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etching methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6852件
To provide a wet etching method of high controllability which takes in-plane distribution of etching characteristics and composition change of etching liquid into account.例文帳に追加
エッチング特性の面内分布やエッチング液の組成変化を考慮した、制御性の高いウエットエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method and an etching device capable of uniform etching with high degree of accuracy over a long period of time.例文帳に追加
長期にわたり、高い精度で均一なエッチングができるエッチング方法およびエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a substrate etching apparatus and a substrate etching method using the same capable of applying uniform etching to a glass substrate.例文帳に追加
ガラス基板のエッチングを均一にすることができる基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method which can prevent a change in etching characteristics due to a memory effect while maintaining the merits of all-in-one etching.例文帳に追加
オール・イン・ワンエッチングの利点を維持しつつ、メモリーエフェクトによるエッチング特性の変動を回避できるエッチング方法を提供する。 - 特許庁
The wet-etching method which etches an object using an etching liquid irradiates a laser beam to the object in etching.例文帳に追加
エッチング液を使用して対象物をエッチングするウエットエッチング方法において、エッチング中に対象物にレーザ光を照射する。 - 特許庁
To provide an etching device and an etching method, wherein etching efficiency is high, and alkali permanganic acid etchant is used.例文帳に追加
エッチング効率の高いアルカリ過マンガン酸エッチング液を用いたエッチング処理装置及びエッチング処理方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide an etching apparatus and an etching method capable of obtaining excellent in-plane uniformity while improving an etching rate.例文帳に追加
エッチング速度の向上を図りつつ、良好な面内均一性を得ることができるエッチング装置及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching method and a dry etching apparatus that can achieve an excellent etching characteristic with reducing the cost of facilities.例文帳に追加
設備コストを低減しつつ、良好なエッチング特性を得ることができるドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method which can properly determine the end point in etching a substrate and to provide an etching system.例文帳に追加
基材に対するエッチング処理の終点の見極めを適正に行うことができるエッチング方法、及びエッチングシステムを提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching method which is capable of realizing anisotropic etching in an etching operation where oxygen active species are mainly used.例文帳に追加
酸素活性種を主体とするエッチングにおいてエッチング異方性を得ることができるドライエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
This method for etching is characterized by irradiating UV light on the etching of a resin film before or during the etching.例文帳に追加
樹脂膜のエッチングにおいて、エッチング前および/またはエッチング中に紫外線を照射することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁
To provide an etching method for a thin film composed of zinc-oxide based crystal, wherein the method suppresses side etching and anisotropic etching, and suppresses occurrence of etching residues, not depending on coarseness or fineness of wiring patterns and on pattern geometry, while the method performs etching treatment with the optimum etching rate.例文帳に追加
酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のエッチングにおいて、最適なエッチング速度でエッチング処理を施すことができ、配線パターンの粗密やパターン形状に依存せず、サイドエッチングや異方性エッチングを抑制し、且つエッチング残渣の発生を抑制するエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE HOT MELT RESIST AND ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加
感光性ホットメルトレジスト及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD, SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
エッチング方法、弾性表面波素子および電子機器 - 特許庁
To provide an etching method with an improved etching factor, and a method for manufacturing a circuit device by using it.例文帳に追加
エッチングファクターを向上させたエッチング方法およびそれを用いた回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
MULTISTAGE LOCAL DRY ETCHING METHOD FOR SOI (SILICON ON INSULATOR) WAFER例文帳に追加
SOIウェハーのための多段局所ドライエッチング方法 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING ULTRAVIOLET LIGHT-TRANSMITTING POLYMER MATERIAL例文帳に追加
紫外光透過性高分子材料のエッチング方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND WET ETCHING DEVICE例文帳に追加
半導体装置の製造方法及びウエットエッチング装置 - 特許庁
To provide an etching method capable of controlling an etching amount with high accuracy, to provide a manufacturing method of the semiconductor device employing the etching method, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加
高精度にエッチング量を制御することのできるエッチング方法、かかるエッチング方法を用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SUBMICRON GATE INCLUDING ANISOTROPICAL ETCHING例文帳に追加
非等方性エッチングを含むサブミクロンゲートの製造方法 - 特許庁
ASSEMBLING METHOD FOR ETCHING THIN PLATE FOR FORMING FLUID MODULE例文帳に追加
流体モジュール形成用エッチング薄板の組立方法 - 特許庁
ETCHING METHOD AND SUBSTRATE WITH ELECTROCONDUCTIVE POLYMER例文帳に追加
エッチング方法、及び、導電性高分子を有する基板 - 特許庁
According to this method, the oxide of the polymer is removed through etching.例文帳に追加
これにより、ポリマーの酸化物がエッチング除去される。 - 特許庁
To provide a method of selective etching improved by using an etch stop layer.例文帳に追加
エッチング停止層を使用する選択的エッチング法 - 特許庁
METHOD FOR CONTROLLING FERRIC CHLORIDE ETCHING SOLUTION AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
塩化第二鉄エッチング液の管理方法および装置 - 特許庁
COMPOSITE BODY FOR DRY ETCHING, METHOD FOR FORMING DRY ETCHING PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING NOZZLE PLATE FOR LIQUID DISCHARGE HEAD例文帳に追加
ドライエッチング用複合体、ドライエッチング製品の形成方法及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加
半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ETCHING DEVICE例文帳に追加
半導体装置を製造する方法及びエッチング装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DRY ETCHING EQUIPMENT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ドライエツチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
SOLUTION AND METHOD FOR ETCHING THIN COPPER FOIL例文帳に追加
薄銅箔用エッチング液および薄銅箔エッチング方法 - 特許庁
RESIST ASHING METHOD AFTER ETCHING WITH ORGANIC INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加
有機層間絶縁膜エッチング後のレジストアッシング方法 - 特許庁
METHOD FOR QUANTITATIVELY ANALYZING MIXED ACID LIQUID IN ETCHING PROCESS例文帳に追加
エッチングプロセスにおける混酸液の定量分析方法 - 特許庁
METHOD FOR DRY ETCHING FERROELECTRIC SUBSTANCE CAPACITOR STRUCTURAL BODY例文帳に追加
強誘電体キャパシタ構造体の乾式蝕刻方法 - 特許庁
POST-ETCHING CLEANING METHOD FOR POROUS LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL例文帳に追加
多孔質低誘電率材料のエッチング後のクリーニング法 - 特許庁
SURFACE TREATMENT METHOD FOR ALUMINUM WHEEL AND ALKALI ETCHING LIQUID例文帳に追加
アルミホイールの表面処理方法及びアルカリエッチング液 - 特許庁
METHOD FOR COLLECTING INDIUM FROM OXALIC ACID ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加
シュウ酸エッチング廃液からのインジウムの回収方法 - 特許庁
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