conditions.例文帳に追加

エッチング面積の異なる試料に対して、最適なエッチング条件で処理を施すことのできるエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

When the glass base board is subjected to etching under an etching environment in which a 10 mass% concentration of hydrogen fluoride exists and the temperature is 22°C, its etching characteristics give an etching rate of at least 3.7 μm/min.例文帳に追加

前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 - 特許庁

The etching conditions at the next treatment unit are determined on the basis of the result of an etching at the previously etching-treated treatment unit under specified conditions.例文帳に追加

所定の条件で既にエッチング処理された処理単位のエッチング結果を基にして、次の処理単位のエッチング条件を決定する。 - 特許庁

To provide an etchant, by which etching residue is not generated at all and etching is conducted under mild conditions, when wet etching a transparent conductive film.例文帳に追加

透明導電膜のウエットエッチングの際に、エッチング残渣を全く発生せず、且つ温和な条件下で、エッチングが行えるエッチング剤を提供する。 - 特許庁

The chamber 10 is a chamber storing an etching liquid 5 under fixed pressure.例文帳に追加

チャンバ１０は、エッチング液５を一定の圧力下で貯溜する室である。 - 特許庁

A hybrid porous tube body 100 is obtained by putting the base material 3 under an etching removal process by a wet etching method (d).例文帳に追加

基材３をウエットエッチング法によりエッチング除去して混成型多孔質管体１００を得る〔（ｄ）〕。 - 特許庁