「"high- density plasma"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Apparently to ultra high density plasma filament例文帳に追加

どうやら 超高密度の プラズマ・フィラメントに - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁

LOW-CURRENT HIGH-DENSITY PLASMA NITRIDING METHOD AND LOW-CURRENT HIGH-DENSITY PLASMA NITRIDING DEVICE例文帳に追加

低電流高密度によるプラズマ窒化方法及び低電流高密度によるプラズマ窒化装置 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION例文帳に追加

イオン化金属堆積用の高密度プラズマ源 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS USING DC HIGH-DENSITY PLASMA例文帳に追加

直流高密度プラズマを用いる成膜装置 - 特許庁

CHUCK ASSEMBLY AND HIGH DENSITY PLASMA DEVICE USING SAME例文帳に追加

チャックアセンブリ及びそれを用いた高密度プラズマ装置 - 特許庁

REMOTE PLASMA-CLEANING METHOD OF HIGH-DENSITY PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

高密度プラズマＣＶＤ装置のリモートプラズマクリーニング方法 - 特許庁

MAGNET FOR HIGH DENSITY PLASMA, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS FOR HIGH DENSITY PLASMA USING THE SAME例文帳に追加

高密度プラズマ用磁石及びその製造方法、並びにこれを用いた高密度プラズマ用の半導体製造装置 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体製造用高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁

The high-density plasma oxide-film evaporation equipment, for embedding a high-density plasma oxide film in the trench of the semiconductor substrate 124, is provided.例文帳に追加

半導体基板１２４のトレンチ内に高密度プラズマ酸化膜を埋設する高密度プラズマ酸化膜蒸着装備に関する。 - 特許庁

To provide a magnetron reactor feeding a high density plasma source.例文帳に追加

高密度プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタを提供する。 - 特許庁

DC HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE, FILM-FORMING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF FILM例文帳に追加

直流高密度プラズマ源、成膜装置および膜の製造方法 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA FLUORINATED SILICON GLASS PROCESS STACK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

高密度プラズマフッ素化シリコンガラスプロセススタックおよびその製造方法 - 特許庁

To provide a magnet for high density plasma, a manufacturing method therefor and a semiconductor manufacturing apparatus for the high density plasma using it.例文帳に追加

高密度プラズマ用磁石及びその製造方法、並びにこれを用いた高密度プラズマ用の半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

A high density plasma is formed by the hollow cathode electrode, and an efficiency of plasma dissociation caused by this high density plasma is enhanced, thereby enhancing a coating speed.例文帳に追加

ホローカソード電極により高密度プラズマを形成し、この高密度プラズマによるプラズマ乖離の効率を高め、成膜速度を向上させる。 - 特許庁

To provide a high-density plasma source applicable to a wide working atmospheric pressure from a low atmospheric pressure to a high atmospheric pressure, and a forming method of high-density plasma.例文帳に追加

低気圧から高気圧まで広い動作気圧に対応できる高密度プラズマ源、及び高密度プラズマ生成方法を提供する。 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA PROCESS FOR PRODUCING SILICON DIOXIDE ON SILICON CARBIDE SUBSTRATE例文帳に追加

シリコンカーバイド基板上に二酸化シリコンを生成する高密度プラズマプロセス - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION CAPABLE OF EXCITING PLASMA WAVE例文帳に追加

プラズマ波を励起可能なイオン化金属堆積のための高密度プラズマ源 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING HIGH AREA/HIGH DENSITY PLASMA BY MICROWAVE DISCHARGE例文帳に追加

マイクロ波放電による大面積・高密度プラズマの生成方法及び装置 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma processing device capable of producing high-density plasma.例文帳に追加

高密度プラズマを得ることができる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the relevant trench 3 is filled with a high-density plasma oxidized film (HDP4).例文帳に追加

その後、高密度プラズマ酸化膜（ＨＤＰ４）で当該トレンチ３を充填する。 - 特許庁

For the deposition of the silicon oxide films 7, the high-density plasma CVD method is used.例文帳に追加

酸化シリコン膜７の堆積には、高密度プラズマＣＶＤ法を使用する。 - 特許庁

To provide a chuck assembly that reduces damage to the film quality of a wafer backside due to plasma during a high density plasma processing, and a high density plasma device using same.例文帳に追加

高密度プラズマ工程中のプラズマによるウエハ裏の膜質ダメージを減少することができるチャックアセンブリ及びそれを用いた高密度プラズマ装置を提供する。 - 特許庁

DEPOSITION OF AMORPHOUS SILICON FILM BY HIGH-DENSITY PLASMA HDP-CVD AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温での高密度プラズマＨＤＰ−ＣＶＤによるアモルファスシリコン膜の堆積 - 特許庁

To inexpensively generate high density plasma regardless of the size of a plasma generation system.例文帳に追加

プラズマ生成装置の大小に関係なく、高密度のプラズマを廉価に生成する。 - 特許庁

The external plasma source is constituted of a plasma source capable of generating high density plasma and uniformly covering the periphery of the base material with the high density plasma.例文帳に追加

外部プラズマ源は高密度プラズマを生成可能で、且つ、この高密度プラズマにより処理基材の周囲を均一に覆うことができるプラズマ源から構成する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF THIN FILM, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR AND HIGH DENSITY PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

薄膜の加工方法と薄膜トランジスタの製造方法および高密度プラズマエッチング装置 - 特許庁

The arrangement such as this creates a stable high-density plasma between the mesh and the cathode plate.例文帳に追加

この様な配置によって、メッシュ／カソード板間に安定な高密度プラズマが生成される。 - 特許庁

The SiN protection insulating film 39 is formed by a high-density plasma CVD device.例文帳に追加

ＳｉＮ保護絶縁膜３９は、高密度プラズマＣＶＤ装置によって成膜される。 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA OXIDE-FILM EVAPORATION EQUIPMENT AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加

高密度プラズマ酸化膜蒸着装備及びこれを利用した半導体素子の製造方法 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

A final portion of the dielectric material may be deposited in the gap by the high-density plasma.例文帳に追加

該誘電材料の最終部分が該高密度プラズマによって該ギャップに堆積されてもよい。 - 特許庁

An SiO2 film 7 is formed so as to be filled into the trench 5 through an HDP-CVD(high density plasma- chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

ＨＤＰ−ＣＶＤ法によりトレンチ５の内部に埋め込むようにＳｉＯ_2 膜７を形成する。 - 特許庁

Alternatively the CVD method using high density plasma is adopted to attain water repellency.例文帳に追加

あるいは高密度プラズマを用いるＣＶＤ法を利用することによって、撥水性にすることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a dielectric material in a substrate gap, using a high-density plasma.例文帳に追加

高密度プラズマを使用して誘電材料を基板ギャップに形成するための方法を提供する。 - 特許庁

In addition, film deposition can be performed with high-density plasma, and high-speed film deposition can be realized.例文帳に追加

また本発明により、高密度プラズマで成膜することが可能となり、高速成膜ができるようになる。 - 特許庁

The plurality of silicon nanocrystal embedded SiOx film layers are deposited using a high density plasma-enhanced chemical vapor deposition (HD PECVD) process.例文帳に追加

多層のシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層は、ＨＤＰＥＣＶＤプロセスにより堆積する。 - 特許庁

Further, a sealing layer 22 is constituted of silicon nitride (SiNx) formed by using a high density plasma film-forming method.例文帳に追加

また、封止層２２を、高密度プラズマ成膜法を用いて形成した窒化シリコン（ＳｉＮｘ）で構成した。 - 特許庁

Further, on the Al_2O_3 film 20, a silicon oxide film 23 is formed by the high density plasma method for instance.例文帳に追加

更に、Ａｌ_2Ｏ_3膜２０上に、例えば高密度プラズマ法によりシリコン酸化膜２３を形成する。 - 特許庁

A semiconductor substrate after ion implantation is exposed to high-density plasma and then subjected to heat treatment for activation.例文帳に追加

イオン注入後の半導体基板を、高密度プラズマにさらしてから、活性化のための熱処理を行う。 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA TOOL HAVING ADJUSTABLE UNIFORMITY AND STATISTICAL ELECTRONIC OVERHEAT AND REDUCING GAS CRACKING例文帳に追加

調整可能な一様性及び統計的電子過熱を有し、ガス・クラッキングを低減する高密度プラズマ・ツール - 特許庁

To provide a high-density plasma stripper reducing an environmental load and enabling a high-speed surface treatment of a treated wire using a high-density plasma applicable to a wide range of operating pressure from a low pressure to a high pressure.例文帳に追加

低気圧から高気圧まで広い動作気圧に対応できる高密度プラズマを用いて、環境負荷を低減し、かつ高速での被皮処理ワイヤの表面処理を可能にした高密度プラズマストリッパーを提供する。 - 特許庁

A high-density plasma region 12 is formed at the upper part of the plasma generating chamber 1 through an induction coupling plasma method, and a first gas inlet 4 is provided so as to enable the most of gas to flow into the high-density plasma region 12.例文帳に追加

誘導結合プラズマ法により、プラズマ発生室１の上部に高密度のプラズマ領域１２を形成し、主たるガスがこのプラズマ領域１２へ流入するように、第１ガス導入口４を配置する。 - 特許庁

When an insulating film is deposited on the W plug, first of all, a first insulating film is deposited by a technique not using high density plasma and successively a second insulating film is deposited by a technique using the high density plasma.例文帳に追加

Ｗプラグ上に絶縁膜を堆積する際、まず始めに高密度プラズマを用いない手法で第１の絶縁膜を堆積し、続いて高密度プラズマを用いる方法で第２の絶縁膜を堆積する。 - 特許庁

Since carbon monoxide gas is introduced into the plasma region 13 which is 1/10 or less as low in plasma density as the high-density plasma region 12, it is less hit by the high-temperature high-density plasma and carried onto the substrate 2 before it is dissociated.例文帳に追加

一酸化炭素ガスは、１桁以上低密度のプラズマ領域１３に導入されるので、高温・高密度のプラズマガスによる衝突を受けることが少なく、解離する前に基板２の上に運ばれる。 - 特許庁