意味 | 例文 (999件) |
表面粗さの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5065件
表面に粗さがあるさま例文帳に追加
having surface roughness - 日本語WordNet
表面粗さ測定装置例文帳に追加
表面粗さデータ解析システム例文帳に追加
SYSTEM FOR ANALYZING SURFACE ROUGHNESS DATA - 特許庁
表面粗さ形状検出器例文帳に追加
SURFACE ROUGHNESS SHAPE DETECTOR - 特許庁
超精密表面粗さ加工法例文帳に追加
尚、この表面粗さRaとは、最終研磨後の表面粗さRaである。例文帳に追加
The surface roughness Ra is the surface roughness Ra after final polishing. - 特許庁
金属板の表面粗さ付与装置及び金属板の表面粗さ付与方法例文帳に追加
DEVICE AND METHOD FOR IMPARTING SURFACE ROUGHNESS OF METAL PLATE - 特許庁
表面粗さの測定方法、表面粗さ測定装置及び加工装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND PROCESSING DEVICE - 特許庁
表面粗さは平均粗さ5〜50μmが適当である。例文帳に追加
Mean surface roughness is appropriately from 5 to 50 μm. - 特許庁
表面層の表面粗さRaは、1.5μm以下である。例文帳に追加
Surface roughness Ra of the surface layer is ≤1.5 μm. - 特許庁
鋼球7の表面粗さを相手転動面の表面粗さに近づけて粗面化する。例文帳に追加
The surface roughness of the steel ball 7 approximates the surface roughness of the counterpart rolling surface. - 特許庁
ベース平面の表面粗さは算術平均粗さで0.8μm以下である。例文帳に追加
The surface roughness of the base plane is ≤0.8 μm in arithmetic average roughness. - 特許庁
この際、粗面化された表面の表面粗さRaを0.1μm〜0.3μmの範囲とする。例文帳に追加
In so doing, surface roughness on the roughened surface ranges between 0.1 μm and 0.3 μm. - 特許庁
第1グリッド電極G1の表面を、第2グリッド電極G2の表面より表面粗さが粗い粗面27に形成する。例文帳に追加
The surface of the first grid electrode G1 is formed in a rough surface 27 rougher than the surface of the second grid electrode G2. - 特許庁
周面41aの表面粗さは露出面39の表面粗さよりも大きい。例文帳に追加
The surface roughness of the peripheral surface 41a is larger than the surface roughness of the exposed surface 39. - 特許庁
また、配管部3の内壁も表面平均粗さRaを1.0μm以上に表面粗化する。例文帳に追加
A piping part 3 also has the inner wall roughened into the arithmetic mean surface roughness Ra of 1.0 μm or more. - 特許庁
滑り止め層2は、露出表面が粗面化された粗面化層2を有する。例文帳に追加
The nonslip layer 2 has a roughened layer 2 having an exposed surface being roughened. - 特許庁
剥離層表面の表面粗さRaは1〜3μmであることが好ましい。例文帳に追加
The release layer preferably has a surface roughness Ra of 1-3 μm. - 特許庁
樹脂フィルムの表面粗化方法および装置、ならびにこの方法により表面が粗化されたフィルム例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR COARSENING SURFACE OF RESIN FILM, AND FILM HAVING SURFACE COARSENED BY THE METHOD - 特許庁
ワイヤロープを構成する素線のうち、少なくともワイヤロープの表面に位置する素線の表面に凹凸を形成し、素線表面の表面粗さを粗くすることにより、ワイヤロープの表面粗さを粗くする。例文帳に追加
Unevenness is formed on at least surfaces of raw wires positioned on the surface of wire rope among raw wires constituting the wire rope and surface roughness of the surfaces of the raw wires is roughened to roughen surface roughness of the surfaces of the wire rope. - 特許庁
表面10は、所定の波長よりも大きな表面粗さである。例文帳に追加
The surface roughness of the surface 10 is larger than the prescribed wavelength. - 特許庁
表面粗さはフィルム表面のザラツキ度合いで表現する。例文帳に追加
The surface roughness is expressed as a degree of roughness on a film surface. - 特許庁
表面粗さの最大高さRyが0.5μm以下である。例文帳に追加
The maximum height Ry of the surface roughness is ≤0.5 μm. - 特許庁
表面層11の表面の表面粗さRaが0.5μm以下に設定されている。例文帳に追加
The surface roughness Ra of a front face of the surface layer 11 is specified to be 0.5 μm or smaller. - 特許庁
3 表面粗さを測定することができるもの例文帳に追加
(3) Equipment for measuring surface roughness - 日本法令外国語訳データベースシステム
この時表面粗さRaは3.7μmである。例文帳に追加
At this time, surface coarseness Ra is 3.7 μm. - 特許庁
氷表面粗さ又は摩擦係数を予測する方法例文帳に追加
METHOD FOR ESTIMATING SURFACE ROUGHNESS OR FRICTIONAL COEFFICIENT OF ICE SURFACE - 特許庁
スティッチング誤差と表面粗さを改善する。例文帳に追加
To improve a stitching error and surface roughness. - 特許庁
表面粗さの高低差は0.3〜1.5μmの範囲内にある。例文帳に追加
The height difference of the surface roughness is in the range of 0.3-1.5 μm. - 特許庁
粗さ、隆起、うねまたは不連続性のない表面を持つ例文帳に追加
having a surface free from roughness or bumps or ridges or irregularities - 日本語WordNet
このフィルムの中心線表面粗さRaは5nmであった。例文帳に追加
The center line surface roughness Ra of this film was 5nm. - 特許庁
基板は、表面粗さRaが0.1〜0.8μmである。例文帳に追加
In the substrate, the surface roughness Ra is 0.1-0.8 micrometers. - 特許庁
面粗さに優れた表面疵の少ない硫黄快削鋼例文帳に追加
SULFUR FREE-CUTTING STEEL HAVING EXCELLENT SURFACE ROUGHNESS AND FEW SURFACE FLAWS - 特許庁
機器表面粗さ計測装置及び方法例文帳に追加
APPARATUS SURFACE ROUGHNESS MEASURING DEVICE AND METHOD - 特許庁
記録表面の平均粗さは約2.5nm未満である。例文帳に追加
The recording surface has an average roughness of less than about 2.5 nm. - 特許庁
筒状体の表面粗さ測定装置例文帳に追加
APPARATUS FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS OF CYLINDRICAL OBJECT - 特許庁
基板の表面粗さ検出方法、装置及び記憶媒体例文帳に追加
SURFACE ROUGHNESS DETECTING METHOD AND APPARATUS FOR SUBSTRATE, AND STORAGE MEDIUM - 特許庁
シリコンウエーハおよび表面粗さを評価する方法例文帳に追加
SILCON WAFER AND METHOD FOR EVALUATING ITS SURFACE ROUGHNESS - 特許庁
超音波表面粗さ測定方法と装置例文帳に追加
ULTRASONIC APPARATUS FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND METHOD THEREFOR - 特許庁
表面粗さ/輪郭形状測定装置例文帳に追加
SURFACE ROUGHNESS/CONTOUR SHAPE MEASURING SYSTEM - 特許庁
プランジャーの表面粗さ調整装置例文帳に追加
半導体基板の表面粗さをより一層低減する。例文帳に追加
To further reduce the surface roughness of a semiconductor substrate. - 特許庁
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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