「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF ETCHING TOP ELECTRODE/FERROELECTRIC STACK FILM例文帳に追加

上部電極／強誘電体積層膜のエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびドライエッチング装置 - 特許庁

CRYSTALLINE ANISOTROPIC DRY ETCHING METHOD FOR SILICON AND DEVICE THEREOF例文帳に追加

シリコンの結晶異方性ドライエッチング方法、および装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマエッチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER AND PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

半導体ウエーハの加工方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁

ETCHING MASK, METHOD FOR FORMING CONTACT HOLE WHICH USES THE ETCHING MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED BY THE METHOD例文帳に追加

エッチングマスク及びエッチングマスクを用いたコンタクトホールの形成方法並びにその方法で形成した半導体装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ETCHING GALLIUM NITRIDE例文帳に追加

窒化ガリウムのエッチング方法および窒化ガリウムのエッチング装置 - 特許庁

ETCHING METHOD OF DIELECTRIC THIN FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

誘電体薄膜のエッチング方法及び半導体装置 - 特許庁

PHOTOMASK HAVING SELF-MASKING LAYER AND METHOD OF ETCHING THE SAME例文帳に追加

自己マスク層を有するフォトマスクとそのエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体のドライエッチング方法 - 特許庁

CHEMICAL ETCHING METHOD FOR IMPACT PLATE FOR GOLF CLUB HEAD例文帳に追加

ゴルフ・クラブ・ヘッド用打撃プレートの化学的エッチング方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING SIDE OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハの片面エッチング方法およびその装置 - 特許庁

WET ETCHING METHOD AND DEVICE OF COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

化合物半導体のウエットエッチング方法およびその装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD FOR GALLIUM-NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR AND THE LIKE例文帳に追加

窒化ガリウム系化合物半導体等のドライエッチング方法 - 特許庁

GAS FOR DRY ETCHING AND METHOD FOR MACHINING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング用ガスおよび半導体デバイスの加工方法 - 特許庁

a method of etching that imitates the broad washes of a water color 例文帳に追加

水彩画のブロード・ウオッシュをまねたエッチングの手法 - 日本語WordNet

ETCHING METHOD IN STACKED FILM STRUCTURAL BODY, AND WAFER例文帳に追加

積層膜構造体におけるエッチング方法、並びに、ウエハ - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING VERTICAL FACE BY DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチングによる垂直面作製方法及び装置 - 特許庁

LAMINATE FOR WIRING BOARD AND ITS ETCHING METHOD例文帳に追加

配線基板用積層体及びそのエッチング加工方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ETCHING RESIST, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチングレジスト用感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

To provide an etching method by which side etching is prevented when wet-etching is applied to a corrosion-proof film formed on a substrate made of a piezoelectric material thereby increasing etching accuracy, and to provide a method for manufacturing a piezoelectric device and a method for manufacturing a piezoelectric oscillating piece both utilizing the etching method and structure of electric corrosion inhibition pattern.例文帳に追加

圧電材料である基板に形成した耐蝕膜をウエットエッチングする際に、サイドエッチングを防止し、精度を向上させるエッチング方法とこれを利用した圧電振動片と圧電デバイスの製造方法ならびに電喰抑制パターンの構造を提供する。 - 特許庁

To provide an etching depth distribution measuring device capable of measuring etching depth distribution in a substrate surface by a nondestructive method, and to provide an etching depth distribution measuring method.例文帳に追加

基板表面のエッチング深さの分布を非破壊で測定することができるエッチング深さ分布測定装置およびエッチング分布測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method for performing stable etching treatment, a method for manufacturing a microstructure, and an etching apparatus.例文帳に追加

本発明は、安定したエッチング処理を行うことができるエッチング処理方法、微細構造体の製造方法、およびエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method which can further improve both an etching rate and a resist selection ratio compared with a conventional method in executing aspect ratio etching.例文帳に追加

アスペクト比エッチングを行う際に，エッチングレートとレジスト選択比の両方を従来以上に向上させることができるプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method capable of etching with good controllability without lengthening a process time, and to provide an etching device for performing the method.例文帳に追加

プロセス時間を長くすることなく、制御性良好にエッチングを行うことが可能なエッチング方法およびこの方法を行うためのエッチング装置を提供する。 - 特許庁

ETCHING GAS COMPOSITION FOR ETCHING SILICON OXIDE AND POLYSILICON SIMULTANEOUSLY, ETCHING METHOD BY USE THEREOF AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR MEMORY THEREBY例文帳に追加

シリコン酸化物とポリシリコンを同時にエッチングするためのエッチングガス組成物、これを利用したエッチング方法およびこれを利用した半導体メモリ装置の製造方法 - 特許庁

At etching a material using a two step etching method, a first etching step is terminated before a ground layer is exposed and a system moves to a second etching step, with the condition that etching speed be slower than the first etching step.例文帳に追加

二段階エッチング法を用いて被エッチング材のエッチングを行う際に、第１エッチング段階を下地層が露出する前に終了し、エッチング速度が前記第１エッチング段階より遅い条件で第２エッチング段階に移行する。 - 特許庁

The etching method for performing etching by immersing a glass substrate W to be etched in an etching chemical liquid L previously obtains relation of a temperature increase amount of the etching chemical liquid L and an etching amount of the base substance to be etched during etching.例文帳に追加

エッチング薬液Ｌに被エッチング基体であるガラス基板Ｗを浸漬してエッチングを行うエッチング方法であって、エッチングの際のエッチング薬液Ｌの温度上昇量と被エッチング基体のエッチング量との関係を予め得ておく。 - 特許庁

PLASMA TREATMENT METHOD, PLASMA FILM FORMING METHOD, PLASMA ETCHING METHOD AND PLASMA TREATMENT DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理方法、プラズマ成膜方法、プラズマエッチング方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁

ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF PIEZOELECTRIC DEVICE AND PIEZOELECTRIC VIBRATION PIECE UTILIZING THE METHOD例文帳に追加

エッチング方法およびこれを利用した圧電デバイスと圧電振動片の製造方法。 - 特許庁

To provide a dry etching device, a dry etching method and a plasma controller such that etching processing can be performed in an optimum plasma state wherein etching damage to an etching mask as well as a material to be etched is taken into consideration.例文帳に追加

被エッチング材料に加えてエッチングマスクのエッチングダメージを考慮した最適なプラズマ状態でエッチング処理ができるドライエッチング装置、ドライエッチング方法およびプラズマ制御装置を提供する。 - 特許庁

ETCHING METHOD AND ETCH PROFILE SHAPED PRODUCT MADE BY THE METHOD例文帳に追加

エッチング方法及びその方法によって成形されたエッチング成形品 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING HARD ETCHING MASK AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ハードエッチングマスクの除去方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MIST ETCHING METHOD, APPARATUS THEREOF, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ミストエッチング方法及び装置ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁

WET ETCHING METHOD, MICRO MOVABLE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ウエットエッチング方法、マイクロ可動素子製造方法、およびマイクロ可動素子 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチング方法、及び半導体装置の製造方法、半導体装置 - 特許庁

FERROELECTRIC MEMORY ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ETCHING BACK METHOD例文帳に追加

強誘電体メモリ素子及びその製造方法並びにエッチバック方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF SILICON NITRIDE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加

窒化シリコン膜のドライエッチング方法および薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチング方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法、ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

MEASUREMENT METHOD OF PROFILE, ETCHING DISPERSION ESTIMATION METHOD AND MEASUREMENT DEVICE例文帳に追加

プロファイルの測定方法、エッチングばらつき予測方法および測定装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING NON-ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET FOR ETCHING-PROCESS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOTOR CORE例文帳に追加

エッチング加工用無方向性電磁鋼板とモータコアの製造方法 - 特許庁

MULTILAYER RESIST AND PROCESSING METHOD THEREOF, AND ETCHING METHOD USING MULTILAYER RESIST例文帳に追加

多層レジストとその加工方法及び多層レジストを用いたエッチング方法 - 特許庁