「スリットノズル」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

基板処理装置１の本体２に複数のスリットノズル４１ａ，４１ｂを設ける。例文帳に追加

A plurality of slit nozzles 41a, 41b are arranged in the apparatus body 2 of this substrate treatment apparatus 1. - 特許庁

スリットノズルから安定した塗布幅で処理液を塗布することができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide technology for applying processing liquid from a slit nozzle by stable application width. - 特許庁

スリットノズルを備えた基板処理装置において、適切に基板を搬送する。例文帳に追加

To properly convey a substrate in a substrate processing apparatus equipped with a slit nozzle. - 特許庁

小型で加工精度のよいスリットノズルによって塗布処理の精度を向上させることができる。例文帳に追加

The accuracy of the application processing is improved by the small-sized slit nozzle with excellent working accuracy. - 特許庁

基板の主面とスリットノズルの先端との間に、所望の液溜まりを効率よく形成する。例文帳に追加

To efficiently form a liquid reservoir as desired between the principal plane of a substrate and the tip of a slit nozzle. - 特許庁

そして、溝４０ａ内をスリットノズル４１が長手方向に移動可能となっている。例文帳に追加

Then, the slit nozzle 41 is movable in a longitudinal direction inside the groove 40a. - 特許庁

高精度な塗布処理が可能な基板処理装置およびスリットノズルを提供する。例文帳に追加

To provide a substrate treating device and a slit nozzle that can perform high-accuracy coating. - 特許庁

シャワーユニット３４を用いた処理部の入口部分に、複合スリットノズル３３を設ける。例文帳に追加

A composite slit nozzle 33 is provided to an inlet of a treatment part which uses a shower unit 34. - 特許庁

スリットノズルに接触する対象物の検出精度の低下を防止する。例文帳に追加

To prevent the deterioration of the detection accuracy of an object which comes into contact with a slit nozzle. - 特許庁

このスリットノズル１０、１４は、この棒鋼２の外周に沿うように配置される。例文帳に追加

The slit nozzles 10, 14 are arranged along the outer circumference of the bar steel 2. - 特許庁

基板上に形成される塗膜の厚さを均一にできるスリットノズルを提供する。例文帳に追加

To provide a slit nozzle capable of uniforming the thickness of the coating film formed on a substrate. - 特許庁

スリットノズル４２は昇降機構により昇降するが、連結ブラケット４５は昇降させない。例文帳に追加

Although a slit nozzle 42 is lifted by lifting mechanisms, each coupling bracket 45 is not lifted. - 特許庁

スリットノズル２２４は第２の方向Ｙに移動するとともに基板１００上に現像液を吐出する。例文帳に追加

Moving in a second direction Y, a slit nozzle 224 discharges a developing solution on the substrate 100. - 特許庁

コストの増大を抑制しつつ、確実にスリットノズルと干渉物との衝突を回避させる。例文帳に追加

To suppress the increase of cost and to surely prevent the collision between a slit nozzle and an interfering object. - 特許庁

ガス吹き付けには、例えばスリットノズル３を用い、これを移動させながら吹き付ける。例文帳に追加

In gas blasting, for example, a slit nozzle 3 is used, and sprays while moving this. - 特許庁

このスリットノズル１０、１４から噴出される冷却水の噴出量は、周方向に変えられる。例文帳に追加

The amounts of the cooling water to be jetted from the slit nozzles 10, 14 are varied in the circumferential direction. - 特許庁

スリットノズル６の長手方向に沿って移動可能とされたスリットノズル洗浄装置１０において、スリットノズル６に洗浄液を噴出する洗浄液噴出口１９を備えた洗浄液供給部１７と、スリットノズル６に付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材１６と、エア噴出口（２３，２３）を備えた乾燥部１８とが順に設けられている構成とする。例文帳に追加

The apparatus 10 for cleaning the slit nozzle 6 is provided in order with a washing liquid supply part 17 equipped with a washing liquid jetting port 19 to jet a washing liquid to the slit nozzle 6, a wiping member 16 to wipe the washing liquid sticking to the slit nozzle 6 and a drying part 18 equipped with an air jetting ports (23, 23). - 特許庁

塗布装置は、ローラ６２、洗浄ノズル６３ｂ（６４ｂ）及びスリットノズルを備えている。例文帳に追加

The coating device includes a roller 62, a cleaning nozzle 63b (64b), and a slit nozzle. - 特許庁

スリットノズル４１は、基板の表面に処理液（たとえばレジスト液）の層を形成する。例文帳に追加

A layer of the treating liquid (e.g. a resist liquid) is formed on the surface of a substrate through the slit nozzle 41. - 特許庁

この形成工程において、吐出ポンプからスリットノズルにレジスト液を供給することによって、スリットノズルから所定量のレジスト液を吐出する。例文帳に追加

In this process for forming a liquid reservoir, a resist liquid is supplied from a discharge pump to the slit nozzle so that the resist liquid is discharged in a predetermined amount from the slit nozzle. - 特許庁

スリットノズルを用いて基板上に塗布液を塗布する基板塗布方法及び装置において、待機時間におけるスリットノズル内の塗布液の乾燥及び酸化等の液劣化を抑制する。例文帳に追加

To limit solution deterioration such as drying, oxidation, etc. of a coating solution inside the slit nozzle during standby in substrate coating methods and devices that coat coating solutions on substrates using slit nozzles. - 特許庁

エアーナイフ装置４における空気吹き付け用のスリットノズル５に副ノズル６が併設され、この副ノズル６は、スリットノズル５の先端に向けて空気８を送風可能である。例文帳に追加

Sub nozzles 6 are provided beside the air-blowing slit nozzle 5 in the air knife device 4. and the sub nozzles 6 can blow air 8 toward the tip of the slit nozzle 5. - 特許庁

スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。例文帳に追加

An ejection port of a slit nozzle 72 is opposed in parallel to the apex of a priming roller 14, and the slit nozzle 72 is caused to eject a resist liquid R of a specified quantity while causing the priming roller 14 to remain in a standstill. - 特許庁

このとき、スリットノズル４１ａについては（＋Ｘ）方向が走査方向となる向きで取り付け、スリットノズル４１ｂについては（−Ｘ）方向が走査方向となる向きに取り付ける。例文帳に追加

At this time, the slit nozzle 41a is provided in a manner that (+X) direction is coincided with the scanning direction, and the slit nozzle 41b is provided in a manner that (-X) direction is coincided with the scanning direction. - 特許庁

塗布処理においてスリットノズル１が進行すべき基板９０上に、異物などの被検出体ＮＧが存在する場合は、被検出体ＮＧがスリットノズル１と接触する前に、プレート６１と接触する。例文帳に追加

When there is a to-be-detected target NG, e.g. foreign matter, on a substrate 90 along which the slit nozzle 1 progresses during coating treatment, the target NG comes in contact with the plate 61 before coming in contact with the slit nozzle 1. - 特許庁

鋼帯の幅方向に延びるスリットノズルを用いた鋼帯の冷却装置において、スリットノズルからの冷媒ガスの吹き付けによる鋼帯のバタツキを低減すること。例文帳に追加

To reduce the fluttering of a steel strip due to a refrigerant gas sprayed from a slit nozzle in an apparatus for cooling the steel strip with the use of the slit nozzle which extends in a width direction of the steel strip. - 特許庁

洗浄液供給部３６から供給される洗浄液をスリットノズル３１から吐出することによって、現像処理においてスリットノズル３１およびノズル配管３２などに付着・残留した現像液を洗浄する。例文帳に追加

A cleaning solution fed from the cleaning solution feeder 36 is discharged from the slit nozzle 31 to clean up a developing solution sticking or remaining in the slit nozzle 31 and the nozzle pipe 32 after a development. - 特許庁

スリットノズル６には、搬送方向と直交する方向に沿って処理液供給口が設けられており、スリットノズル６は、処理液供給口が基板Ａの搬送方向と対向する方向に傾斜配置されている。例文帳に追加

The slit nozzle 6 has a processing liquid supply opening at right angles to the conveying direction and is arranged obliquely, so that the processing liquid supply opening faces the conveying direction of the substrate A. - 特許庁

塗布処理において、塗布位置に移動したスリットノズル４２を振動抑制ユニット４６から進出した固定パッドにより押圧して、スリットノズル４２と連結ブラケット４５とを固定する。例文帳に追加

In a coating processing, the slit nozzle 42 which has been moved to a coating position is so pressed by fastening pads proceeding from the vibration suppressing units 46 as to fasten the slit nozzle 42 to the coupling brackets 45. - 特許庁

また、拭き取り部材１３はスポンジ、ゴム、樹脂などの比較的軟らかい材料で構成され、スリットノズル１００が下降した場合にスリットノズル１００の下端部形状に倣って、ある程度の幅で接触する。例文帳に追加

Furthermore, the wiping member 13 is composed of a relatively soft material such as sponge, rubber, resin or the like, and comes into contact with the slit nozzle 100 in a certain width in accordance with a shape of the lower end part of the slit nozzle 100 when the slit nozzle 100 falls. - 特許庁

スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、プライミングローラ１４を静止させたままで、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。例文帳に追加

An ejection port of a slit nozzle 72 is opposed in parallel to an apex of a priming roller 14, and the slit nozzle 72 is caused to eject resist liquid R of a specified quantity while causing the priming roller 14 to remain in a standstill. - 特許庁

スリットノズル５には、搬送方向と直交する方向に沿って処理液供給口が設けられており、スリットノズル５は、処理液供給口が基板Ａの搬送方向に向くように傾斜配置されている。例文帳に追加

The slit nozzle 5 has a processing liquid supply opening at right angles to a conveying direction and is arranged obliquely, so that its processing liquid supply opening faces in the conveying direction of a substrate A. - 特許庁

ヘッダー６の流出口８側には、スリットノズル９の側面９ａがヘッダー６の側面６ａに接して設けられ、スリットノズル９の上端には冷却水の流入口１３が形成されている。例文帳に追加

On the flow-out opening 8 side of the header 6, the side surface 9a of the slit nozzle 9 is formed in contact with the side surface 6a of the header 6, and the flow-in opening 13 of the cooling water is formed on the upper end of the slit nozzle 9. - 特許庁

すると、ポンプ２３の駆動でスリットノズル８は吐出口から洗浄液を吸い上げ、スリットノズル８内を洗浄し、排出ライン２０を介し排液タンクなどに排出される。例文帳に追加

As a result, the cleaning liquid is sucked by the slit nozzle 8 from a discharge port by the drive of the pump 23 to clean the inside of the slit nozzle 8 and discharged to a waste liquid tank through a discharge line 20. - 特許庁

スリットノズルの幅を確実に、かつ、容易に調整することができるようにして、スリットノズルから押し出され、基材上に塗布される塗工材の幅を短時間で正確に変更することができるようにする。例文帳に追加

To change the width of a coating material extruded from a slit nozzle and applied on a base material precisely in a short time by adjusting the width of the slit nozzle surely and easily. - 特許庁

スリットノズル４１を洗浄する洗浄部７４に、スリットノズル４１の吐出口４１ａの下方に近接させるガイドブロック７４３を設ける。例文帳に追加

A guide block 743 for approaching below a discharge port 41a of a slit nozzle 41 is provided at a washing section 74 for washing a slit nozzle 41. - 特許庁

浸漬式洗浄部は、スリットノズルを一定時間以上使用しないときは、スリットノズル先端を浸漬して保持する乾燥防止部を兼ねる。例文帳に追加

The immersion type washing part also serves as a drying prevention part which holds the tip end of the slit nozzle in immersed state when the slit nozzle is not used for a prescribed time or longer. - 特許庁

スリットノズル４１を（＋Ｘ）方向に移動させつつ、塗布処理を行う基板処理装置において、基板を保持する保持面３０と対向するように、スリットノズル４１に対向面４１０を形成する。例文帳に追加

In a substrate treatment apparatus for carrying out coating work while moving the slit nozzle 41 in (+X) direction, an opposed surface 410 is formed on the slit nozzle 41 to face a holding surface 30 for holding the substrate. - 特許庁

本塗布処理におけるスリットノズル４１の走査方向（（＋Ｘ）方向）とは逆方向（（−Ｘ）方向）にスリットノズル４１を走査させつつ、予備塗布部材であるローラ７１にレジスト液を塗布して予備塗布処理を行う。例文帳に追加

Preliminary application processing is performed by applying resist liquid to a roller 71 of a spare applying member while making the slit nozzle 41 scan in the direction ((-X) direction) opposite to the scanning direction ((+X) direction) of the slit nozzle 41 in this application processing. - 特許庁

スリットノズル３１から塗布液２０を塗布して塗布膜を形成する第１の工程と、次なる基板上に塗布液２０を塗布せずに待機する第２の工程と、スリットノズル３１の下方位置にその吐出口３０から間隔を経て配置されるローラ部５０に塗布液２０を吐出する第３の工程と、を含み、第２の工程において、スリットノズル３１からローラ部５０へ塗布液２０を吐出させる。例文帳に追加

The substrate coating method includes: a first process of forming a coating film by coating a coating solution 20 from a slit nozzle 31; a second process of standing by without coating the coating solution 20 on the next substrate; and a third process of discharging the coating solution 20 onto a roller part 50 that is disposed below the slit nozzle 31 with an interval from the discharge opening 30 thereof. - 特許庁

本発明のスリットノズルの吐出均一度測定装置は、スリットノズルの幅方向に対して前記スリットノズルから吐出される吐出液を一定区間別に分配する吐出液分配器と、前記吐出液分配器から分配されたそれぞれの吐出液の量を測定する吐出液測定ユニットと、を備える。例文帳に追加

The measuring apparatus of uniformity in the discharge of the slit nozzle comprises: a discharge liquid distributor for distributing a discharge liquid discharged from the slit nozzle to the widthwise direction of the slit nozzle for each fixed section; and a discharge liquid measurement unit for measuring the amount of discharge liquid distributed from the discharge liquid distributor. - 特許庁

また、本発明のスリットノズルの吐出均一度測定方法は、スリットノズルの幅方向に対して一定区間別に前記スリットノズルから吐出される吐出液を分配するステップと、前記分配された吐出液を個別的に収集するステップと、前記それぞれ収集された吐出液の吐出量を測定するステップと、を含む。例文帳に追加

The measurement method of uniformity in the discharge of the slit nozzle includes: a step of distributing the discharge liquid discharged from the slit nozzle for each fixed section to the widthwise direction of the slit nozzle, a step of collecting the distributed discharge liquid individually, and a step of measuring the amount of discharge of the collected discharge liquid. - 特許庁

このときに、スリットノズル２０を水平方向に移動させつつ、センサ２９にスリットノズル２０と基板Ｗとの間隔を連続的に計測させ、制御部５０がその計測結果に基づいて、スリットノズル２０と基板Ｗとの間隔が常に一定の最適値となるようにパルス制御式モータ３０を制御して、基板Ｗを昇降させる。例文帳に追加

At this time, a distance between the slit nozzle 20 and the substrate W is continuously measured by a sensor 20 while the slit nozzle 20 is moved in the horizontal direction, and a control part 50 controls the pulse-controlled motor 30 based on the measuring results so that the distance between the slit nozzle 20 and the substrate W normally becomes a constant optimum value to ascend and descend the substrate W. - 特許庁

スリットノズル４１を充填ポットＰＴ１上に配置し、レジスト液を供給口４６から供給する。例文帳に追加

The slit nozzle 41 is arranged on a filling pot PT1 and a resist liquid is supplied from a supply port 46. - 特許庁

基板処理装置１の架橋構造に、走査方向に指向性を有する２つのスリットノズル４１ａ，４１ｂを取り付ける。例文帳に追加

Two slit nozzles 41a and 41b with directionality in the scanning direction are provided to a bridging structure of the substrate processing apparatus 1. - 特許庁