「かちぶんせきすてっぷ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

コンピュータに、特許請求の範囲を含む特許明細書の格納されている明細書格納部から特許明細書を取得する明細書取得ステップと、明細書取得ステップで取得した特許明細書を解析する特許明細書解析ステップと、特許明細書解析ステップにおける解析結果に基づいて特許の価値を定量的に算出する特許価値算出ステップと、特許の価値を出力する特許価値出力ステップと、を実行させる。例文帳に追加

The program makes a computer execute a description acquisition step for acquiring a patent description from a description storage part storing each patent description including claims; a patent description analysis step for analyzing the patent description acquired in the description acquisition step; a patent value calculation step for quantitatively calculating a patent value based on an analysis result in the patent description analysis step; and a patent value output step for outputting the calculated patent value. - 特許庁

選択対象ブロックとして残存した複数のブロックにおいて、最もブロック評価値の少ないブロックである最少評価値ブロックを最終的に追跡ブロックとして決定する（ステップＳ１４）。例文帳に追加

In the plurality of blocks remaining as the selection target blocks, a minimum evaluation value block which is a block having the smallest block evaluation value is finally determined as a tracing block (step S14). - 特許庁

メインコントローラ１１からジョブデータが送られてくる（ステップＳ１）と、予めＲＯＭ１２８に記憶されている重み付けテーブル（表１）に基づき、そのジョブ種類に応じた重み付けカウント値を求めた（ステップＳ２）後、これを積算して疲労評価値を求める（ステップＳ３）。例文帳に追加

When job data is transmitted from a main controller 11 (a step S1), weighing counting values corresponding to the kind of job are obtained based on a weighting table (table 1) previously stored in a ROM 128 (a step S2) and integrated thereafter so as to obtain a fatigue evaluation value (a step S3). - 特許庁

六フッ化硫黄と、酸素および亜酸化窒素からなる群から選択された酸素含有化合物とを含むガス混合物を、リモートプラズマ源６６に導入するステップと、ガス混合物の一部分をイオンに解離するステップと、それらの原子をチャンバ２０２の処理領域２１２に移送するステップと、インシチュプラズマを与えるステップと、イオンとの反応によって、チャンバ内から堆積物を洗浄するステップとを含む方法。例文帳に追加

The method includes the steps of introducing into a remote plasma source 66 a gas mixture including sulfur hexafluoride and an oxygen-containing chemical compound selected from a group composed of oxygen and nitrogen monoxide, dissociating a portion of the gas mixture into ion, transferring their atoms into a processing region 212 of a chamber 202, providing in situ plasma, and rinsing out a deposit from the chamber through ionic reaction. - 特許庁

書き込みにおいては、選択されたメモリトランジスタの電荷蓄積膜（ＯＮＯ膜）３０の第１局部と第２局部に独立に、いわゆるＣＨＥ注入により電子を注入する（第１および第２の電荷注入ステップ）。例文帳に追加

In a writing operation, electrons are separately injected into the first and second part of a charge storage film (ONO film) 30 of a selected memory transistor through a so-called CHE injection method (first and second charge injection step). - 特許庁