「チチン」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

そのため、スイッチチング素子のターンオン時にリアクトルに発生する高電圧をコンデンサに蓄電することができる。例文帳に追加

Consequently, a high voltage being induced in the reactor when the switching element is turned on/off can be stored in the capacitor. - 特許庁

スダチを、マイクロ波を照射しながら有機溶剤で抽出処理し、スダチチンを含有する抽出液を得る。例文帳に追加

Citrus sudachi is subjected to an extraction treatment with an organic solvent under irradiation with microwaves to give an extract liquid containing sudachitin. - 特許庁

第１導体層１１２は、裏面から基板材料を選択的に除去するエッチチングの停止層として用いられる。例文帳に追加

The primary conductor layer 112 is used as a stopping layer for etching to alternatively eliminate a board material from a rear surface. - 特許庁

効率的にノビレチンを得ることができるノビレチンの製造方法およびノビレチンを得るのに好適なノビレチンの前駆物質であるスダチチンの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of nobiletin for efficiently obtaining nobiletin and a manufacturing method of sudachitin as a precursor substance of nobiletin suitable for obtaining nobiletin. - 特許庁

１４０〜１８０℃の亜臨界水に５分以下の時間で柑橘類の果皮を接触させることで前記亜臨界水中にポリメトキシフラボノイド、例えばノビレチンやスダチチンを抽出する。例文帳に追加

The method for recovering the polymethoxyflavonoid such as Nobiletin or Sudachitin from the pericarp of a citrus includes contacting the pericarp of the citrus with 140 to 180°C semi-critical water for a time of ≤5 minutes to extract the polymethoxyflavonoid in the semi-critical water. - 特許庁

画素選択スイッチチング素子のオン抵抗にバラツキがあったとしても、アクティブマトリクス基板上の画素駆動セルの欠陥を正確に判定すること。例文帳に追加

To provide an inspection, method by which any imperfection of a pixel driving cell on an active matrix substrate is accurately detected even when there is variation of on-resistance of pixel selection switching elements. - 特許庁

抽出物の全体量、ジエチルエーテルで抽出されるエーテル抽出物の全量、ノビレチンやスダチチンの抽出量のすべての項目において、亜臨界水抽出処理を行った方がエタノール抽出処理を行った場合よりも大きいことが確認された。例文帳に追加

It has been ascertained that all the total amount of the extract, the total amount of an ether extract extracted with diethyl ether, and the extract amounts of the Nobiletin and the Sudachitin by the semi-critical water extraction treatment are larger than those by the conventional ethanol extraction treatment. - 特許庁

多結晶Ｓｉ（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）、Ｓｉ酸化膜（ＳｉＯ_２）などにダメージを与えることなく、ゲート絶縁膜として用いられる難溶性の高誘電体材料であるハフニウム酸化膜等に対する選択エッチチングレートが大きく、なおかつフッ酸を含まないエッチング液を提供する。例文帳に追加

To provide an etching solution which does not damage polycrystal Si(poly-Si) and a Si oxide film (SiO_2), has a highly selective etching rate to a hafnium oxide film of a hardly-soluble high-dielectric material used as a gate insulation film, and does not include hydrofluoric acid. - 特許庁