| 例文 (9件) |
ロマスを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
シロマス類の1属例文帳に追加
whitefishes - 日本語WordNet
アメリカのクロマス科の淡水魚と同様の熱帯アメリカ、アフリカとアジアの淡水魚例文帳に追加
freshwater fishes of tropical America and Africa and Asia similar to American sunfishes - 日本語WordNet
ロ マスタースレーブ方式によって制御するものものであって、動作自由度が五以上のもの例文帳に追加
(b) Remote control manipulators which control the use of a master-slave system with a degree of freedom of motion of 5 or more - 日本法令外国語訳データベースシステム
シリコン針状錘体は、シリコン基板又はシリコン層中に形成された不純物析出領域をマイクロマスクとして、シリコン基板またはシリコン層を高選択比異方性エッチングすることにより、マイクロマスクを頂点として形成される。例文帳に追加
The silicon needle-shaped cones having micromasks as vertexes, are formed by high selective ratio anisotropic etching of a silicon substrate or a silicon layer while using an impurity deposition area formed in the silicon substrate or the silicon layer as the micromasks. - 特許庁
針状突起はシリコン針状錘体であり、このシリコン針状錘体は、シリコン基板又はシリコン層中に形成された不純物析出領域をマイクロマスクとして、シリコン基板またはシリコン層を高選択比異方性エッチングすることにより、マイクロマスクを頂点として形成された錘型構造物である。例文帳に追加
The acicular projection is a silicon acicular cone, and the silicon acicular pyramid is a pyramidal structure formed by using a micromask as the apex obtained by subjecting a silicon substrate or a silicon layer to high selective anisotropy etching by using an impurity deposition region formed in the silicon substrate or the silicon layer as the micromask. - 特許庁
シリコン基板の表面をサーマルクリーニングする工程と、基板の表面にインサイチュ方式のＳｉ_３Ｎ_４マイクロマスクを形成する工程と、マイクロマスクの開口部を通じるエピタキシャル横方向過度成長（ＥＬＯ）方法で窒化ガリウム層を成長させる工程と、を含む窒化ガリウム成長用基板の製造方法。例文帳に追加
The method for preparing the substrate for growing gallium nitride includes performing thermal cleaning on a surface of a silicon substrate, forming a Si_3N_4 micro-mask on the surface of the silicon substrate in an in situ manner, and growing a gallium nitride layer through epitaxial lateral overgrowth (ELO) using an opening in the micro-mask. - 特許庁
導波層内を伝搬する導波光１−１５は、導波層内に作り込まれたホログラムによって回折され、開ロマスク１−１６、透明平板１−５を通過し、二次元受光素子１−６上で結像する。例文帳に追加
The guided beam 1-15 propagated through the waveguide layer is diffracted by a hologram formed in the waveguide layer, is passed through an opening mask 1-16 and a transparent planar plate 1-5, and is focused on a two-dimensional photodetector 1-6. - 特許庁
（ロ）マス目のよこの列左はしに上から順に繰越（１）、資金の移動（２）、収入、仕入、費用、負債、現金に属する項目を含まないその他の資産の各勘定科目（３）を記載する。例文帳に追加
In the sections at the left end in horizontal rows, (1) deferred account, (2) movement of funds and (3) respective account items of other funds not including items belonging to receipt, purchase, expense, liability and cash are entered from the above downwards. - 特許庁
シリコン基板或いはシリコン層中に不純物、例えば酸素を導入し、熱処理することにより不純物析出領域を形成し、この析出領域をマイクロマスク１４として高選択比異方性エッチングを行う。例文帳に追加
An impurity, for example oxygen, is introduced into a silicon substrate or a silicon layer, and heat treatment is carried out so that an impurity deposition region is formed, and highly selective ratio anisotropic etching is carried out by using the deposition region as a micromask 14. - 特許庁
| 例文 (9件) |
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 | ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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