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assembly patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 161件
A first substrate 11 on which a conductive pattern functioning as a radiator 21 is formed and a second substrate 12 on which conductive patterns 22 and 23 functioning as a waveguide and a reflector, respectively, are formed are slidably stored in an inner case 15 and an outer case 16, and a resultant antenna assembly 10 is attached on an access point 40 through a three-dimensional joint 50.例文帳に追加
放射器として働く導体パターン21が形成された第1の基板11と、導波器および反射器としてそれぞれ働く導体パターン22,23が形成された第2の基板12とを、スライド可能に、インナケース15およびアウタケース16に収納し、アクセスポイント40の上部に3次元ジョイント50を介して設ける。 - 特許庁
A plurality of the spent fuel assemblies to be stored in the casks are selected based on the storage pattern (S7), and it is determined whether each set value of the radioactivity and the heating value of the casks is satisfied when each spent fuel assembly of which the radioactivity A_N and the heating value H_N calculated is stored in the casks (S10).例文帳に追加
キャスクに収納する複数の使用済燃料集合体を収納パターンに基づいて抽出し(S7)、放射能A_N及び発熱量H_Nの抽出した各使用済燃料集合体をキャスクに収納したとき、キャスクの放射能及び発熱量の各設定値を満足するかを判定する(S11)。 - 特許庁
To provide an evaporation source which is used in a vapor-deposition apparatus that selectively deposits a deposition material emitted from the evaporation source onto a substrate, by using a mask assembly having a plurality of slits formed so as to become a predetermined pattern, and changes a nozzle structure of the evaporation source to minimize a shadow effect, and to provide a vapor-deposition apparatus using the same.例文帳に追加
所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも1つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁
This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.例文帳に追加
本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体1の表面上にめっきレジスト2をパターン形成する工程と、無電解めっき膜5を形成する工程と、電解めっき膜6を形成する工程と、めっきレジスト2を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁
The antenna assembly comprises a controller for controlling the excitation distribution of each sub-array composed of phased array antennas, and a controller for controlling the excitation distribution of each element antenna constituting the phased array antenna, so that a null point of the radiation pattern of the sub-array composed of phased array antennas is aligned with the length of a grating lobe to thereby reduce the grating lobe of all the array antennas.例文帳に追加
フェーズドアレーアンテナからなるサブアレー毎の励振分布を制御する装置に加え、上記フェーズドアレーアンテナを構成する素子アンテナ毎の励振分布を制御する装置を備えることで、フェーズドアレーアンテナからなるサブアレーの放射パターンの零点方向を、グレーティングローブの方向に一致させ、全アレーアンテナのグレーティングローブを低減する。 - 特許庁
To provide a moving body having the same structure and local communication function and performing preset function with the assembly of a number of moving bodies, and a method allowing quick formation of a plurality of sub-patterns or complicated patterns by efficiently gathering a number of moving bodies scattered in a wide range at a pattern formation position to perform to perform given work.例文帳に追加
同じ構造を有し、局所通信機能を持ち、多数が集合して所定の機能を果たすような小型の移動体を提供し、この移動体により所定の作業を行わせるため、広範囲に分散した多数の移動体を効率よくパターン形成位置に集合させて、複数のサブパターンや複雑なパターンも高速に形成することを可能とする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manifold assembly comprising a manifold including fluid conduits of a predetermined pattern extending through it, and a platen that is attached to the manifold and includes a plurality of sample receiving trays, each of which includes an inlet fluid-connecting to at least one fluid conduit of the manifold and an outlet fluid-connecting to at least one fluid conduit.例文帳に追加
マニホルドであって、これを通じて延びる所定パターンの流体導管を含むマニホルドと、マニホルドに取付けられたプラテンであって、複数のサンプル受容部分を含み、ここで、サンプル受容部分の各々が、マニホルドの少なくとも1つの流体導管と流体連絡する入口、および少なくとも1つの流体導管と流体連絡する出口を含むプラテン、とを備える、マニホルドアセンブリを提供すること。 - 特許庁
The magnetic head assembly is covered with magnetic coating material having surface resistivity ≥10^6Ω and ≤10^9Ω on a continuity pattern and a terminal of a flexible printed circuit board connected to a magnetoresistive effect element, and on a rear face of the circuit board.例文帳に追加
磁気抵抗効果素子を接続したフレキシブルプリント基板の導通パターン上、端子上、及びその基盤裏面を10^6Ω以上10^9Ωの表面抵抗率を有する磁性体塗料にて覆われていることより、静電気による静電破壊、静電気による瞬間的な大電流が隆起する電磁界による磁気抵抗効果素子の磁気的な破壊・劣化および静電気以外による外部からの電磁波による破壊を防止する。 - 特許庁
The spray nozzle assembly includes a high impact attachment tube for accelerating liquid flow, a tungsten carbide spray chip at a discharge end of the high impact attachment tube for directing a flat spray pattern, an inlet defined by a strainer at an upstream end of the high impact attachment tube, and a staged vane section intermediate the inlet and the spray chip for reducing liquid turbulence in the flow passageway.例文帳に追加
本発明による噴射ノズルアセンブリは、液体の流れを加速するための耐衝撃性取付管と、フラット噴射パターンを方向付けるために耐衝撃性取付管の排出端にあるタングステンカーバイド噴射先端と、耐衝撃性取付管の上流端のストレーナによって画成される入口と、流路内の液体乱流を緩和するために入口と噴射先端との中間にある多段ベーン部とを含む。 - 特許庁
This manifold assembly for an automation tissue processing system includes a manifold including the fluid conduits of the predetermined pattern extending through it, and the platen that is attached to the manifold and includes the plurality of sample receiving trays, each of which includes the inlet fluid-connecting to at least one fluid conduit of the manifold and the outlet fluid-connecting to at least one fluid conduit.例文帳に追加
自動化組織処理システムのためのマニホルドアセンブリであって、マニホルドであって、これを通じて延びる所定パターンの流体導管を含むマニホルドと、マニホルドに取付けられたプラテンであって、複数のサンプル受容部分を含み、ここで、サンプル受容部分の各々が、マニホルドの少なくとも1つの流体導管と流体連絡する入口、および少なくとも1つの流体導管と流体連絡する出口を含むプラテン、とを備える、マニホルドアセンブリ。 - 特許庁
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