例文 (11件) |
"電荷捕捉"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 11件
高速消去式電荷捕捉メモリーセル例文帳に追加
電荷捕捉型誘電体メモリデバイスにプログラミングを行う方法およびその方法でプログラムされた電荷捕捉型誘電体メモリデバイス例文帳に追加
METHOD FOR PROGRAMMING ON CHARGE-TRAPPING DIELECTRIC MEMORY DEVICE, AND CHARGE-TRAPPING DIELECTRIC MEMORY DEVICE PROGRAMMED BY THE METHOD - 特許庁
前記デカップリングする段階は、電荷捕捉層中への非チャンネル電子の注入を最小にする段階を含みうる。例文帳に追加
The step of decoupling can include the step of minimizing the injection of the non-channel electrons into the charge trapping layer. - 特許庁
更に、この電荷捕捉電極90と紙粉除去装置80におけるブラシ状部材86のプレート84とを電気的に接続する。例文帳に追加
Furthermore, the electrode 90 is electrically connected to a plate 84 of a brush member 86 in a paper powder removing device 80. - 特許庁
また、電荷捕捉剤は、電極と接する該ポリマー層表面や、アクチュエータの伸長部に多く含有させる。例文帳に追加
Much of the electric charge scavenger is contained in the surface of the polymer layer that contacts with the electrode and the extension of the actuator. - 特許庁
窒化物のプログラム可能な読み取り専用(NROM)セルを形成する方法は、NROMセルの電荷捕捉層中へのチャンネル高温電子注入を電荷捕捉層中への非チャンネル電子の注入からデカップリングする段階を含む。例文帳に追加
A method for forming a programmable read only (NROM) cell of a nitride has the step of decoupling injection of channel hot electrons into a charge trapping layer of the NROM cell from injection of non-channel electrons into the charge trapping layer. - 特許庁
バンドギャップを構造設計した電荷捕捉メモリーセルは、プラチナゲートのような金属又は金属化合物のゲートから、酸化アルミニウムのような高い誘電定数を有する材料のブロッキング層によって隔離され、チャンネルを含む半導体本体から改良されたトンネリング誘電体によって隔離される電荷捕捉素子を有する。例文帳に追加
A charge trapping memory cell whose band gap structure has been designed includes a charge trapping element that is separated from a metal or metal compound gate, such as a platinum gate, by a blocking layer of material having a high dielectric constant, such as aluminum oxide, and separated from a semiconductor body including a channel by an improved tunneling dielectric material. - 特許庁
電荷捕捉層22bのうちゲート導電層14の一方の端部近傍に電荷蓄積領域を有し、他方の端部近傍には電荷蓄積領域を有さない。例文帳に追加
A charge storage region is provided in the vicinity of one end part of the gate conductive layer 14 in a charge capturing layer 22b and not provided in the vicinity of the other end part thereof. - 特許庁
高耐圧トランジスタ300は、半導体層10上に設けられ、第1絶縁層22a、電荷捕捉層22b、および第2絶縁層22cからなる第1ゲート絶縁層222と、第1ゲート絶縁層222上に設けられた第1ゲート電極14cとを含む。例文帳に追加
The high breakdown voltage transistor 300 comprises a first gate insulating layer 222 consisting of the first insulating layer 22a, the charge capturing layer 22b and the second insulating layer 22c provided on the semiconductor layer 10, and a first gate electrode 14c provided on the first gate insulating layer 222. - 特許庁
不揮発性記憶装置100は、半導体層10上に設けられ、第1絶縁層22a、電荷捕捉層22b、および第2絶縁層22cからなる積層体122と、積層体122上に設けられたゲート導電層14aとを含む。例文帳に追加
The nonvolatile memory 100 comprises a multilayered body 122 consisting of a first insulating layer 22a, a charge capturing layer 22b and a second insulating layer 22c provided on the semiconductor layer 10, and a gate conductive layer 14a provided on the multilayered body 122. - 特許庁
例文 (11件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |