「Dry etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF DRY ETCHING TRANSPARENT SUBSTRATE AND METHOD OF INSPECTING PHOTOMASK例文帳に追加

透明基板のドライエッチング方法及びホトマスクの検査方法 - 特許庁

To detect the end point of dry etching accurately.例文帳に追加

ドライエッチングにおいて、エッチングの終点を的確に検出する。 - 特許庁

An opening is formed in the substrate by dry etching.例文帳に追加

基板には開口部がドライエッチングにより形成されている。 - 特許庁

The silicon oxide layer 62 can be dry-etched continuously to the dry etching of the conductive layer 63 without changing an etching gas.例文帳に追加

エッチングガスを変更することなく、導電性層63のドライエッチングに連続して酸化シリコン層62をドライエッチングできる。 - 特許庁

PLASMA DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマドライエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS AND DIELECTRIC COVER FOR USE THEREIN例文帳に追加

ドライエッチング装置及びそれに使用される誘電体のカバー部 - 特許庁

A wafer unload part UL unloads a wafer subjected to dry etching.例文帳に追加

ウェーハアンロード部ＵＬは、ドライエッチングされたウェーハをアンロードする。 - 特許庁

To shorten a dry etching time and to decrease film reduction in a resist film by increasing the dry etching rate of a light shielding film.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体素子を作製する方法、及びドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD, MICROLENS ARRAY AND FORMING METHOD THEREOF例文帳に追加

ドライエッチング方法並びにマイクロレンズアレイ及びその作製方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD FOR METAL OXIDE/PHOTORESIST FILM LAMINATED BODY例文帳に追加

金属酸化物／フォトレジスト膜積層体のドライエッチング方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURE, AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体装置およびその製造方法、ドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND CAPACITY FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチング方法及びそれを用いた容量形成方法 - 特許庁

To provide a dry etching device, a dry etching method and a plasma controller such that etching processing can be performed in an optimum plasma state wherein etching damage to an etching mask as well as a material to be etched is taken into consideration.例文帳に追加

被エッチング材料に加えてエッチングマスクのエッチングダメージを考慮した最適なプラズマ状態でエッチング処理ができるドライエッチング装置、ドライエッチング方法およびプラズマ制御装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING END POINT OF ETCHING AND DRY ETCHING SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME APPARATUS例文帳に追加

エッチング終点検出方法及び装置並びに同装置を備えたドライエッチング装置 - 特許庁

To provide a dry etching system which can accomplish plasma etching with smaller power consumption.例文帳に追加

より低消費電力でプラズマエッチングが達成できるドライエッチング装置を提供する - 特許庁

Dry etching using no bias is preferably used for further etching the back channel portion.例文帳に追加

バックチャネル部を更にエッチングするに際しては無バイアスのドライエッチングを用いることが好ましい。 - 特許庁

The above etching process is carried out using, for instance, a magnetic field-applied plane parallel plate dry etching device.例文帳に追加

このエッチングは、例えば磁場印加型平行平板ドライエッチング装置を用いて行う。 - 特許庁

The inclined surface is formed through dry etching, and a damaged layer is removed by anisotropic etching.例文帳に追加

傾斜面はドライエッチングにより形成し、異方性エッチングによりダメージ層を除去する。 - 特許庁

The Ni foil is formed into the thin film having a prescribed thickness by wet etching or dry etching.例文帳に追加

このＮｉ箔をウエットエッチングまたはドライエッチングによって所定の厚さに薄膜化する。 - 特許庁

To provide a dry-etching gas composition, an etching method, and a manufacturing method of a capacitor.例文帳に追加

ドライエッチング用ガス組成物、エッチング方法およびキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

This is performed under the control of the etching time calculated from a parameter at dry etching.例文帳に追加

これはドライエッチング時のパラメータから算出するエッチング時間の制御で達成する。 - 特許庁

To provide a dry etcher which is equipped with an etching portion where a cleaning process is added to the dry etcher to expand the applicability of the dry etching to a metal film etching process and a cleaning portion.例文帳に追加

ドライエッチャに洗浄工程を付加してドライエッチャの適用範囲をメタル膜エッチング工程まで拡大させるエッチング部と洗浄部とを兼備したドライエッチャを提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus reducing the dispersion, due to position of etching rate, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device which uses the dry etching apparatus and the semiconductor device manufactured by the method and a method for manufacturing an electrode of the dry etching apparatus used for the dry etching apparatus.例文帳に追加

エッチングレートの位置によるばらつきが低減されたドライエッチング装置、そのドライエッチング装置を用いた半導体装置の製造方法、および、その製造方法により製造された半導体装置、ならびに、ドライエッチング装置に用いられるドライエッチング装置の電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

A ferroelectric memory element is formed by removing the etching resistant mask TiN film 42a in a third dry etching process after a second dry etching process for removing deposit sticking on the etching resistant mask TiN film 42a by the first dry etching.例文帳に追加

第１のドライエッチングにより耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａ上に付着した析出物を除去する第２のドライエッチング工程を経て、第３のドライエッチング工程で耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａを除去して、強誘電体メモリ素子を形成する。 - 特許庁

A wafer load part L loads wafers turning to dry etching objects.例文帳に追加

ウェーハロード部Ｌは、ドライエッチング対象となるウェーハをロードする。 - 特許庁

MAGNETIC MATERIAL DRY ETCHING METHOD, MAGNETIC MATERIAL, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁性材のドライエッチング方法、磁性材及び磁気記録媒体 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN WITH IMPROVED DRY- ETCHING STRENGTH例文帳に追加

ドライエッチング耐性の向上したレジストパターンを形成する方法 - 特許庁

DRY PROCESSING DEVICE SUCH AS ETCHING DEVICE AND ASHING DEVICE例文帳に追加

エッチング装置やアッシング装置といったようなドライプロセッシング装置 - 特許庁

DYNAMIC DRY-ETCHING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

ダイナミックドライエッチング装置及びこれを用いたダイナミックドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE, METHOD, AND CRYSTAL OSCILLATOR WITH FILM例文帳に追加

ドライエッチング装置および方法ならびに膜付き水晶振動子 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF MULTILAYER FILM COMPRISING COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

化合物半導体から構成される多層膜のドライエッチング方法 - 特許庁

THIN FILM DRY ETCHING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

薄膜のドライエッチング方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SILICON RING例文帳に追加

ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法、Ｓｉリング - 特許庁

The resulting ruggedness is transferred to the substrate 1 by dry etching.例文帳に追加

その凹凸をドライエッチングによって石英基板１に転写する。 - 特許庁

The surface of the exposed connection electrodes is processed by dry etching.例文帳に追加

露出した接続電極の表面をドライエッチングで処理する。 - 特許庁

To provide a dry etching method required for micromachining a proper shape, a micromachining method and a mask for dry etching.例文帳に追加

良好な形状の微細加工を行うことができるドライエッチング方法、微細加工方法及びドライエッチング用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching device and a dry etching method capable of improving a processing accuracy of a concave part formed on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板表面に形成する凹部の加工精度を向上させたドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching method capable of etching precisely by solving the problems wherein etching reaction products are deposited and etching cannot be made precisely for the dry etching method for performing micromachining.例文帳に追加

微細加工を行うドライエッチング方法に関し、エッチング反応生成物が堆積して精度良くエッチングできないという課題を解決し、精度良くエッチングできるドライエッチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a dry etching method which is designed to detect an etching end accurately and which exhibits superior productivity.例文帳に追加

エッチングの終点を正確に検出し、生産性の優れたドライエッチング法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method, with which dry etching can be efficiently performed on various kinds of silicon oxide films.例文帳に追加

様々な種類のシリコン酸化膜を効率よくドライエッチングできるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A bevel or convex shape is applied thereafter by dry etching, wet etching, blast working and the like.例文帳に追加

その後ドライエッチング、ウェットエッチング、ブラスト加工等によりベベルあるいはコンベックス形状を施す。 - 特許庁

To provide a dry etching method which can improve uniformity of the depth of etching over the surface of a wafer.例文帳に追加

ウェーハの面内におけるエッチング深さの均一化を図ったドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The etching damage during dry etching after forming an electrode or a wiring over an insulating film is prevented.例文帳に追加

絶縁膜上の電極や配線形成後のドライエッチングにおけるエッチングダメージを防止する。 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING DRY ETCHING APPARATUS THEREOF AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE USED FOR THE DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置、そのドライエッチング装置を用いた半導体装置の製造方法、および、その製造方法により製造された半導体装置、ならびに、ドライエッチング装置に用いられる電極の製造方法 - 特許庁