「Insulating substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

A separated insulating film 4 is formed in a separated trench 40 in the upper part of a silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１上部には、分離トレンチ４０内に分離絶縁膜４が形成される。 - 特許庁

A UV-curing insulating resin 2 is applied to the side of a substrate 1, where an electrode 1a is formed.例文帳に追加

基板１の電極1aが形成してある面に光硬化性絶縁樹脂２を塗布する。 - 特許庁

The thermal print head includes an insulating substrate, a plurality of laminated wiring patterns and a protective layer.例文帳に追加

サーマルプリントヘッドは、絶縁基板、複数の積層配線パターンおよび保護層を備えている。 - 特許庁

A polysilicon film is formed on an insulating film comprising a High-k film on a substrate.例文帳に追加

基板上のＨｉｇｈ−ｋ膜よりなる絶縁膜上にポリシリコンを形成する。 - 特許庁

On the first main surface of the semiconductor substrate, a wiring insulating film 100 is formed.例文帳に追加

半導体基板の第１主面上に、配線絶縁膜１００が形成されている。 - 特許庁

The through electrode and semiconductor substrate are insulated by the insulating ring having a hollow structure.例文帳に追加

貫通電極と半導体基板は中空構造の絶縁リングにより絶縁される。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 100, an insulating film including a gate pattern and the plurality of contact holes is formed.例文帳に追加

半導体基板(100)上に、ゲートパターン、複数のコンタクトホールを含む絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The bus bars 2, 3 are mounted on a cooling metal substrate 4 via an electric insulating sheet 5.例文帳に追加

バスバー２、３は電気絶縁シート５を介して冷却用金属基板４に搭載される。 - 特許庁

The bonding layer 250 is provided on the outer surface side of one insulating substrate 202.例文帳に追加

接着層２５０は、一方の絶縁性基板２０２の外面側に設けられている。 - 特許庁

A gate insulating film 5 is installed on a silicon substrate 1, and a control gate 6 is arranged on it.例文帳に追加

シリコン基板１上にゲート絶縁膜５を設け、その上にコントロールゲート６を設ける。 - 特許庁

The insulating film as a sample formed on an Si substrate is divided into two films (S1).例文帳に追加

Ｓｉ基板上に形成された試料としての絶縁膜を２つに分割する（Ｓ１）。 - 特許庁

The biosensor is equipped with a first insulating substrate 1 provided with first and second surfaces 22 and 23.例文帳に追加

バイオセンサには第１面22と第２面23を備えた第１絶縁基板1が備えられている。 - 特許庁

Through-holes 18 are formed to an insulating substrate 17 and are filled with a metal material.例文帳に追加

絶縁性基板１７には貫通孔１８が形成され金属が充填されている。 - 特許庁

A first conducting film is formed on the whole surface of the substrate on which the gate insulating films are formed.例文帳に追加

ゲート絶縁膜が形成された基板の全面に第１導電膜を形成する。 - 特許庁

To provide an insulating substrate with improved insulation reliability at a low cost and with a high yield.例文帳に追加

絶縁信頼性の高い絶縁基板を、安価かつ高い歩留まりで提供する。 - 特許庁

Each via hole 12 penetrates both surfaces of the land 114 through an insulating substrate 111.例文帳に追加

各バイアホール１２は、ランド１１４の両面を絶縁基板１１１を介して貫通している。 - 特許庁

An insulating interlayer 104 is formed on a substrate 100 including the lower conductor 102.例文帳に追加

下部導電体１０２を含む基板１００上に層間絶縁膜１０４を形成する。 - 特許庁

To precisely and stably form a fine pattern of ≤50 μm on an insulating film substrate.例文帳に追加

絶縁性フィルム基板上に５０μｍ以下の微細パターンを精度良く、安定に形成する。 - 特許庁

SEMI-INSULATING InP SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR OPTICAL ELEMENT AS WELL AS METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR THIN FILM例文帳に追加

半絶縁性ＩｎＰ基板及び半導体光素子並びに半導体薄膜形成法 - 特許庁

To provide a removing device capable of satisfactorily removing a film formed on an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板上に形成された膜を良好に除去できる除去装置を提供する。 - 特許庁

They are so dried out that the liquid at the outcrop part 22a of the insulating substrate 22 is removed.例文帳に追加

絶縁基板２２の露出部分２２ａの液体が除去される程度に乾燥する。 - 特許庁

A transistor is formed on a silicon substrate 11, where an element isolation insulating film 13 is embedded.例文帳に追加

素子分離絶縁膜１３が埋め込まれたシリコン基板１１にトランジスタを形成する。 - 特許庁

To form a semiconductor thin-film of excellent crystallinity on a substrate layer composed of an insulating material.例文帳に追加

絶縁材からなる基層上に、結晶性の優れた半導体薄膜を形成する。 - 特許庁

Both the insulating substrate and the cover sheet can be manufactured using the same organic polymer material.例文帳に追加

絶縁基体とカバ−シ−トが同じ有機高分子材料を用いて製造可能である。 - 特許庁

To prevent an insulating film from being formed on an interface between bit lines, a wiring and an Si substrate.例文帳に追加

ビット線および配線とＳｉ基板の界面での絶縁膜の形成を防止する。 - 特許庁

(a) A first insulating film including the nitrogen and the silicon is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

（ａ）半導体基板上に、窒素とシリコンとを含む第１の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a gate insulating film 3 provided on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板１上に設けられたゲート絶縁膜３を含む。 - 特許庁

SUBSTRATE-MOUNTING STAND FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF FORMING INSULATING FILM例文帳に追加

プラズマ処理装置用基板載置台、プラズマ処理装置および絶縁皮膜の成膜方法 - 特許庁

INSULATING METALLIC FOIL BAND FOR AMORPHOUS SILICON SOLAR CELL SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

非晶質シリコン太陽電池基板用絶縁性金属箔帯およびその製造方法 - 特許庁

A gate insulating film containing Hf, Al, O, and N is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に、Ｈｆ、Ａｌ、Ｏ及びＮを含有するゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

A compound semiconductor region 2 is formed on a semi-insulating SiC substrate 1.例文帳に追加

半絶縁性のＳｉＣ基板１上に化合物半導体領域２が形成されている。 - 特許庁

The part in contact with a semiconductor substrate 1 of the outside insulating film 6a is removed.例文帳に追加

外側絶縁膜６ａの、半導体基板１と接触する部分は除去されている。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING INSULATING LAYER BURIED SEMICONDUCTOR SILICON CARBIDE SUBSTRATE例文帳に追加

絶縁層埋め込み型半導体炭化シリコン基板の製造方法及びその製造装置 - 特許庁

AL BASE MATERIAL, METAL SUBSTRATE WITH INSULATING LAYER USING THE SAME, SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND SOLAR CELL例文帳に追加

Ａｌ基材、それを用いた絶縁層付金属基板、半導体素子および太陽電池 - 特許庁

ELECTRICAL INSULATING SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PREPREG AND PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

電気絶縁用基材とその製造方法、それを用いたプリプレグおよびプリント配線板 - 特許庁

An insulating film and a cap film are formed on a substrate and a wiring trench is formed on the film.例文帳に追加

基板上に絶縁膜とキャップ膜を設け、この膜に配線用溝を形成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING PATTERN OF INSULATING RESIN FILM ON SURFACE OF SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

基板の表面に樹脂絶縁膜のパターンを形成する方法及び半導体装置 - 特許庁

Thus, exposed area of the inter-layer insulating layer 3 and the substrate 1 is minimized.例文帳に追加

このようにして層間絶縁層３及び基板１の露出面積を最小にする。 - 特許庁

A semiconductor layer 3 is formed on a support substrate 1 through a buried insulating film 2.例文帳に追加

支持基板１上に埋め込み絶縁膜２を介して半導体層３が形成される。 - 特許庁

The core 1 is bonded to a substrate 2 comprising a nonmagnetic and insulating glassy epoxy material.例文帳に追加

非磁性及び絶縁性のガラスエポキシ材からな基板２にコア１は貼付されている。 - 特許庁

The insulating film 5 is composed of a silicon dioxide film and is formed on the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

絶縁膜５は、二酸化シリコン膜からなり、半導体基板１上に形成される。 - 特許庁

The semiconductor elements 4 and 5 are mounted on an insulating substrate 2 comprising a metal layer 3.例文帳に追加

半導体素子４、５は金属層３を有する絶縁基板２上に搭載される。 - 特許庁

Consequently, the impact of the movable ions contained in the insulating substrate can be eliminated.例文帳に追加

これにより、絶縁性基板に含まれる可動イオンの影響をなくすことができる。 - 特許庁

The insulating film consisting of zirconia and Hafnia is formed on the surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面上に、ジルコニアまたはハフニアからなる絶縁膜を形成する。 - 特許庁

A gate electrode 22 is arranged on the gate insulating film on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

ゲート電極２２は、半導体基板の表面上のゲート絶縁膜上に配設される。 - 特許庁