「PLASM」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plasma generator, a method for generating plasm, and a plasma treatment apparatus where the treatment efficiency of a matter to be treated is high by preventing the reduction of a member of the plasma generator caused by the plasma of reducing gas or gas containing the reducing gas, and suppressing the reduction of the active kind, and charged particles of the reducing gas.例文帳に追加

還元性ガスまたは還元性ガスを含むガスのプラズマによるプラズマ発生装置の部材の還元を防止し、かつ、還元性ガスの活性種や荷電粒子などの減少を抑え、被処理物の処理効率が高いプラズマ発生装置、プラズマ発生方法及びプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

An infrared irradiation device 5 for emitting an infrared ray to an atomizing port of a nebulizer 2 to heat the sample is provided in this sample introducing device of the present invention constituted to atomize the sample fog-likely into a cyclone chamber 1 by the nebulizer 2, and to introduce the sample from a feed port 11 of the cyclone chamber 1 into a plasm torch or the like of the element analyzer.例文帳に追加

サイクロンチャンバー１内に霧状の試料をネブライザ２が噴霧し、サイクロンチャンバー１の送出口１１から元素分析装置のプラズマトーチなどへ試料を導入する構成の試料導入装置に、ネブライザ２の噴霧口へ赤外線を照射して試料を加熱する赤外線照射器５を設ける。 - 特許庁

Each of the neutral particle beam generating mechanisms 50 comprises a micro-plasma generator 51 for generating a micro plasm in a plasma region P inside of a hole 40, and an ion take-out 52 for taking out ions 102 in a micro plasma to a neutralization region N, and a neutralizer 53 for generating neutral particle beams 104 by neutralizing the extracted ions 102.例文帳に追加

各中性粒子ビーム生成機構５０は、孔４０の内部のプラズマ領域Ｐにマイクロプラズマを発生させるマイクロプラズマ生成部５１と、マイクロプラズマ中のイオン１０２を中性化領域Ｎに引き出すイオン引出部５２と、引き出されたイオン１０２を中性化して中性粒子ビーム１０４を生成する中性化部５３とを有している。 - 特許庁

There is provided a method of etching a substrate to be processed whose at least surface layer is composed of gallium nitride by exciting a chlorine gas into a plasma state, including a step of etching the substrate to be processed by the plasm generated from the chlorine gas in the presence of a material containing aluminum nitride (AlN) that generates aluminum radicals and aluminum chloride radicals.例文帳に追加

本発明は、少なくとも表層が窒化ガリウムで構成された被処理基板を、塩素ガスをプラズマ状態に励起することによりエッチングする際に、前記塩化ガスから発生されたプラズマにより、アルミニウムラジカル及び塩化アルミニウムラジカルを発生する窒化アルミニウム（AlN）を含む物質を存在させた状態でエッチングすることを特徴とするドライエッチング方法である。 - 特許庁

To create a high-frequency power supply means effectively controlling standing wave generated among electrodes being a disincentive of generation of uniform plasm having large area and high density necessary to improve productivity in an application for a surface treatment of high-frequency plasma; and to provide an apparatus for a surface treatment for a thin film Si system solar cell, a TFT or the like with a high productivity.例文帳に追加

高周波プラズマの表面処理への応用での生産性向上に必要な大面積・高密度・均一のプラズマ生成の阻害要因である電極間に発生の定在波を、効果的に制御する高周波電力供給手段を創出し、薄膜Ｓｉ系太陽電池・ＴＦＴ等の高生産性の表面処理装置を提供すること。 - 特許庁