| 例文 (311件) |
スリットノズルを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 311件
スリットノズル及びスリットノズルの気泡排出方法並びに塗布装置例文帳に追加
SLIT NOZZLE, METHOD FOR DRAINING BUBBLES IN SLIT NOZZLE, AND COATER - 特許庁
スリットノズル９の直下には、サポートローラ１０がスリットノズル９と平行に配置されている。例文帳に追加
A support roller 10 is arranged in parallel with a slit nozzle 9 directly below the slit nozzle 9. - 特許庁
スリットノズル，基板処理装置，および基板処理方法例文帳に追加
SLIT NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSOR AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD - 特許庁
スリットノズル、基板処理装置、および基板処理方法例文帳に追加
SLIT NOZZLE, SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE - 特許庁
スリットノズルに形成される吐出口の開口間隔をスリットノズルの長手方向について均一化させる。例文帳に追加
To make aperture intervals of discharge outlets formed in a slit nozzle even in the longitudinal direction of the slit nozzle. - 特許庁
スリットノズルの溜まり部内の上部は、スリットノズルの中央部から両端部に向けて徐々に高くなるように傾斜していること。例文帳に追加
The upper part in a manifold part of the slit nozzle slants so as to become gradually higher from the center part to the end parts. - 特許庁
スリットノズルの洗浄及び乾燥までに要する時間を短縮させることができるスリットノズル洗浄装置を提供する 。例文帳に追加
To provide an apparatus for cleaning a slit nozzle which is capable of shortening the time required to wash and dry the slit nozzle. - 特許庁
スリットノズル３３から噴出される処理液の入口側への飛散を防止するシールド部材３３ｂを、前記スリットノズル３３に設ける。例文帳に追加
A shield 33b is provided on the slit nozzle 33 to prevent the liquid through the nozzle 33 from splashing to the inlet. - 特許庁
各スリットノズル１４ごとに、スリットノズル１４に対応する形状としたヘッダー１５を介し各１本の空気供給管１６を接続する。例文帳に追加
To each slit nozzle 14, one air supply pipe 16 is connected via a header 15 shaped in conformance to the slit nozzle 14. - 特許庁
スリットノズル２を固定保持するとともに、超音波プローブ４０，５０をスリットノズル２の外側に所定間隔にて対向配置する。例文帳に追加
A slit nozzle 2 is fixedly supported, while ultrasonic probes 40, 50 are arranged facing each other across a predetermined spacing outside the slit nozzle 2. - 特許庁
スリットノズルから吐出される冷却水の水量分布をスリットノズルの長手方向で均一にする。例文帳に追加
To allow the distribution of the flow rate of cooling water discharged from a slit nozzle to be made uniform in the longitudinal direction of the slit nozzle. - 特許庁
スリットノズル先端を拭き取る際に、拭き取り部材の消耗を抑えることができるスリットノズル洗浄装置を提供する。例文帳に追加
To provide an apparatus for cleaning a slit nozzle capable of suppressing the consumption of a wiping member when the tip end of the slit nozzle is wiped. - 特許庁
洗浄部材は、収納部の底面上に設けられ、スリットノズルと接触してスリットノズルに付着した異物を除去する。例文帳に追加
The washing member is equipped on a bottom face of the storing part and is brought into contact with the slit nozzle to remove foreign materials stuck to the slit nozzle. - 特許庁
塗工装置用スリットノズルのクリーニング装置及び塗工装置例文帳に追加
CLEANING DEVICE FOR SLIT NOZZLE FOR COATING APPARATUS AND COATING APPARATUS - 特許庁
スリットノズルにおける塗布液の漏れを防止する性能を高める。例文帳に追加
To enhance the performance preventing leakage of a coating liquid in a slit nozzle. - 特許庁
基板処理装置およびスリットノズルへの処理液の充填方法例文帳に追加
SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR FILLING SLIT NOZZLE WITH TREATMENT LIQUID - 特許庁
複合スリットノズル３３は、処理液を膜状にして噴出する第１スリットノズルと、第１スリットノズルの上流側にあってそのノズルから噴射される処理液の液膜に沿ってエアを噴出する第２スリットノズルとからなり、基板１００の進行方向へ傾斜して固定される。例文帳に追加
The composite slit nozzle 33 comprises a first slit nozzle which jets treatment liquid in a film form, and a second slit nozzle which, positioned on the upper stream side of the first slit nozzle, jets air along the liquid film of the treatment liquid jetted from the nozzle, and is tilted and secured in the advancing direction of a substrate 100. - 特許庁
複合スリットノズル３３は、処理液を膜状にして噴出する第１スリットノズルと、第１スリットノズルの上流側にあってそのノズルから噴射される処理液に沿ってエアを噴出する第２スリットノズルとからなり、基板１００の進行方向へ傾斜して固定される。例文帳に追加
The compound slit nozzle 33 comprises a first slit nozzle for jetting treatment liquid in a film shape, and a second slit nozzle that is located at the upstream side of the first slit nozzle for jetting air along the treatment liquid that is jetted from the nozzle, and is fixed while being tilted in the traveling direction of a substrate 100. - 特許庁
基板処理装置およびスリットノズル先端の清浄化方法例文帳に追加
SUBSTRATE-PROCESSING EQUIPMENT AND CLEANING METHOD OF SLIT NOZZLE TIP - 特許庁
スリットノズルの状態を最適化して、塗布ムラを抑制する。例文帳に追加
To inhibit application unevenness by optimizing the state of a slit nozzle. - 特許庁
スリットノズル洗浄剤及び表示素子用基板の製造方法例文帳に追加
SLIT NOZZLE DETERGENT AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR DISPLAY ELEMENT - 特許庁
基板処理装置１における動作において、スリットノズル４１ａによる塗布処理を行ってる間にスリットノズル４１ｂについてのメンテナンスを行い、スリットノズル４１ｂによる塗布処理を行っている間にスリットノズル４１ａについてのメンテナンスを行う。例文帳に追加
When this substrate treatment apparatus 1 is operated, the slit nozzle 41b is maintained while the coating is performed by the slit nozzle 41a, and the slit nozzle 41a is maintained while the coating is performed by the slit nozzle 41b. - 特許庁
スリットノズルを分解することなく、少ない溶剤使用量で、供給配管およびスリットノズルの内部に残る塗布液を洗浄除去できるとともに、洗浄後の乾燥も早く、このスリットノズルを用いた塗布工程を素早く再開することのできるスリットノズルの洗浄方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of cleaning slit nozzle which can wash away a coating liquid remaining within a supply tube and a slit nozzle with a small amount of a solvent used and without disassembling the slit nozzle, allow rapid drying after cleaning and enable resuming quickly the coating process using the slit nozzle. - 特許庁
なお、スリットノズル９は、ヘッダー６の内部に設けられていてもよい。例文帳に追加
The slit nozzle 9 can be provided inside the header 6. - 特許庁
このスリットノズル洗浄部５２は、スリットノズル３２の吐出口周辺部に沿ってスリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向（Ｙ方向）で移動するキャリッジ６４を有している。例文帳に追加
A slit nozzle cleaning part 52 has a carriage 64 which moves in a cleaning scanning direction (Y-direction) horizontal in parallel to the longitudinal direction of a slit nozzle along a peripheral part of a discharge port of a slit nozzle 32. - 特許庁
スリットノズルの洗浄ムラが起こることなく、且つ洗浄液の節約のできるコンパクトなスリットノズルの調整装置及びこの調整装置を用いるスリットノズルの調整方法を提供する。例文帳に追加
To provide a device for adjusting a compact slit nozzle without causing washing nonuniformity of the slit nozzle and also being able to save a washing liquid, and a method for adjusting the slit nozzle using the device for adjusting. - 特許庁
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