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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Insulating substrateの意味・解説 > Insulating substrateに関連した英語例文

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Insulating substrateの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9601



例文

The formation method of an organic insulating film includes a process in which the insulating varnish is formed as a thin film on a substrate and then it is cured.例文帳に追加

絶縁塗料を基材上に薄膜形成した後に硬化させる工程を含む有機絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

The substrate 11 includes a base body 11a consisting of a metallic material, a first insulating layer 11b, and a second insulating layer 11c.例文帳に追加

基板11は、金属材料からなる基体11aと、第1絶縁層11bと、第2絶縁層11cとを含んでいる。 - 特許庁

Then, a gate insulating film 126 which covers the gate line 131 and the gate electrode 118 is deposited on the insulating substrate 120.例文帳に追加

続いて、絶縁基板120上にゲートライン131及びゲート電極118をカバーするゲート絶縁膜126を蒸着する。 - 特許庁

To form a gate insulating film without giving damage to a silicon substrate by reducing an impurity content in a gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜中の不純物含有量を少なくし、かつシリコン基板にダメージを与えずにゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

例文

A capacitance type sensor 1 includes insulating substrates 2 and 3, and a silicon substrate 4 joined to the insulating substrates 2 and 3.例文帳に追加

静電容量式センサ1は、絶縁基板2、3と、この絶縁基板2,3に接合されたシリコン基板4と、を備えている。 - 特許庁


例文

An insulating layer 33 is formed in such a manner as to cover the conductive BM 32 and the anode substrate 31, and further, anode conductors 34 are mounted on the insulating layer 33.例文帳に追加

導電性のBM32と陽極基板31を覆って絶縁層33を形成し、絶縁層33の上に陽極導体34を設ける。 - 特許庁

On a transparent insulating substrate 1, a gate wire 2, a gate insulating film 4, a semiconductor layer 5, and a contact layer 6 are formed in order.例文帳に追加

透明絶縁性基板1上にゲート配線2、ゲート絶縁膜4、半導体層5、コンタクト層6を順次形成する。 - 特許庁

Then an insulating layer 42 is formed by applying a liquid insulating material to the whole surface of a glass substrate 10 excluding the mask pillars 40.例文帳に追加

その後、マスクピラー40を除いたガラス基板10の全面に液体絶縁材料を塗布して絶縁層42を形成する。 - 特許庁

A lower shielding film 2 and a lower insulating film 3 are laminated and formed on an insulating film 1 formed on a substrate.例文帳に追加

基板(図示せず)上に形成された絶縁膜1上には、下シールド膜2,下部絶縁膜3が積層形成されている。 - 特許庁

例文

An insulating film 20 is formed above a substrate 10, and a recess 22 is provided to the insulating film 20 by reactive ion etching or the like.例文帳に追加

基板10の上方に絶縁膜20が形成され、絶縁膜20に反応性イオンエッチングなどにより凹部22が設けられる。 - 特許庁

例文

The gate insulating film 14 is formed on a semiconductor substrate 10, and a tantalum film 15 is formed on the gate insulating film 14.例文帳に追加

半導体基板10上にゲート絶縁膜14を形成し、このゲート絶縁膜14上にタンタル膜15を形成する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 4 is formed on a semiconductor substrate 1 on which a base insulating film 2 and a lower layer interconnection 3 are formed.例文帳に追加

下地絶縁膜2及び下層配線3が形成された半導体基板1上に層間絶縁膜4を形成する。 - 特許庁

A second insulating film 60 is formed on the prescribed region 51 of a first insulating film 50 provided on a substrate 10.例文帳に追加

基板10上に設けられた第1の絶縁膜50の所定領域51上に第2の絶縁膜60を形成する。 - 特許庁

The upper insulating film in a first region on a surface of the semiconductor substrate is removed, whereas the upper insulating film is left in a second region.例文帳に追加

半導体基板の表面の第1の領域の上部絶縁膜を除去し、第2の領域には、上部絶縁膜を残す。 - 特許庁

An insulating sheet 18 is disposed on the insulating substrate 12 so as to cover the discharge electrodes 14a, 14b and the protection layer 16.例文帳に追加

絶縁シート18は、放電電極14a,14b及び保護層16を覆うように絶縁基板12上に設けられている。 - 特許庁

An insulating film 12 is formed on a semiconductor substrate 11, and a lower electrode 13 is formed on the insulating film 12.例文帳に追加

半導体基板11上には絶縁膜12が形成され、絶縁膜12上には下部電極13が形成されている。 - 特許庁

The multilayer substrate 2 has the insulating layer 6 of aluminum nitride and a conductive layer 4 of copper formed on the insulating layer 6.例文帳に追加

積層基板2は、窒化アルミニウムの絶縁層6と、絶縁層6上に形成されている銅の導電層4を備えている。 - 特許庁

The chip inductor has electrode layers 2 and 4, their insulating layers 3 and 5, and the uppermost insulating layer 6 on a ceramic substrate 1.例文帳に追加

セラミック製の基板1上に、電極層2,4、それらの絶縁層3,5及び最上部の絶縁層6を有するチップインダクタ。 - 特許庁

An insulating interlayer film 5 is formed on a semiconductor substrate 1 on which a transistor is formed, and wiring 8 is formed on the insulating interlayer film 5.例文帳に追加

トランジスタが形成された半導体基板1に 層間絶縁膜5が形成され、この上に配線8が形成される。 - 特許庁

After a base insulating film 2 is formed on a semiconductor substrate 1, a 1st wiring layer 3 is formed on the base insulating film 2.例文帳に追加

半導体基板1上に下地絶縁膜2を形成した後、下地絶縁膜2上に第1の配線層3を形成する。 - 特許庁

An insulating film 1002 is formed on a glass substrate 1001, and an island-shaped semiconductor layer 1003 is formed on the insulating film.例文帳に追加

ガラス基板1001上に絶縁膜1002が形成され、その上に島状半導体層1003が形成される。 - 特許庁

Thereafter, gate insulating films 34, 36 and a polysilicon film 37 and a cap insulating film 38 are formed on the semiconductor substrate 20.例文帳に追加

その後、半導体基板20上にゲート絶縁膜34、36、ポリシリコン膜37およびキャップ絶縁膜38を形成する。 - 特許庁

In a low-area region AreaL; a lower insulating film 102, a first protection insulating film 103, and a second protection insulating film 104 are formed on a semiconductor substrate 101.例文帳に追加

低面積領域AreaLには、半導体基板101上に下地絶縁膜102、第1の保護絶縁膜103及び第2の保護絶縁膜104を形成する。 - 特許庁

A first insulating layer 31 and a second insulating layer 32 are laminated in order on a glass substrate 21, and a main through hole 34 which penetrates vertically respective insulating layers 31, 32 is formed.例文帳に追加

ガラス基板21の上に第1絶縁層31及び第2絶縁層32を順に積層し、各絶縁層31,32を上下に貫通する主スルーホール34を形成する。 - 特許庁

The packaging substrate 2 is coupled by an insulating part 2c made of an insulating material having electric insulating property from a first metal plate 2a and a second metal plate 2b.例文帳に追加

実装基板2は、第1の金属板2aと第2の金属板2bとが電気絶縁性を有する絶縁性材料からなる絶縁部2cにより連結されている。 - 特許庁

To prevent a shape defect of an insulating film and fluctuation of height of the insulating film due to etching-back of the insulating film buried in a groove formed in a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に形成した溝内に埋め込んだ絶縁膜のエッチバックによる絶縁膜の形状不良や絶縁膜の高さのばらつきを防ぐことができる。 - 特許庁

SEMI-INSULATING NITRIDE SEMICONDUCTOR WAFER, SEMI-INSULATING NITRIDE SEMICONDUCTOR SELF-SUPPORTING SUBSTRATE AND TRANSISTOR, AND METHOD AND APPARATUS FOR GROWING SEMI-INSULATING NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加

半絶縁性窒化物半導体ウエハ、半絶縁性窒化物半導体自立基板及びトランジスタ、並びに半絶縁性窒化物半導体層の成長方法及び成長装置 - 特許庁

The interlayer insulating film 16 is formed on a substrate 11 in which the transistor 10A is formed, and the interlayer insulating film 17 is formed on the interlayer insulating film 16.例文帳に追加

層間絶縁膜16はトランジスタ10Aが形成された基板11上に形成されており、この層間絶縁膜16上に層間絶縁膜17が形成されている。 - 特許庁

Insulating resin is embedded between the circuit conductor units while circuit substrate insulating layers are formed on upper surfaces of the circuit conductor units and the insulating resin.例文帳に追加

回路導体部間に、絶縁性樹脂が埋め込まれていると共に、当該回路導体部及び絶縁性樹脂の上面に、回路基板絶縁層が形成されている。 - 特許庁

A flexible wiring board includes: an insulating substrate having a wiring pattern, including connector terminal patterns, formed on a principal surface; a conductive layer covering the connector terminal patterns; and an insulating protective layer covering a part of the wiring pattern; wherein through-holes are formed, between the connector patterns of the insulating substrate and in step portions formed of the insulating protective layer and insulating substrate.例文帳に追加

コネクタ端子パターンを含む配線パターンが主面に形成された絶縁性基板と、コネクタ端子パターンを覆う導電層と、配線パターンの一部を覆う絶縁性保護層とを備え、絶縁性基板のコネクタ端子パターン間であって、絶縁性保護層と絶縁基板とにより形成される段差部に貫通孔が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device 1 has an insulating substrate 10 where a patterned insulating layer 40 and a conductive layer 50 are formed, and the two semiconductor elements (semiconductor chips) 21 and 22 stacked on the insulating substrate 10.例文帳に追加

半導体装置1は、パターニングされた絶縁層40および導電層50とを成膜した絶縁基板10と、この絶縁基板10上に積層された2枚の半導体素子(半導体チップ)21、22とを有している。 - 特許庁

The insulating circuit board 10 comprises: a wiring layer 11 mounting a power device 7; an insulating substrate 12 bonded to the rear surface of the wiring layer 11; and a heat dissipation layer 12 bonded to the rear surface of the insulating substrate 12.例文帳に追加

絶縁回路基板10は、パワーデバイス7が実装される配線層11と、配線層12の裏面に接合された絶縁基板12と、絶縁基板12の裏面に接合された放熱層12とからなる。 - 特許庁

To propose a perforated insulating substrate which can be accurately manufactured, in a relatively simple and inexpensive manner, and to provide a method of manufacturing the substrate.例文帳に追加

高精度に比較的簡単で低コストに製造できる孔明き絶縁基板およびその製造方法を提案する。 - 特許庁

A printed wiring board has an insulating substrate 5 and a wiring pattern composed of connecting terminals 15, etc., and plated leads 11 formed on the surface of the substrate 5.例文帳に追加

絶縁基板5と,その表面に形成された接続端子15等の配線パターンと,メッキリード11とを有する。 - 特許庁

The semiconductor chip 10a and the chip component 12a are mounted on the substrate 20 and embedded into the insulating substrate 30.例文帳に追加

半導体チップ10aおよびチップ部品12aは、基材20にマウントされ絶縁基材30に埋め込まれている。 - 特許庁

The elements arranged on a first substrate and buried in an insulating material are selectively transferred to a second substrate.例文帳に追加

第1の基板上に配列され絶縁性物質に埋め込まれた素子を第2の基板上に選択的に転写する。 - 特許庁

On both sides of a core substrate 10a having a through hole layer 18, an insulating substrate and the wiring pattern are laminated one another.例文帳に追加

スルーホール層18を備えたコア基板10aの両側に、絶縁性基板と配線パターンとを相互に積層した。 - 特許庁

Consequently the end part of a plastic insulating substrate which may receive stress during the manufacturing stress is limited only to the end part of the plastic mother substrate.例文帳に追加

それにより、製造工程中にストレスを受けるプラスチック絶縁基板の端部をプラスチックマザー基板の端部に限る。 - 特許庁

The second substrate is formed from a metallic substrate 50 coated with an insulating layer 52 over a mounting surface with the electron sources.例文帳に追加

第2基板は、電子源が設けられた設置面を絶縁層52で被覆した金属基板50により形成されている - 特許庁

A printed wiring board 10 is provided with an insulating substrate 11, and pads 12 are provided on the substrate 11.例文帳に追加

プリント配線基板10は絶縁性の基板11を備えており、基板11上にはパッド12が設けられている。 - 特許庁

The thermopile-type infrared sensor comprises the thermopile 13 on an insulating substrate 12 supported at a P-type single-crystal Si substrate 11.例文帳に追加

P型単結晶Si基板11に支えられた絶縁基材12上に熱電堆(サーモパイル)13を有する。 - 特許庁

The frame 3 is made of an insulating material and has a larger outline dimension than that of the substrate 2, thereby surrounding the substrate 2.例文帳に追加

枠体3は、絶縁材料からなっており、基体2より大きい外形寸法を有しており、基体2を囲んでいる。 - 特許庁

The through wiring 10 is formed in a through hole passing through the element substrate 1, the insulating layer 3 and the supporting substrate 2.例文帳に追加

貫通配線10は素子基板1、絶縁層3及び支持基板2を貫通する貫通孔に形成されている。 - 特許庁

There is disclosed the manufacturing method of the semiconductor substrate having a SiGe layer formed on a Si substrate 10 with an insulating layer 11 interposed.例文帳に追加

Si基板10上に絶縁層11を介してSiGe層を備えた半導体基板の製造方法である。 - 特許庁

To provide insulating paste which has high adhesiveness to a resin substrate such as a polyimide substrate and high mounting reliability.例文帳に追加

ポリイミド基板など樹脂基板に対しての接着性に優れ、実装信頼性が高い絶縁性ペーストを提供する。 - 特許庁

A flexible substrate 20 has a flexible insulating substrate 21 and a wiring section 30 for actuator drive signals.例文帳に追加

フレキシブル基板20は、可撓性を有する絶縁基板21とアクチュエータ駆動信号用配線部30とを備えている。 - 特許庁

A gate insulating film and a gate electrode are formed on a substrate, and ions are implanted into the substrate for the formation of a diffused layer.例文帳に追加

基板に、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを形成した後、イオン注入をおこない拡散層を形成する。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE INCLUDING FORMING ALIGN MARK IN MOTHER SUBSTRATE (INSULATING MOTHER SUBSTRATE) MADE OF INSULATOR例文帳に追加

絶縁体からなるマザー基板(絶縁マザー基板)にアラインマークを形成することを含む液晶表示装置の製造方法。 - 特許庁

The article comprises a superalloy substrate, an adherent alumina layer on the substrate, and a ceramic, thermally insulating layer on the alumina layer.例文帳に追加

物品は、超合金基体と、この基体上の付着性アルミナ層と、このアルミナ層上のセラミック断熱層と、を含む。 - 特許庁

例文

The semiconductor device has a substrate having an insulating property and conductive layers formed along one surface of the substrate.例文帳に追加

半導体装置は、絶縁性を有する基板と、その一方の表面に沿って形成された導通層とを有する。 - 特許庁




  
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