「Dry etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING ABNORMALITY OF DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置の異常検出方法及び装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜のドライエッチング方法及びその装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS AND DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

半導体装置製造方法およびドライエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF INSULATING FILM BETWEEN LOW DIELECTRIC CONSTANT LAYERS例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF GALLIUM NITRIDE BASED COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

窒化ガリウム系化合物半導体のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING RESIDUE REMOVING LIQUID FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

半導体製造プロセス用ドライエッチング残渣除去液 - 特許庁

Next, the gate trench 21 is formed by dry etching.例文帳に追加

次に，ドライエッチングによりゲートトレンチ２１を形成する。 - 特許庁

METHOD OF DRY ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF DRY-ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

Contact holes are formed by etching the insulating film with such dry etching.例文帳に追加

このようなドライエッチングにより絶縁膜をエッチングしてコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

GAS FLOW CONTROLLER FOR LOCAL DRY ETCHING, AND ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加

局所ドライエッチングのためのガス流コントローラ及びこれを用いたエッチング方法 - 特許庁

Ion beam etching is used as the dry etching method of a continuous recording layer 20.例文帳に追加

又、連続記録層２０のドライエッチング手法としてイオンビームエッチングを用いる。 - 特許庁

Thereafter, the surface exposed by the etching was further subjected to dry etching using Ar gas.例文帳に追加

その後、このエッチングによる露出面を更に、Arガスを用いてドライエッチングした。 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC MEMORY DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法及び磁気メモリ装置の製造方法 - 特許庁

PARALLEL FLAT-PLATE DRY ETCHING DEVICE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

平行平板型ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁

MULTISTAGE LOCAL DRY ETCHING METHOD FOR SOI (SILICON ON INSULATOR) WAFER例文帳に追加

ＳＯＩウェハーのための多段局所ドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD, AND PATTERNING METHOD FOR METAL THIN FILM例文帳に追加

ドライエッチング方法及び金属薄膜のパターニング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF InP AND METHOD OF FORMING VIA HOLE例文帳に追加

ＩｎＰのドライエッチング方法およびビアホール形成方法 - 特許庁

ITO DRY ETCHING DEVICE AND METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ＩＴＯドライエッチング装置およびこれを用いる方法 - 特許庁

COMPOSITE BODY FOR DRY ETCHING, METHOD FOR FORMING DRY ETCHING PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING NOZZLE PLATE FOR LIQUID DISCHARGE HEAD例文帳に追加

ドライエッチング用複合体、ドライエッチング製品の形成方法及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD, FABRICATING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

ドライエッチング方法、及び半導体基体の作製方法 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDER AND DRY ETCHING APPARATUS EQUIPPED WITH THIS SUBSTRATE HOLDER例文帳に追加

基板ホルダ及び該基板ホルダを備えたドライエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS AND BULKHEAD COVER PART USED THEREIN例文帳に追加

ドライエッチング装置及びそれに使用される隔壁カバー部 - 特許庁

LOCAL DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS FOR SOI WAFER例文帳に追加

ＳＯＩウェハーの局所ドライエッチング方法および装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING DRY ETCHING EQUIPMENT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエツチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DRY ETCHING FERROELECTRIC SUBSTANCE CAPACITOR STRUCTURAL BODY例文帳に追加

強誘電体キャパシタ構造体の乾式蝕刻方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DRY ETCHING OF SOI SUBSTRATE例文帳に追加

ＳＯＩ基板のドライエッチング方法およびドライエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

半導体装置の製造方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND ITS REACTANT GAS SUPPLY METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置およびその反応ガス供給方法 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびドライエッチング装置 - 特許庁

CRYSTALLINE ANISOTROPIC DRY ETCHING METHOD FOR SILICON AND DEVICE THEREOF例文帳に追加

シリコンの結晶異方性ドライエッチング方法、および装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法、及び半導体素子の作製方法 - 特許庁

REMOVAL AGENT FOR DRY ETCHING RESIDUE AFTER FORMING PLATINUM FAMILY PATTERN例文帳に追加

白金族パターン形成後のドライエッチング残渣除去剤 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD FOR GALLIUM-NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR AND THE LIKE例文帳に追加

窒化ガリウム系化合物半導体等のドライエッチング方法 - 特許庁

GAS FOR DRY ETCHING AND METHOD FOR MACHINING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング用ガスおよび半導体デバイスの加工方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING VERTICAL FACE BY DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチングによる垂直面作製方法及び装置 - 特許庁

Combination etching of wet etching and dry etching using the resist film 115 as a mask is further performed in turn.例文帳に追加

さらに、このレジスト膜１１５をマスクとしたウェットエッチングとドライエッチングとの併用エッチングを順番に行う。 - 特許庁

To provide a dry etching device which has a high etching rate and prevents ion damages on a surface after etching.例文帳に追加

高いエッチングレートを有しエッチング後の表面のイオン損傷を防止するエッチング装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING DEGREE OF ETCHING, ETCHING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, DEVICE FOR DETECTION OF ETCHING DEGREE AND DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

エッチング進行度検出方法、エッチング方法、半導体装置の製造方法、エッチング進行度検出装置およびドライエッチング装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING ELECTRODE HAVING IMPROVED HEAT RESISTANCE AND DRY ETCHING SYSTEM EQUIPPED WITH IT例文帳に追加

耐熱性に優れたプラズマエッチング電極及びそれを装着したドライエッチング装置 - 特許庁