「ターゲ」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

薄膜形成用Ｉｒスパッタリングターゲット材およびＩｒスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

Ir SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING Ir SPUTTERING TARGET - 特許庁

処理デバイスは、ターゲット面の凹凸を補正するターゲット面の補正マップを含む。例文帳に追加

The processing device includes a correction map of the target surface to correct the irregularities of the target surface. - 特許庁

ロボットのターゲット位置検出装置、半導体装置およびターゲット位置検出方法例文帳に追加

TARGET POSITION DETECTION APPARATUS FOR ROBOT, SEMICONDUCTOR DEVICE AND TARGET POSITION DETECTION METHOD - 特許庁

ターゲット位置検出部３１では、その画像から２つのターゲットの位置を検出する。例文帳に追加

A target position detection part 31 detects the positions of the two targets from the image. - 特許庁

珪化鉄スパッタリングターゲットの製造方法及び珪化鉄スパッタリングターゲット例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET AND IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET - 特許庁

セラミックス−金属複合材料からなるスパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL COMPOSED OF CERAMICS-METAL COMPOSITE MATERIAL, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁

スパッタリングターゲットの製造方法、スパッタリングターゲット、スパッタリング装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁

スパッタターゲット中の窒素含有量のバラツキは、ターゲット全体として±30% 以内とされている。例文帳に追加

Nitrogen contained in the sputtering target may vary from +30% to -30% in content. - 特許庁

第１の要求は、ターゲット識別子と、このターゲット位置を求める時刻と、を含む。例文帳に追加

The first request includes a target identifier, and time of day for finding the target position. - 特許庁

スパッタリングターゲット製造用はんだ合金およびこれを用いたスパッタリングターゲット例文帳に追加

SOLDER ALLOY FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME - 特許庁

酸化物ターゲットを希ガスでスパッタすることによりターゲット材料を基板上に堆積する。例文帳に追加

The target material is deposited on the substrate by sputtering the oxide target with noble gas. - 特許庁

スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット例文帳に追加

SINTERED COMPACT FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁

スパッタリング用のターゲット及びこのターゲットを用いたスパッタリング方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE TARGET - 特許庁

金属シリサイド配線用スパッタターゲットおよびこのスパッタターゲットの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR METAL SILICIDE WIRING AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

モニターゲーム及びモニターゲームを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体例文帳に追加

MONITOR GAME AND RECORDING MEDIUM READABLE BY COMPUTER RECORDING MONITOR GAME - 特許庁

スパッタリングターゲット用バッキングプレートおよびターゲット／バッキングプレート組立体例文帳に追加

BACKING PLATE FOR SPUTTERING TARGET AND TARGET/BACKING PLATE ASSEMBLED BODY - 特許庁

ターゲット核酸断片の検出方法及びターゲット核酸断片の検出キット例文帳に追加

METHOD FOR DETECTING TARGET NUCLEIC ACID FRAGMENT AND DETECTION KIT FOR TARGET NUCLEIC ACID FRAGMENT - 特許庁

ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET OF SnO2O2-Sb2O3 SINTERED COMPACT, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE TARGET - 特許庁

スパッタリング用ターゲット１の外径（Ｃ）は、ターゲット表面温度分布が考慮されている。例文帳に追加

Regarding the outside diameter (C) of a target 1 for sputtering, a target surface temperature distribution is considered. - 特許庁

無酸素銅スパッタリングターゲット材及び無酸素銅スパッタリングターゲット材の製造方法例文帳に追加

OXYGEN-FREE COPPER SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME - 特許庁

ターゲット端末１００は、更新対象であるターゲット側ソフトウェア１１０１を格納している。例文帳に追加

The target terminal 100 stores target-side software 1101 being the object of update. - 特許庁

ターゲット核酸断片の分析方法及びターゲット核酸断片の分析キット例文帳に追加

METHOD FOR ANALYZING TARGET NUCLEIC ACID FRAGMENT AND KIT FOR ANALYZING TARGET NUCLEIC ACID FRAGMENT - 特許庁

銅スパッタ・ターゲットの製造方法および銅スパッタ・ターゲットと裏当て板の組立体例文帳に追加

MANUFACTURE OF COPPER SPUTTERING TARGET, AND ASSEMBLY OF COPPER SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE - 特許庁

スパッタリングターゲット、並びに接合型スパッタリングターゲット及びその作製方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, JOINT TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

スパッタターゲットおよびスパッタターゲットから形成されるハードディスクの記録材例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND RECORDING MATERIAL OF HARD DISK FORMED FROM THE SPUTTERING TARGET - 特許庁

またターゲット本体３１の熱伝導率は、ターゲット被膜３２の熱伝導率よりも大きい。例文帳に追加

The thermal conductivity of the target body 31 is larger than that of the target coating 32. - 特許庁

ターゲット・シャフト（２０）がターゲット・ディスク要素（１８）に回転駆動力を伝達する。例文帳に追加

A target shaft (20) transmits a rotation drive force to the target disk element (18). - 特許庁

導電性フィルム、これを用いたスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET - 特許庁

ターゲット組立体及びこのターゲット組立体を備えたスパッタリング装置例文帳に追加

TARGET ASSEMBLY AND SPUTTERING APPARATUS PROVIDED WITH THE TARGET ASSEMBLY - 特許庁

ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target having excellent target strength, and a high sputtering rate. - 特許庁

マルチターゲット同時レーザアブレーション堆積装置と同アブレーション堆積用ターゲットホルダー例文帳に追加

MULTITARGET SIMULTANEOUS LASER ABLATION DEPOSITION SYSTEM, AND TARGET HOLDER FOR THE ABLATION DEPOSITION THEREFOR - 特許庁

ここで、ターゲット位置（ターゲット値）からのずれ（位置誤差）を示す信号をＰＥＳと呼ぶ。例文帳に追加

At this time, the signal indicating a deviation (position error) from the target position (target value) is called PES. - 特許庁

ＬＰＰは、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。例文帳に追加

LPP is formed by using an LPP target system having a light source portion and a target portion. - 特許庁

スパッタリング用ターゲットから垂直方向に叩き出されるターゲット原子の個数を増大させる。例文帳に追加

To increase the number of target atoms vertically beat out from a sputtering target. - 特許庁

ポリイミド膜２上に形成されたAuターゲット２を備えるX線ターゲット。例文帳に追加

The x-ray target is provided with an Au target 3 formed on an polyimide film 2. - 特許庁

励起状態を経てターゲットをイオン化する場合でもターゲットの高いイオン化効率を実現する。例文帳に追加

To achieve high ionization efficiency of a target even when ionizing the target through an excitation condition. - 特許庁

電子ビームのターゲット部Ｔでの照射野の径は、ターゲット体２３の径よりも大きい。例文帳に追加

The diameter of the irradiation field in the target T of the electron beam is larger than the diameter of the target body 23. - 特許庁

そしてユーザはターゲット画像としてターゲットを所望のズーム倍率で撮影する（Ｓ１２）。例文帳に追加

Then the user captures an image at a desired zoom magnification as a target image (S12). - 特許庁

回転ターゲット組立体は、円筒形ターゲットと円筒形支持管とを有する。例文帳に追加

The rotary target assembly includes a cylindrical target and a cylindrical supporting pipe. - 特許庁

ターゲット部Ｔは、基板２１と、基板２１に埋設されたターゲット体２３と、を有している。例文帳に追加

The target T has a substrate 21, and a target body 23 embedded in the substrate 21. - 特許庁

冷却能力の向上を図ることが可能なターゲット及びターゲット装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a target and a target device capable of improving cooling capacity. - 特許庁

ターゲット材製造方法、ガンマ線源装置およびターゲット材製造装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL, GAMMA-RAY SOURCE ASSEMBLY AND DEVICE FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL - 特許庁

スパッタターゲット材料、磁気記録媒体及びスパッタターゲット材料の製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁

このモーションを、ターゲット・キャラクタの基本要素にリターゲットする（２０６）。例文帳に追加

This motion is retargetted to the basic elements of the target character (206). - 特許庁

ターゲットを確実に再処理できるＸ線管用ターゲット再処理方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of reprocessing a target for an X-ray tube, which can surely reprocess the target. - 特許庁