意味 | 例文 (999件) |
投影線の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1382件
投影型陰極線管例文帳に追加
PROJECTION TYPE CATHODE-RAY TUBE - 特許庁
投影型X線顕微鏡例文帳に追加
PROJECTION TYPE X-RAY MICROSCOPE - 特許庁
荷電粒子線投影露光方法例文帳に追加
荷電粒子線投影露光装置例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM - 特許庁
電子線投影露光方法例文帳に追加
ELECTRON PROJECTION LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁
荷電粒子線写像投影装置例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM MAPPING AND PROJECTING APPARATUS - 特許庁
荷電粒子線投影露光装置例文帳に追加
軟X線投影露光装置例文帳に追加
SOFT X RAY PROJECTION ALIGNER - 特許庁
写像投影方式電子線装置例文帳に追加
MAPPING PROJECTIION ELECTRON BEAM DEVICE - 特許庁
粒子線投影システムおよび粒子線投影システムの較正方法例文帳に追加
PARTICLE BEAM PROJECTION SYSTEM AND CORRECTION METHOD THEREFOR - 特許庁
荷電粒子線投影露光方法及び荷電粒子線投影露光装置例文帳に追加
METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE - 特許庁
前記投影機は、前記音響投影幕に画像光線を投射する。例文帳に追加
The projector projects an image light beam to the acoustic projection screen. - 特許庁
投影画像分解部9bは、各投影画像を所定のピッチに対応する放射線の投影角度毎に分解して部分投影画像を生成する。例文帳に追加
A projection image analysis part 9b decomposes the respective projection images every projection angle of the radiation corresponding to the prescribed pitch and generates partial projection images. - 特許庁
曲線が投影される投影先曲面が凹曲の円柱面の場合に、前記曲線の投影可能な部分を調べ、投影可能な部分についてのみ投影曲線を生成することができる3次元形状処理方法を提供する。例文帳に追加
To provide a three-dimensional shape processor which examines a projectable part of a curved line when the curved surface to which a curved line is projected is a concaved cylindrical face, and can generate a projection curved line only for projectable part. - 特許庁
電子線投影マスクの検査方法、電子線投影マスクの位置検出方法及び電子線投影マスクの検査装置例文帳に追加
METHOD FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, METHOD FOR DETECTING POSITION OF ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, AND EQUIPMENT FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK - 特許庁
投影システムは、基板上に放射線のビームを放射線のサブビームのアレイとして投影する。例文帳に追加
The projection system projects a beam of radiation onto the substrate as an array of sub-beams of radiation. - 特許庁
白線データ撮像面投影部222は各白線データをカメラ撮像面に投影する。例文帳に追加
A white line data imaging face projecting part 222 projects each white line data onto a camera imaging face. - 特許庁
荷電粒子線投影露光方法、荷電粒子線投影露光装置及び半導体デバイス製造方法例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR PROJECTING CHARGED-PARTICLE BEAM FOR EXPOSURE, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
荷電粒子線写像投影光学系の調整方法及び荷電粒子線写像投影光学系例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM MAPPING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF - 特許庁
荷電粒子線投影露光方法、荷電粒子線投影露光装置及びそれに用いるレチクル例文帳に追加
METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE, AND RETICULE USED IN THE SYSTEM - 特許庁
X線投影露光装置、X線投影露光方法及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加
DEVICE AND METHOD FOR X-RAY PROJECTION AND EXPOSURE AND PRODUCING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
軟X線縮小投影露光装置、軟X線縮小投影露光方法及びパターン形成方法例文帳に追加
SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁
X線投影露光装置およびX線投影露光方法および半導体デバイス例文帳に追加
X-RAY PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD THEREFOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
X線投影露光装置およびX線投影露光方法および半導体デバイス例文帳に追加
X-RAY PROJECTION ALIGNER, X-RAY PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
地物データは,透視投影ではなく,現実の地物CST2を,投影方向PRJに沿う平行線で投影面PL2に投影する方法,つまり平行投影によって生成する。例文帳に追加
The feature data is generated not by perspective projection but by a method for projecting a real feature CST2 to a projection plane PL2 by parallel lines laid along a projection direction PRJ or parallel projection. - 特許庁
スクリーン投影面30に投影される変調光の光軸R−Sをスクリーン投影面30の法線N−Nに対して傾斜させ、実投影範囲EFGHを収容する台形状の範囲ABCDに投影する。例文帳に追加
The optical axis R-S of modulation light projected on a screen projection surface 30 is inclined with respect to the normal N-N of the screen projection surface 30 and the modulation light is projected on the trapezoidal range ABCD storing the actual projection range EFGH. - 特許庁
地物データは,透視投影ではなく,現実の地物CST2を,投影方向PRJに沿う平行線で投影面PL2に投影する方法,つまり平行投影によって生成する。例文帳に追加
The feature data is created by not a perspective projection but a method for projecting actual features CST2 on a projection plane PL2 with parallel lines along the projection direction PRJ, namely, parallel projection. - 特許庁
当該画像から投影波形を求め、投影波形から線列パターンの位置を求める。例文帳に追加
A projection waveform is obtained from the image, and the position of the line string pattern is obtained from the projection waveform. - 特許庁
データ処理方法、逆投影方法、再投影方法、画像再構成方法、および放射線CT装置例文帳に追加
DATA PROCESSING METHOD, BACK PROJECTION METHOD, REPROJECTION METHOD, IMAGE RECONSTRUCTION METHOD, AND RADIOGRAPHIC CT APPARATUS - 特許庁
走査線Yでは、画素電極131が投影された投影部分YGが異形化されている。例文帳に追加
A scanning line Y is deformed at a projection part YG where a pixel electrode 131 is projected. - 特許庁
プロジェクタ31は、球面スクリーン11に球面内部側から投影光線を投影する。例文帳に追加
The projector 31 projects projection light to the spherical surface screen 11 from an inside side of the spherical surface. - 特許庁
陰極線管、投影型表示装置の制御方法及び投影型表示装置例文帳に追加
CATHODE-RAY TUBE, CONTROL METHOD OF PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE, AND PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE - 特許庁
正射影という,垂線の足の軌跡による投影例文帳に追加
a projection on a plane by lines perpendicular to the plane, called orthographic projection - EDR日英対訳辞書
電子線投影露光装置におけるブランキングシステム例文帳に追加
電子銃及び電子線投影露光装置例文帳に追加
ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM PROJECTION AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁
写像投影型電子線式検査装置及びその方法例文帳に追加
MAPPING PROJECTION TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE, AND METHOD THEREFOR - 特許庁
X線投影露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加
X-RAY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
荷電粒子線分割投影転写装置例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM SPLIT PROJECTION TRANSFER APPARATUS - 特許庁
投影データ評価方法およびX線CT装置例文帳に追加
PROJECTION DATA EVALUATION METHOD AND X-RAY CT APPARATUS - 特許庁
荷電粒子線写像投影光学系例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM MAPPING AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
X線CT装置および投影データ収集装置例文帳に追加
X-RAY CT APPARATUS AND PROJECTION DATA COLLECTION EQUIPMENT - 特許庁
荷電粒子線投影系における偏向収差補正例文帳に追加
DEFLECTION ABERRATION CORRECTION IN CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION SYSTEM - 特許庁
マイクロリソグラフィーによる接線偏光型投影露光例文帳に追加
TANGENTIAL POLARIZATION TYPE PROJECTION EXPOSURE BY MICROLITHOGRAPHY - 特許庁
投影像特定方法及び放射線撮像装置例文帳に追加
METHOD OF IDENTIFYING PROJECTION IMAGE AND RADIATION IMAGING DEVICE - 特許庁
X線撮影手段により作成した投影像より3次元再構成像を作成し、再投影領域入力手段により再投影領域を設定した再投影領域を抽出し、この抽出した再投影領域に幾何学系位置情報を付加して再投影像を作成する。例文帳に追加
A three-dimensional reorganized image is formed from a projection image formed by an X-ray photographing means and a re-projection region is set by a re-projection region input means to be extracted and geometrical position data is added to the re-projection region to form a re-projection image. - 特許庁
光源11と、該光源11から出射された光を光学長を連続的に変化させて略直線状の投影指標に整形するプリズム12と、該プリズム12にて整形された投影指標を投影面15に投影するための投影光学系13とを備えた指標投影光学装置。例文帳に追加
The index projecting optical device is equipped with: a light source 11; a prism 12 shaping light emitted from the light source 11 to an almost linear projection index by continuously changing optical length; and a projecting optical system 13 for projecting the projection index shaped by the prism 12 to the projecting surface 15. - 特許庁
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