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"パルスレーザ発振"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 29



例文

パルスレーザ発振例文帳に追加

PULSED LASER OSCILLATOR - 特許庁

パルスレーザ発振方法およびパルスレーザ発振例文帳に追加

PULSE LASER OSCILLATION METHOD AND PULSED LASER OSCILLATOR - 特許庁

パルスレーザ発振方法と発振例文帳に追加

PULSE LASER OSCILLATION METHOD AND OSCILLATOR - 特許庁

パルスレーザ発振方法及び発振装置例文帳に追加

PULSE LASER OSCILLATING METHOD AND OSCILLATING DEVICE - 特許庁

例文

パルスレーザ発振器が、部分反射鏡を通して光共振器内にレーザパルスを入射させる。例文帳に追加

A pulse laser oscillator causes laser pulses to enter the optical resonator through the partial reflector. - 特許庁


例文

光ファイバ伝送式レーザ装置、パルスレーザ発振器、光ファイバ導光装置および光ファイバ例文帳に追加

OPTICAL FIBER TRANSMISSION TYPE LASER DEVICE, PULSE LASER OSCILLATOR, OPTICAL FIBER AND LIGHT GUIDE DEVICE THEREOF - 特許庁

光ファイバ導光装置、光ファイバ伝送式レーザ装置およびパルスレーザ発振例文帳に追加

OPTICAL FIBER LIGHT GUIDING DEVICE, OPTICAL FIBER TRANSMISSION TYPE LASER DEVICE, AND PULSE LASER OSCILLATOR - 特許庁

複数のパルスレーザ発振器1101a,1101bと、それぞれの発振位相をずらして前記パルスレーザ発振器を順次駆動する手段1102a,1102bと、前記パルスレーザ発振器から出射されるビーム1104a,1104bのそれぞれを複数のビームに分岐する手段1109を備え、前記分岐する手段により得られた複数のビームを被加工物1111に照射することを特徴とするレーザ加工装置および加工方法である。例文帳に追加

The equipment is provided with multiple pulse laser oscillators 1101a and 1101b, means 1102a and 1102b for driving the pulse laser oscillators successively by shifting respective oscillation phases and a means 1109 for branching respective beams 1104a and 1104b emitted from the pulse laser oscillators into a plurality of beams, and irradiates workpiece with the plurality of beams obtained by the branching means. - 特許庁

モードロックレーザ60は再生されたクロック同期信号に同期して、ベースレート(B)に相当する周波数でパルスレーザ発振する。例文帳に追加

A mode lock laser 60 performs pulse laser oscillation at a frequency equivalent to the base rate (B) so as to synchronize with the reproduced clock synchronization signal. - 特許庁

例文

YAGパルスレーザ発振器10はパルス幅可変のYAG基本波パルスレーザ光LBを発振出力し、YAGパルスレーザ発振器12はパルス幅可変のYAG第2高調波パルスレーザ光SHGを発振出力する。例文帳に追加

A YAG pulsed laser oscillator 10 outputs a YAG fundamental wave pulsed laser beam LB with a variable pulse width, while a YAG pulsed laser oscillator 12 outputs a YAG second high harmonic pulsed laser beam SHG with a variable pulse width. - 特許庁

例文

当該レーザ装置は、YAGパルスレーザ発振器1に所望のパルス幅のパルスレーザ光を発振させるための電流信号を生成するとともに、その電流信号に含まれる変動成分をマスクするためのマスク信号を生成して、そのマスク信号により変動成分がマスクされた電流信号をYAGパルスレーザ発振器1へ供給するパルス電源5を備える。例文帳に追加

The invented laser apparatus is equipped with a pulse power source 5, which generates a current signal for making a YAG pulsed laser oscillator 1 oscillate a pulsed laser beam of required pulse width, and a masking signal for masking a fluctuation component included in the current signal, and which supplies the current signal, of which the fluctuation component is masked by the masking signal, to the YAG pulsed laser oscillator 1. - 特許庁

パルスレーザ発振器10と、このパルスレーザ発振器10から出射されるパルスレーザ光L_2 を集光する集光光学系を有する光ファイバ導光装置28aと、この光ファイバ導光装置28aで集光したパルスレーザ光L_3 を入光して伝送するための伝送用光ファイバ41とを備える。例文帳に追加

An optical fiber transmission type laser device is provided with a pulse laser oscillator 10, an optical fiber light guide device 28a having an optical focusing system which condenses the pulse laser light L2 emitted from the oscillator 10, and an optical fiber 41 for transmission which receives the pulse laser light L3 condensed by means of the light guide device 28a and transmits the light L3. - 特許庁

紫外線レーザ用ガスにキセノンガスを添加してパルスレーザ発振を行う場合に、このキセノンガスの添加を簡易に行うことができる紫外線レーザ装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an ultraviolet laser system, in which a xenon gas can be added easily to a gas for ultraviolet laser at pulse laser oscillation by adding the xenon gas to the gas for ultraviolet laser. - 特許庁

第1のパルスレーザ発振器が、パルスの繰り返し周波数が第1の周波数であり、波長が第1の波長である第1の光パルスビームを出力する。例文帳に追加

First pulse laser oscillator outputs a first optical pulse beam of which repetitive frequency of the pulse is of the first frequency and the wavelength is of the first wavelength. - 特許庁

パルスレーザ発振器から出射され、光共振器内を往復するレーザパルスに衝突するように、X線発生装置が、ある時間間隔で複数の電子群を出射する。例文帳に追加

The X-ray generator launches a plurality of electron groups at certain time intervals so that they collide with the laser pulses launched from the laser oscillator and reciprocating in the optical resonator. - 特許庁

第2のパルスレーザ発振器が、第2の電気信号に同期し、パルスの繰り返し周波数が第2の周波数であり、波長が第1の波長と異なる第2の波長である第2の光パルスビームを出力する。例文帳に追加

A second pulse laser generator synchronizes with the second electrical signal, and outputs a second optical pulse beam of which a repetitive frequency of the pulse is the second frequency and the wavelength is the second wavelength different from the first. - 特許庁

パルスレーザ発振をおこなうレーザ加工機において、スイッチング回数の増加による電源装置の発熱を避けつつ安価にパルス幅を大きく変化させることができるレーザ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser processing apparatus for performing pulse laser oscillation which can remarkably change the pulse width economically while avoiding the generation of heat of a power supply due to increase in the number of times of switching operation. - 特許庁

炭酸ガスレーザ10はパルスレーザ発振し、その出力ビーム12は、ビームエキスパンダ14、ミラー16,18及びレンズ20を介して、一定速度で回転するポリゴンミラー22に入射し、そこで反射される。例文帳に追加

A CO2 gas laser 10 is pulse-laser oscillated, and an output beam 12 is incident on a polygon mirror 22 rotating at a constant velocity via a beam expander 14, mirrors 16, 18 and a lens 20 and reflected at the mirror. - 特許庁

パルスレーザ発振器10、光ファイバ導光装置28aおよび伝送用光ファイバ41の少なくともいずれか1つに、パルスレーザ光のコヒーレンスを低下させる手段30を設ける。例文帳に追加

To at least one of the oscillator 10, light guide device 28a, and optical fiber 41, a means 30 which lowers the coherent of the pulse laser light is provided. - 特許庁

パルスレーザ発振器1と、レーザ光束を制限するスリット40と、このスリットを均一に照明する照明光学系30と位相シフト部20と、スリット40を通過した光を被加工対象物6に縮小投影する結像レンズ5と、を有する構成とする。例文帳に追加

A laser beam machining apparatus comprises a pulse laser beam oscillator 1, a slit 40 for limiting the laser beam flux, an illumination optical system 30 for uniformly illuminate the slit and a phase shift part 20, and an imaging lens 5 for performing the reduced projection of the laser beams passed through the slit 40 on an object 6 for machining. - 特許庁

YAGパルスレーザ発振器10からのパルス状レーザ光をセラミック板11に照射して歪みを与える加工方法において、前記パルス状レーザ光のパルス幅を1nsec〜0.4msecとすることにより、前記セラミック板の割れを防止する。例文帳に追加

In the machining method where a strain is given by irradiating a ceramic plate 11 with a pulsed laser beam emitted from a YAG pulse laser beam oscillator 10, a crack of the ceramic plate is prevented by making a pulse width of the pulsed laser beam 1 ns to 0.4 ms. - 特許庁

YAGパルスレーザ発振器11と、HDDヘッド18に照射されるレーザ光スポットの縮小比を規定するための加工レンズ23とを含み、前記レーザ発振器からのレーザ光を前記HDDヘッドに照射することにより、該HDDヘッドの持つ歪みを除去したり、歪みを与える。例文帳に追加

A YAG pulse laser oscillator 11 and a machining lens 23 for prescribing the reduction ratio of the laser light spot irradiating the HDD head 18 are included, and the HDD head is irradiated with the laser light from a laser oscillator to remove or induce the strain of the HDD head. - 特許庁

磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面の裏面34Bに、YAGパルスレーザ発振より射出され、この裏面34Bより小さい断面積に整形されたレーザパルスを所定の間隔で互いに離して複数回照射する。例文帳に追加

The backside 34B of an air bearing of a slider of the magnetic head is irradiated with a laser pulse emitted by a YAG pulse laser and shaped to be a cross-sectional area smaller than the backside 34B a plurality of times, successive pulses being separated from each other at a predetermined interval. - 特許庁

1回目と20000回目のパルスレーザ発振時に、インテグレータセンサ10と照度センサ28の出力信号を取込んで光学系の2つの時点での透過率を算出し、2つの透過率から透過率時間変化予測直線を算出する。例文帳に追加

At the first and 20,000-th pulse laser oscillation, the output signals of an integrator sensor 10 and an illuminance sensor 28 are fetched, the transmissivities at the two points of time of the optical system are calculated, and a transmissivity time change prediction straight line is calculated from the two transmissivities. - 特許庁

パルスレーザ発振器21から発振されたパルスレーザビームをIDT電極3と反射器4とを含む電極領域に照射し、パルスレーザビームの照射により生じる多光子吸収を介して照射領域の少なくとも一部を除去して弾性表面波素子の周波数調整を行う。例文帳に追加

A pulse laser beam stimulated from a pulse laser oscillator 21 is emitted to an electrode region including IDT electrodes 3 and reflectors 4, at least part of the emission region is eliminated by means of multiphoton absorption caused by the emission of the pulse laser beam to adjust the frequency of the surface acoustic wave element. - 特許庁

パルスレーザ発振器22からのレーザ光パルス24をビーム成形光学回路系26で形状と強度を調節してシリコン薄膜の試料42に照射する際に、マイクロ波導波管30内のマイクロ波31をアンテナ36を用いて電場軸が試料42の表面に対して垂直となるよう試料42に作用させる。例文帳に追加

When a laser beam pulse 24 from a pulse laser oscillator 22 is adjusted in its shape and intensity by a beam formation optical circuit system 26 and then radiated on a silicon thin film as a sample 42, a microwave 31 within a microwave waveguide 30 is applied onto a surface of the sample 42 from an antenna 36 so that an electrical field axis becomes vertical to the surface of the sample 42. - 特許庁

金属表面耐食化装置は、パルス幅30ns以下及び平均出力50W以下の小型Qスイッチパルスレーザ発振器を備え、集光手段を用いることなく炭素鋼又は軟鋼からなる金属母材の表面にレーザ光を照射することによって金属母材の表面を耐食化する。例文帳に追加

This apparatus for realizing corrosion resistance of the metal surface has a small Q-switch pulse laser oscillator having the pulse width of30 ns and the average output of50 W, and realize a corrosion-resistant surface of the base metal by irradiating the surface of base metal of carbon steel or mild steel with a laser beam without using any beam-condensing means. - 特許庁

パルスレーザを不安定型共振器に入射し、増幅することで高出力のパルスレーザを得る装置において、不安定型共振器から漏れてくる連続波レーザ光のパルスレーザ発振への影響を極力抑制し、常に安定して高出力のパルスレーザ光を得るレーザ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser device which considerably suppresses the influence of a continuous wave laser light beam leaked from an unstable resonator to pulse laser oscillation, and always and stably obtains the pulse laser light beam of high output in the device obtaining the pulse laser of high output by making the pulse laser to be incident on the unstable resonator and amplifying it. - 特許庁

例文

YAGパルスレーザ発振器10からのパルス状レーザ光をセラミック板11に照射して歪みを与える加工方法において、セラミック板の面積に比べて小さい断面積を持つパルス状レーザ光を、セラミック板の照射領域の全域にわたるように複数回照射することにより、セラミック板の割れを防止する。例文帳に追加

In the machining method where a strain is given by irradiating a ceramic plate 11 with a pulsed laser beam emitted from a YAG pulse laser beam oscillator 10, a pulsed laser beam having a smaller cross section compared to the cross section of the ceramic plate is radiated several times upon over the whole area of the irradiated zone of the ceramic plate thus a crack generation of the ceramic plate is prevented. - 特許庁

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