「After... (film)」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

After that, an IrO_X film 26, an IrO_Y film 27 and an Ir film 28 are formed on the PZT film 25.例文帳に追加

その後、ＰＺＴ膜２５上に、ＩｒＯ_X膜２６、ＩｒＯ_Y膜２７及びＩｒ膜２８を形成する。 - 特許庁

Then, after oxidation is performed to form a gate after oxide film over the entire surface.例文帳に追加

その後、後酸化が行われ、全面にゲート後酸化膜２８が形成される。 - 特許庁

The circuit board before or after mounting the electronic parts is made to have a residue film after soldering.例文帳に追加

これらの残さ膜を有する電子部品搭載前又は後の回路基板。 - 特許庁

REMOVAL SOLUTION RECOVERY SYSTEM AFTER REMOVAL OF PROTECTIVE FILM AND METHOD OF COLLECTING REMOVAL SOLUTION AFTER REMOVAL OF PROTECTIVE FILM例文帳に追加

保護膜除去後の除去液回収システムおよび保護膜除去後の除去液回収方法 - 特許庁

in film making and movies, the action of adding sounds to a film after it has been filmed 例文帳に追加

映画の画面に合わせてあとから音を組み入れること - EDR日英対訳辞書

After his appearance in that film, Ichitaro ended his stage acting career and became a film actor. 例文帳に追加

同作以降、市太郎は舞台を廃業し「映画俳優」となる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The high-dielectric film is heat-treated within 30 seconds after nitriding of the high dielectric film.例文帳に追加

高誘電体膜の窒化処理後、３０秒以内に熱処理を行う。 - 特許庁

After protecting the semiconductive film 15, the entire conductive film is etched.例文帳に追加

また、導電性膜は、半導電性膜１５を保護した後、全てエッチングする。 - 特許庁

After that, the reduction amount of the film thickness of the resist film is measured.例文帳に追加

その後，そのレジスト膜の膜厚の減少量を測定する。 - 特許庁

After that, the Mg film 13 and the metal film 14 are removed using aqua regia (figure 1e).例文帳に追加

その後、王水によりＭｇ膜１３、金属膜１４を除去する（図１ｅ）。 - 特許庁

After the film deposition of the protective film, its substrate component, that is a substrate module, is annealed.例文帳に追加

保護膜成膜後、その基板部品、即ち基板モジュールをアニールする。 - 特許庁

After the film deposition of the magnetic resistors 10-40, a protective film is deposited in its surface.例文帳に追加

磁気抵抗１０〜４０の成膜後、その表面に保護膜を成膜する。 - 特許庁

After the protective film 24 is formed, a photoresist is applied to the film 24.例文帳に追加

次に、金属配線層保護膜２４上にフォトレジストを塗布する。 - 特許庁

After that, the casting film 61 is peeled off from the casing band 94 as a wet film 67.例文帳に追加

その後、流延バンド９４から剥ぎ取り、湿潤フイルム６７とする。 - 特許庁

After peeling the protective film, the resist film is developed (ST114).例文帳に追加

保護膜を剥離した後に前記レジスト膜を現像する（ＳＴ１１４）。 - 特許庁

After these film layers are formed, the film layers are subjected to wet heat treatment.例文帳に追加

そしてこれらの膜層を形成させた後に湿熱処理を施すようにする。 - 特許庁

After curing, the periphery of the film base 15 is cut to obtain the polarizing film.例文帳に追加

硬化後にフィルムベース１５周囲をカットし偏光フィルムを得る。 - 特許庁

Film forming conditions can be controlled so as to obtain a film thickness distribution which is equal to a target film thickness distribution in a film to be polished after the film is polished by counting backward the film thickness distribution of the film, before the film is polished by comparing the polishing rate distribution in the film and the target film thickness distribution in the film after the film is polished with each other.例文帳に追加

被研磨膜の研磨レート分布と研磨後の被研磨膜の目標膜厚分布とを比較することによって、研磨前の被研磨膜の膜厚分布を逆算し、研磨後に目標膜厚分布通りの被研磨膜の膜厚分布が得られるように予め成膜条件を制御することができる。 - 特許庁

After that, by patterning the lamination film between the titanium film 34 and the aluminum film 35, wiring 33 is obtained.例文帳に追加

その後、チタン膜３４とアルミニウム膜３５との積層膜をパターニングして配線３３を得る。 - 特許庁

After a lower electrode film 9 is formed, the ferroelectric film 10 is formed on the lower electrode film 9.例文帳に追加

下部電極膜９を形成した後、下部電極膜９上に強誘電体膜１０を形成する。 - 特許庁

A step St4 compares the predictive film thickness distribution of the film to be polished after polishing with the target film thickness distribution.例文帳に追加

ステップＳｔ４で、研磨後の被研磨膜の予測膜厚分布と目標膜厚分布とを比較する。 - 特許庁

After the silicon-germanium film is grown, a strained silicon film is epitaxially grown on the film.例文帳に追加

それから、歪シリコン膜をシリコンゲルマニウム膜上にエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

After an Ir film 23 is formed, an Ir oxide film is formed on the Ir film 23.例文帳に追加

Ｉｒ膜２３を形成した後、このＩｒ膜２３上にＩｒ酸化膜を形成する。 - 特許庁

Continuously, after a barrier film 108, a Cu film 109 and a Cu film 110 are deposited, the substrate is heated.例文帳に追加

続いてバリア膜１０８、Ｃｕ膜１０９、Ｃｕ膜１１０を堆積後、基板を加熱する。 - 特許庁

When the photographic film after developed is set in a print processor, the film scanner preliminarily scans the film.例文帳に追加

現像済みの写真フイルムをプリントプロセサにセットすると、フイルムスキャナがプレスキャンする。 - 特許庁

The film take-up part 53 takes up the stretch film Fm after the stretch film is cut by fusing.例文帳に追加

フィルム巻き取り部５３は、溶断後のストレッチフィルムＦｍを巻き取る。 - 特許庁

He is the greatest film director after Akira Kurosawa.例文帳に追加

彼は黒澤明に次いで最高の映画監督だ - Eゲイト英和辞典

After Daiei went bankrupt, he participated in the establishment of Eizo Kyoto Film Co.. 例文帳に追加

大映倒産後は映像京都の立ち上げに参加した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

After he was back, he became the chief film director of the Second Department. 例文帳に追加

帰国後、第二部主席監督となった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

DISCOLORATION INHIBITOR FOR TIN BASED ALLOY PLATING FILM AFTER REFLOWING例文帳に追加

錫系合金めっき皮膜のリフロー後の変色防止剤 - 特許庁

After that, a gate oxide film is formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

その後、半導体基板上にゲート酸化膜を形成する。 - 特許庁

An SiO_2 is formed after a GaN film 12 is formed.例文帳に追加

ＧａＮ膜１２形成後、ＳｉＯ_2膜を形成する。 - 特許庁

The substrate 5 after film thickness measurement is dried by heating.例文帳に追加

膜厚測定後の基体５は加熱乾燥される。 - 特許庁

After that, polishing is performed up to the stopper film 8 by CMP.例文帳に追加

その後、ストッパー膜８までＣＭＰにて研磨する。 - 特許庁

After that, the silicon dioxide film 4a is removed.例文帳に追加

その後、二酸化シリコン膜４ａを除去する。 - 特許庁

After that, the connection hole 4 is buried with a tungsten film 7.例文帳に追加

その後、タングステン膜７で接続孔４内を埋め込む。 - 特許庁

SOLUTION TREATMENT METHOD AFTER FORMATION OF FERRITE FILM例文帳に追加

フェライト皮膜形成後における溶液の処理方法 - 特許庁

After that, the surface of this coating film 1 is heat treated.例文帳に追加

その後、この塗膜１の表面を加熱処理する。 - 特許庁

To fine a silver film, after baking and improve the working efficiency.例文帳に追加

焼成後の銀膜の微細化及び作業性の向上。 - 特許庁

After that, the whole is covered with a laminated film.例文帳に追加

その後，ラミネートフィルムにて全体が被覆される。 - 特許庁

After that, the inside of the hollow part is filled in by an insulating film 31.例文帳に追加

その後、空洞部内を絶縁膜３１で埋め込む。 - 特許庁

After that, the film is subjected to magnetic orientation and dried.例文帳に追加

その後に磁場配向処理を行い乾燥させる。 - 特許庁

After the application, a heat treatment is carried out to obtain a dielectric film.例文帳に追加

塗布後に熱処理を行い誘電体膜を得る。 - 特許庁

After the current-carrying process, the hydrogen substitution film 68 is washed by water.例文帳に追加

通電処理後の水素置換フイルム６８を水洗する。 - 特許庁

After the exposure, the resist film on which a latent image is formed is heated.例文帳に追加

露光後、潜像が形成されたレジスト膜を加熱する。 - 特許庁