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Dry etchingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2390件
DRY ETCHING METHOD OF SILICON OXIDE FILM例文帳に追加
シリコン酸化膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD FOR MULTILAYER RESIST FILM例文帳に追加
多層レジスト膜のドライエッチング方法 - 特許庁
To provide a dry etching method which enables dry etching at lower temperatures, and to provide a dry etching system.例文帳に追加
より低い基板温度においてドライエッチングを可能にするドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD USING LIGHT EMISSION, DRY ETCHING CONTROL DEVICE AND DRY ETCHING DEVICE HAVING THE CONTROL DEVICE例文帳に追加
発光を利用したドライエッチング方法、ドライエッチング制御装置及びその制御装置を備えたドライエッチング装置 - 特許庁
Condition of the dry etching is the same as condition of dry etching of a first time.例文帳に追加
ドライエッチングの条件は、一回目のドライエッチングの条件と同じである。 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD, DRY ETCHING GAS, AND METHOD OF MANUFACTURING PERFLUORO-2-PENTYN例文帳に追加
ドライエッチング方法、ドライエッチングガス及びパーフルオロ−2−ペンチンの製造方法 - 特許庁
To suppress the generation of side etching in dry etching.例文帳に追加
ドライエッチングにおいて、サイドエッチングの発生を抑制する。 - 特許庁
To provide a dry etching method of carrying out etching having a uniform distribution of etching rate.例文帳に追加
均一な分布レートでエッチングするドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
As the etching process, the wet etching or dry etching using the hydrofluoric acid is performed.例文帳に追加
エッチングとしては、フッ酸を用いたウエットエッチング、又はドライエッチングである。 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加
層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁
METHOD FOR DRY-ETCHING MULTILAYERED FILM MATERIAL例文帳に追加
多層膜材料のドライエッチング方法 - 特許庁
METHOD OF DRY-ETCHING INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加
層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY CLEANING METHOD AFTER METAL ETCHING例文帳に追加
金属エッチング後の乾式クリ—ニング方法 - 特許庁
CHAMBER CLEANING METHOD OF DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング装置のチャンバークリーニング方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD USING DRY ETCHING SYSTEM例文帳に追加
ドライエッチング装置を用いる製造方法 - 特許庁
DRY-ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法および半導体素子 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF SILICON COMPOUND FILM例文帳に追加
シリコン化合物膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法および半導体装置 - 特許庁
DEVICE MANUFACTURING PROCESS INCLUDING DRY ETCHING例文帳に追加
ドライエッチングを含むデバイスの製作プロセス - 特許庁
As the anisotropic etching, dry etching and PEC etching can be cited.例文帳に追加
この異方性エッチングとしては、乾式エッチング、PECエッチングが挙げられ得る。 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS, METHOD FO ETCHING, AND METHOD OF FORMING WIRING例文帳に追加
ドライエッチング装置、エッチング方法、及び配線の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR DRY-ETCHING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
透明導電性膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
透明導電性膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING SYSTEM AND ITS MAINTAINING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁
DRY ETCHING PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング処理装置および処理方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング方法及びデバイス製造方法 - 特許庁
To obtain TFE gas suitable for dry etching.例文帳に追加
ドライエッチングに好適なTFEガスを得る。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR WINDING-UP TYPE DRY ETCHING例文帳に追加
巻取り式ドライエッチング方法及び装置 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS AND ITS CLEANING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング装置およびそのクリーニング方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR WINDING UP TYPE DRY ETCHING例文帳に追加
巻取り式ドライエッチング方法及び装置 - 特許庁
To provide a dry etching processing device and a dry etching method that form an etching groove to a uniform width.例文帳に追加
エッチング溝の幅を一様に形成することができるドライエッチング処理装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
DRY ETCHING DEVICE AND NEUTRALIZATION METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加
ドライエッチング装置および基板の除電方法 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
半導体素子製造用乾式エッチング装置 - 特許庁
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