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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > caustic etchingに関連した英語例文

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caustic etchingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 14



例文

AQUEOUS SOLUTION OF CAUSTIC SODA FOR ETCHING SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウエハーエッチング用苛性ソーダ水溶液 - 特許庁

CAUSTIC REDUCTION ACCELERATOR FOR ETCHING POLYESTER FIBER AND METHOD FOR ETCHING例文帳に追加

ポリエステル繊維抜蝕加工用減量促進剤及び抜蝕加工方法 - 特許庁

METHOD OF RECOVERING AND RECYCLING CAUSTIC ALKALI SOLUTION FOR SILICON WAFER ETCHING AND CAUSTIC ALKALI SOLUTION RECOVERED BY THE METHOD例文帳に追加

シリコンウエハーエッチング用苛性アルカリ水溶液の回収再生方法およびそれによって回収された苛性アルカリ水溶液 - 特許庁

The alkaline etching solution is a caustic alkaline aqueous solution containing bromate or a caustic alkaline aqueous solution containing bromate and nitrate.例文帳に追加

本発明のアルカリエッチング液は、臭素酸塩を含む苛性アルカリ水溶液、又は臭素酸塩と硝酸塩とを含む苛性アルカリ水溶液である。 - 特許庁

例文

The etching rate equal to or above the attained by the industrially applied caustic soda solution having high concentration is attained with the caustic soda solution having low concentration by pressurizing the caustic soda solution and as a result, the crystallization is performed under a concentration condition at which the crystallization is facilitated.例文帳に追加

苛性ソーダ溶液を加圧することにより低濃度の苛性ソーダ溶液で工業的に使用できる高濃度以上のエッチング速度が得られ、それにより、容易に晶析できる濃度条件とすることができる。 - 特許庁


例文

When the film 2 is the PET film, an aqueous caustic alkali solution is used for the chemical etching of the film 2.例文帳に追加

合成樹脂製フィルム2の化学エッチングは、フィルム2がPETフィルムである場合、苛性アルカリ水溶液が用いられる。 - 特許庁

The aluminum component stuck on a dies T is dissolved with an caustic soda solution in an etching vessel 1 pressurized equal to above the atmospheric pressure, the caustic soda solution in which the concentration of aluminum is increased is crystallized in a crystallization vessel 3 to remove aluminum as aluminum hydroxide and to return the regenerated caustic soda solution to the etching vessel 1 to use again.例文帳に追加

大気圧以上に加圧したエッチング槽1で苛性ソーダ溶液でダイスTに付着したアルミニウム成分を溶解し、アルミニウムが高濃度になった苛性ソーダ溶液は晶析槽3で晶析処理し、アルミニウムを水酸化アルミニウムとして除去し、再生した苛性ソーダ溶液はエッチング槽1に循環して再使用する。 - 特許庁

The method for etching a silicon semiconductor wafer, after lapping with use of a chemical includes steps of filling an etching bath with an alkali chemical including caustic soda (NaOH) and caustic potash (KOH), immersing the silicon semiconductor wafer into the alkali chemical, alkali etching the surface of the silicon semiconductor wafer to make the thickness 30 μm or less, and treating the wafer with an acid chemical, prior to the alkali etching step.例文帳に追加

ラッピング後のシリコン半導体ウェーハを薬液によりエッチングする方法において、エッチング槽内に苛性ソーダ(NaOH)及び苛性カリ(KOH)からなるアルカリ薬液を満たし、シリコン半導体ウェーハをそのアルカリ薬液に浸漬し、シリコン半導体ウェーハの表面を30μm以下アルカリエッチングし、しかも、そのアルカリエッチングの処理前に酸薬液で酸処理する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a high purity caustic soda aqueous solution for wafer etching, a caustic soda aqueous solution is contacted with an active carbon activated by immersion treatment in nitric acid, and its iron content is reduced to not higher than 200 ppb, and its nickel content to not higher than 20 ppb.例文帳に追加

苛性ソーダ水溶液を硝酸に浸漬処理して賦活した活性炭と接触させて、その含有鉄分を200ppb以下に、ニッケル分を20ppb以下になるまで除去することを特徴とするウエーハエッチング用高純度苛性ソーダ水溶液の製造方法。 - 特許庁

例文

The contamination of silicon wafers with metals is tightly controlled by using an aqueous solution of caustic soda containing carbonates in etching.例文帳に追加

カルボン酸塩類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。 - 特許庁

例文

The contamination of silicon wafers with metals is tightly controlled by using an aqueous solution of caustic soda containing phenols in etching.例文帳に追加

フェノール類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。 - 特許庁

To provide an aluminum alloy extrusion material whose surface can uniformly be subjected to embossing treatment by only performing etching treatment using a commonly used sodium hydroxide aqueous solution (a caustic soda bath).例文帳に追加

常用されている水酸化ナトリウム水溶液(苛性ソーダ浴)を用いてエッチング処理するだけで、アルミニウム合金押出材の表面を均一に梨地処理できる押出材の提案を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of commercially manufacturing a high purity caustic soda aqueous solution which is reduced in iron and nickel content to the level capable of using as an etching agent of silicon wafer at a low cost.例文帳に追加

シリコンウエーハのエッチング剤として使用できるレベルにまで鉄分およびニッケル分を除去した高純度の苛性ソーダ水溶液を、低コストで工業的に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

例文

The inner structure of the syringe comprises special materials, especially glass, plastics, quartz and/or corundum, and the surface is reformed by an etching agent, e.g. acid or caustic alkali solution, especially the chromic acid mixture, uninterruptedly after removal of the etching agent and cleaning of the syringe, and the surface of the syringe inner structure is especially sterilized by a pressurized heating process according to circumstances.例文帳に追加

注射器の内部構造は特別な材料、特にガラス、プラスチック、石英および/またはコランダム、からなり、その表面は特にエッチング剤、例えば酸または苛性アルカリ溶液、特にクロム硫酸で改質され、引き続きエッチング剤の除去と注射器の洗浄後に場合によっては注射器内部構造の表面が、特に加圧熱処理によって、滅菌される。 - 特許庁

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