「Dry etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

ETCHING GAS FLOW CONTROLLER AND CONTROL METHOD OF LOCAL DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

局所ドライエッチング装置のエッチングガス流制御装置及び方法 - 特許庁

Next, wet etching is performed as postprocessing of the dry etching to remove etching residuals of the dry etching and roughness of a surface.例文帳に追加

次に、ドライエッチングに対する後処理としてのウエットエッチングを行い、ドライエッチングのエッチング残滓の残存や表面の荒れを除去する。 - 特許庁

MASKING MATERIAL FOR REACTIVE ION ETCHING, MASK AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

反応性イオンエッチング用のマスク材料、マスク及びドライエッチング方法 - 特許庁

To provide a dry etching device by which etching residue of a substrate is prevented.例文帳に追加

基板のエッチング残りを防止したドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

An etching stopper film 11 and an insulating film 12 are processed through dry-etching technology, so as to have the dry-etching rate of a plug 10 and the dry-etching rate of the etching stopper film 11 which is approximately equal to each other.例文帳に追加

エッチストッパ膜１１および絶縁膜１２を、プラグ１０と前記エッチストッパ膜１１とのドライエッチングレートがほぼ同一になるようにドライエッチング技術を用いて加工する。 - 特許庁

To remove a film formed at dry etching process by cleaning in every dry etching process.例文帳に追加

ドライエッチング処理毎にクリーニング処理を実施して、ドライエッチング処理時に形成された膜を除去する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR WAFER DRY ETCHING例文帳に追加

ウェハのドライエッチング装置およびドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING EXHAUST GAS TREATING DEVICE AND METHOD FOR TREATING DRY ETCHING EXHAUST GAS USING TREATING DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング排ガス処理装置及び当該処理装置を用いたドライエッチング排ガス処理方法 - 特許庁

ANISOTROPIC DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS OF COPPER例文帳に追加

銅の異方性ドライエッチング方法および装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

ドライエッチング方法および回折型光学部品 - 特許庁

To provide a dry etching technique of a high grade.例文帳に追加

高品位なドライエッチング技術を提供する。 - 特許庁

DRY ETCHER HAVING BOTH ETCHING PORTION AND CLEANING PORTION例文帳に追加

エッチング部と洗浄部とを兼備したドライエッチャ - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT例文帳に追加

ドライエッチング方法および半導体製造装置 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND ITS PLASMA CLEANING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置及びそのプラズマクリーニング方法 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND ITS PLASMA CLEANING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置およびそのプラズマクリーニング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND DIFFRACTION TYPE OPTICAL COMPONENT例文帳に追加

ドライエッチング方法および回折型光学部品 - 特許庁

METHOD OF DRY ETCHING SILICON CARBIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

炭化珪素半導体基板のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK例文帳に追加

ドライエッチング方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS AND END POINT DETECTING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置および終点検出方法 - 特許庁

To provide a dry etching method and a dry etching system without destroying a membrane and lowering etching characteristics at the time of the dry etching of membranes, such as an EB mask.例文帳に追加

ＥＢマスクなどのメンブレンのドライエッチングの際に、メンブレンを破壊することなく、且つエッチング特性を低下することないドライエッチング方法及びドライエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

The dry etching apparatus uses the cathode electrode as the cathode electrode 4 of the dry etching apparatus for executing etching step of the semiconductor device.例文帳に追加

このカソード電極をドライエッチング装置のカソード電極４に用いて半導体装置のエッチング工程を実施する。 - 特許庁

As the shape treatment, dry etching such as plasma etching is adopted.例文帳に追加

形状処理としてはプラズマエッチング等のドライエッチング処理を採用できる。 - 特許庁

DETECTION METHOD OF ETCHING END POINT IN DRY SEMICONDUCTOR ETCHING STEP例文帳に追加

半導体乾式エッチング工程でのエッチング終了点の検出方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS FOR TEST SAMPLE例文帳に追加

試料のドライエッチング方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

FORMING METHOD OF CONTACT HOLE AND DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

コンタクトホールの形成方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

WASHING LIQUID AND WASHING METHOD FOR DRY ETCHING RESIDUE例文帳に追加

ドライエッチング残渣用洗浄液および洗浄法 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS AND PROCESSING METHOD OF PROCESSING WORK例文帳に追加

ドライエッチング装置及び被加工物の加工方法 - 特許庁

DRY ETCHING END POINT DETECTING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

ドライエッチングの終点検出方法および装置 - 特許庁

Thereafter, the remaining resist 3 is removed by dry etching.例文帳に追加

その後、レジスト３をドライエッチングにより除去する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM FOR DAMAGE-FREE DRY ETCHING OF WAFER例文帳に追加

ダメージのないウェハードライエッチングのプラズマ処理装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF COMPOUND SEMICONDUCTOR MAULTILAYER FILM例文帳に追加

化合物半導体多層膜のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF III-FAMILY NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM HAVING FUNCTION OF INTERMEDIATE LENGTH MEASUREMENT例文帳に追加

中間測長機能を備えたドライエッチングシステム - 特許庁

For instance, a method, by which the type of the etching gas conforming to the dry-etching conditions is selected, is employed as a method for having the dry-etching rate of the plug 10 and the dry-etching rate of the etching stopper film 11 approximately equal to each other.例文帳に追加

前記プラグ１０とエッチストッパ膜１１とのドライエッチングレートをほぼ同一にする手法として、たとえばドライエッチングの条件に適合するエッチングガスの種類を選択する手法を用いる。 - 特許庁

In etching steps, a first etching step is performed by wet etching in which an etchant is used, and a second etching step is performed by dry etching in which an etching gas is used.例文帳に追加

エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 - 特許庁

To provide a dry etching method and a dry etching apparatus that can achieve an excellent etching characteristic with reducing the cost of facilities.例文帳に追加

設備コストを低減しつつ、良好なエッチング特性を得ることができるドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

Further, the substrate has, on the above light shielding layer 12, a metal compound film as an antireflection layer 13 which can not be substantially etched by chlorine-based dry etching containing no oxygen (Cl-based dry etching) but can be etched by at least one of chlorine-based dry etching containing oxygen ((Cl+O)-based dry etching) and fluorine-based dry etching (F-based dry etching).例文帳に追加

そしてこの遮光層１２の上に、酸素非含有塩素系ドライエッチング（Ｃｌ系）では実質的なエッチングがされず、かつ酸素含有塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系）あるいはフッ素系ドライエッチング（Ｆ系）の少なくとも一方のエッチングでエッチングが可能な金属化合物膜が反射防止層１３として備えられている。 - 特許庁

A photomask substrate 11 has, on one principal face, a metal film as a light shielding layer 12 which can not be substantially etched by chlorine-based dry etching containing oxygen ((Cl+O)-based dry etching) but can be etched by chlorine-based dry etching containing no oxygen (Cl-based dry etching) and by fluorine-based dry etching (F-based dry etching).例文帳に追加

フォトマスク基板１１の一方主面に、酸素含有の塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系ドライエッチング）では実質的なエッチングがされず、かつ酸素非含有の塩素系ドライエッチング（Ｃｌ系ドライエッチング）およびフッ素系ドライエッチング（Ｆ系ドライエッチング）でエッチングが可能な金属膜が遮光層１２として備えられている。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING END POINT OF DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチングの終点検出方法および装置 - 特許庁

DRY-ETCHING METHOD OF LOW-PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチングを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTROSTATIC CHUCK AND DRY ETCHING DEVICE WITH THE SAME例文帳に追加

静電チャックおよびこれを備えるドライエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF Yb DOPED POLYSILICON GATE例文帳に追加

ＹＢがドープされたポリシリコンゲートのドライエッチング方法 - 特許庁

To exhaust gas in a dry etching system efficiently.例文帳に追加

ドライエッチング装置などの排気を効率よく行う。 - 特許庁

METHOD FOR DIVIDING SAPPHIRE WAFER USING DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチングを利用したサファイアウェーハの分割方法 - 特許庁