「硫化ケイ素」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

イオウ元素、リチウム元素、及びホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、リン及びアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも１つの元素を含み、平均粒径が０．０１〜１０μｍである硫化物系電解質粉体であって、好ましくは硫化リチウムとＰ２Ｓ５を用いて得られるものである。例文帳に追加

This is the sulfide-based electrolyte powder which contains at least one element selected from among a group constituted of sulfur element, lithium element, boron, silicon, germanium, phosphorus, and aluminum, and of which the average particle diameter is 0.01 to 10 μm, and preferably, which can be obtained by using lithium sulfide and P2S5. - 特許庁

この窒化ケイ素の粒界相には、金属酸化物（アルミナとイットリアの混合物）が存在しており、この金属酸化物には二硫化モリブデンの粒子が分散している。例文帳に追加

In the grain boundary phase of the silicon nitride, metal oxide (a mixture of aluminum and yttria) exists, in which particles of molybdenum disulfide are dispersed. - 特許庁

金属側のトルク伝達面５ｂまたは８ｇに、二硫化モリブデン、グラファイト、フッ化カルシウムまたは二酸化ケイ素でなる固体潤滑被膜を設ける。例文帳に追加

A solid lubricant film made of a molybdenum disulfide, a graphite, calcium fluoride, or silicon dioxide is formed on the torque transmission surface 5b or 8g on a metal side. - 特許庁

炭化ケイ素：５〜４０ｍｏｌ％を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有し、相対密度が９５％以上有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。例文帳に追加

The sputtering target consists of a sintered body having a composition containing 5 to 40 mol% silicon carbide and the balance zinc sulfide and having ≥95% relative density. - 特許庁

直流スパッタリング可能な硫化亜鉛−ケイ素とチタンの複合酸化物−酸化インジウム系焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target for the formation of an optical logging protection film made of sintered bodies composed of zinc sulfide-silicic and titanic compound oxide-indium oxide, and capable of DC sputtering. - 特許庁

高速でスパッタリングすることが可能な硫化亜鉛−二酸化ケイ素焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target for forming a protective film of an optical recording medium, which is made of a zinc sulfide-silicon dioxide sintered compact and can perform high-speed sputtering, and its manufacturing method. - 特許庁

ナノサイズのコア・シェル構造体であって、（１）前記コアは、硫化スズ粒子であり、（２）前記シェルは、酸化ケイ素膜である、ことを特徴とするコア・シェル構造体。例文帳に追加

A core-shell structure includes a core-shell structure having a nano size wherein (1) the core is made of tin sulfide particles and (2) the shell is made of a silicon oxide film. - 特許庁

ケイ素とチタンの複合酸化物：１０〜３０モル％、酸化インジウム：０．５〜３０モル％を含有し、残部が硫化亜鉛からなる組成を有することを特徴とする直流スパッタリング可能でかつ異常放電の少ない光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。例文帳に追加

This sputtering target for the formation of the optical logging protection film capable of DC sputtering and low in abnormal discharge comprises 10-30 mole % silicic and titanic compound oxide, 0.5-30 mole % indium oxide and the balance of zinc sulfide. - 特許庁

二酸化ケイ素：１０〜３０原子％、アルゴン、窒素、またはアルゴンおよび窒素の混合成分：０．０１〜１０原子％を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有する焼結体からなることを特徴とする高速スパッタリングが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。例文帳に追加

The sputtering target for forming the protective film of the optical recording medium is the sintered compact which has a composition comprising 10-30 atomic% silicon dioxide, 0.01-10 atomic% argon, nitrogen or a mixture thereof and the balance being zinc sulfide. - 特許庁

重量パーセントで、０．１％から０．５％までの金属銀、３０％から５４％までの二酸化ケイ素、２０％から４０％までの二酸化チタン、１０％から２０％までの酸化クロム、５％から２０％までの酸化モリブデン、５％から１０％までの二硫化モリブデンおよび５％から１０％までのハロゲン化物が含まれるように構成されている。例文帳に追加

The activator is configured to contain, by weight, 0.1-0.5% metallic silver, 30-54% silicon dioxide, 20-40% titanium dioxide, 10-20% chromium oxide, 5-20% molybdenum oxide, 5-10% molybdenum disulfide, and 5-10% halide. - 特許庁

主たる成分としての鉄（Ｆｅ）ならびに従たる成分としてのケイ素（Ｓｉ）及びリン（Ｐ）を含むＦｅ−Ｓｉ−Ｐ系の焼結軟磁性材料において、該焼結軟磁性材料が、内部に分布した結晶粒界を有し、その結晶粒界に析出した、１種類もしくはそれ以上の結晶粒微細化金属元素の炭化物、窒化物、硫化物又はその混合物からなる粒子をさらに含んでなるように構成する。例文帳に追加

In the Fe-Si-P based sintering soft magnetic material containing iron (Fe) as the main component and silicon (Si) and phosphorous (P) as secondary components, the sintering soft magnetic material has crystal grain boundaries distributed inside, and further contains grains precipitated into the crystal grain boundaries and composed of the carbide, nitride or sulfide of one or more crystal grain-micronized metal elements or a mixture thereof. - 特許庁