「堆積層」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

原子層堆積装置例文帳に追加

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS - 特許庁

原子層堆積装置及び原子層堆積方法例文帳に追加

ATOMIC LAYER DEPOSITION DEVICE AND ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD - 特許庁

粘土の層が次々と堆積してできた堆積岩例文帳に追加

a sedimentary rock formed by the deposition of successive layers of clay  - 日本語WordNet

層において形成、配列、堆積する例文帳に追加

form, arrange, or deposit in layers  - 日本語WordNet

岩（特に堆積岩）の層例文帳に追加

a stratum of rock (especially sedimentary rock)  - 日本語WordNet

石炭紀に堆積した地層例文帳に追加

in geology, a Carboniferous stratum of the earth's surface  - EDR日英対訳辞書

地層を作る物質が堆積した面例文帳に追加

a stratified plane  - EDR日英対訳辞書

第三紀に堆積した地層例文帳に追加

a geographical stratum that accumulated during the Tertiary period  - EDR日英対訳辞書

三畳紀に堆積した地層例文帳に追加

rock strata created in the Triassic period  - EDR日英対訳辞書

洪積世に堆積した地層例文帳に追加

a geologic formation formed during the diluvial epoch  - EDR日英対訳辞書

堆積岩の層状構造例文帳に追加

the stratified struction of sedimentary rock - EDR日英対訳辞書

水中堆積物層厚測定装置例文帳に追加

UNDERWATER SEDIMENT THICKNESS MEASURING DEVICE - 特許庁

原子層堆積方法及び装置例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING ATOMIC LAYER AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

原子層堆積装置及び方法例文帳に追加

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS AND PROCESS - 特許庁

混合堆積層摩擦材料例文帳に追加

MIXED DEPOSIT FRICTION MATERIAL - 特許庁

原子層堆積膜の形成装置例文帳に追加

APPARATUS FOR FORMING ATOMIC LAYER DEPOSITION FILM - 特許庁

オルガノシリケート層の堆積方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING ORGANOSICATE LAYER - 特許庁

粉体堆積層角度測定装置例文帳に追加

ANGLE MEASUREMENT APPARATUS OF POWDER SEDIMENTATION LAYER - 特許庁

原子層堆積法によって基板に二酸化シリコン層を堆積する方法例文帳に追加

METHOD OF DEPOSITING SILICON DIOXIDE LAYER ON SUBSTRATE BY ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD - 特許庁

粒子堆積層形成装置及び粒子堆積層形成方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING PARTICLE-DEPOSITED LAYER - 特許庁

原子層堆積法用薬剤及び原子層薄膜堆積法例文帳に追加

CHEMICAL FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD, AND ATOMIC LAYER THIN FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁

一連の堆積技術を用いる耐火性金属層を堆積する方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING REFRACTORY METAL LAYER EMPLOYING SEQUENTIAL DEPOSITION TECHNIQUES - 特許庁

酸化物薄膜を堆積する原子層堆積法が提供される。例文帳に追加

An atomic layer deposition method for depositing an oxide thin film is provided. - 特許庁

犠牲層７の上に第２の堆積層６ｂを堆積しつつ、エミッタ上層５ｂを形成する。例文帳に追加

While a second deposited layer is deposited on the layer 7, an emitter upper layer is deposited. - 特許庁

原子層堆積法によって基体上に原子層堆積膜を形成する原子層堆積膜の形成装置２００である。例文帳に追加

The apparatus 200 for forming atomic layer deposition film forms an atomic layer deposition film on a base body according to an atomic layer deposition method. - 特許庁

搬送工程の後、異なる半導体材料の追加の層を、第二チャンバ２６において、気相堆積によって第一堆積層の上に堆積させる。例文帳に追加

After the transferring step, an additional layer of a different semiconductor material is deposited on the first deposited layer in the second deposition chamber 26 by using vapor deposition. - 特許庁

バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。例文帳に追加

The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer. - 特許庁

層のスタック堆積方法、共振器の形成方法、圧電層の堆積方法、および、共振器例文帳に追加

STACK DEPOSITION METHOD FOR LAYER, FORMATION METHOD OF RESONATOR, DEPOSITION METHOD FOR PIEZOELECTRIC LAYER, AND THE RESONATOR - 特許庁

窒化物半導体多層堆積基板および窒化物半導体多層堆積基板の形成方法例文帳に追加

NITRIDE SEMICONDUCTOR MULTILAYER DEPOSITED SUBSTRATE AND FORMATION THEREOF - 特許庁

堆積厚測定方法、材料層の形成方法、堆積厚測定装置および材料層の形成装置例文帳に追加

DEPOSITION THICKNESS MEASUREMENT METHOD, MATERIAL LAYER DEPOSITION METHOD, DEPOSITION THICKNESS MEASUREMENT DEVICE, AND MATERIAL LAYER DEPOSITION APPARATUS - 特許庁

堆積層６ａはそれぞれ何れもＳｉＮから成る層で、堆積時間は１２秒とした。例文帳に追加

Each deposition layer 6a is an SiN layer and its deposition time is 12 sec. - 特許庁

原子層堆積法成膜装置における回転ドラムおよび原子層堆積法成膜装置例文帳に追加

ROTARY DRUM IN FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

本方法では、金層の堆積の開始に先立ち、基体上に基層が堆積される。例文帳に追加

A base layer is deposited on a substrate in prior to the deposition of a gold layer. - 特許庁

高い堆積速度で堆積された平均的な品質のｇ−ＳｉＮ_X膜７２の頂面の上に低い堆積速度で高品質のｇ−ＳｉＮ_X膜７４を堆積し、次いで、アモルファスシリコン層を堆積する。例文帳に追加

On the top surface of a g-SiN_x film 72 of average quality deposited at a high rate of deposition, a high-quality g-SiN_x film 74 is deposited at a low rate of deposition, and after that the amorphous silicon layer is deposited. - 特許庁

層を形成する、または層に堆積する例文帳に追加

forming or depositing in layers  - 日本語WordNet

1つの地層が他の地層に堆積すること例文帳に追加

the deposition of one geological stratum on another  - 日本語WordNet

層を堆積させるための原子層成長法例文帳に追加

ATOMIC LAYER GROWTH METHOD FOR DEPOSITING LAYER - 特許庁

シード層は、原子層堆積法によって形成され得る。例文帳に追加

The seed layer can be formed by an atomic layer deposition technique. - 特許庁

原子層堆積法による光学多層膜の製造方法例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING OPTICAL MULTILAYER FILM BY ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD - 特許庁

次に、ＡＦＭ層２３２は磁性層の上に堆積される。例文帳に追加

Next, the AFM layer 232 is accumulated on the magnetic layer. - 特許庁

酸化物層上には金属層１４が堆積される。例文帳に追加

A metallic material layer 14 is deposited on the oxide layer. - 特許庁

この反応性スパッタ堆積は、第１のウェハが第２のＩＢＳ堆積室で金属層を堆積するのと同時に行われる。例文帳に追加

The reactive sputtering deposition is executed simultaneously with the deposition of the metallic layer on the first wafer in the second IBS deposition chamber. - 特許庁

上記アモルファスＡｌ_２Ｏ_３膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。例文帳に追加

The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process. - 特許庁

この方法は、核生成およびバルク堆積タングステン層を堆積させる段階を含む。例文帳に追加

This method comprises steps of depositing nucleation layer and a bulk deposit tungsten layer. - 特許庁

次に、第２誘電体層をＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ堆積処理を用いて基板上に堆積する。例文帳に追加

Then, a second dielectric layer is deposited on the substrate using CVD or PECVD deposition processing. - 特許庁