例文 (256件) |
exposure control systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 256件
EXPOSURE CONTROL SYSTEM例文帳に追加
露光制御システム - 特許庁
TEMPERATURE CONTROL OF SEMICONDUCTOR EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
半導体露光装置の温度制御 - 特許庁
INDIVIDUAL EXPOSURE DOSE CONTROL SYSTEM例文帳に追加
個人被曝線量管理システム - 特許庁
EXPOSURE CONTROL SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING EXPOSURE例文帳に追加
露光制御システム及び露光制御方法 - 特許庁
ADVERTISING EXPOSURE CONTROL SYSTEM, ADVERTISING EXPOSURE CONTROL METHOD, ADVERTISING EXPOSURE CONTROL PROGRAM AND ADVERTISING EXPOSURE CONTROL TERMINAL例文帳に追加
広告露出量制御システム、広告露出量制御方法、広告露出量制御プログラム、および広告露出量制御端末 - 特許庁
To provide an exposure control system capable of performing proper exposure.例文帳に追加
適正な露光を行うことが可能な露光制御システムを提供する。 - 特許庁
CONTROL METHOD FOR EXPOSURE HEAD AND ELECTROPHOTOGRAPHIC SYSTEM MOUNTED WITH EXPOSURE HEAD例文帳に追加
露光ヘッドの制御方法および露光ヘッドを塔載した電子写真装置 - 特許庁
EXPOSURE CONTROL/RADIATION WORK CONTROL SYSTEM AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
被ばく管理,放射線作業管理システムとその方法 - 特許庁
To accelerate the exposure processing of exposure control data, in an electron beam exposure system.例文帳に追加
電子ビーム露光装置における露光制御データの展開処理を高速化する。 - 特許庁
OPTICAL CONTROL INDICATION SYSTEM, OPTICAL CONTROL INDICATION METHOD, CONTROL METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
光学調整指示システム、光学調整指示方法、調整方法、露光装置、および露光方法 - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM AND CIRCUIT BOARD FOR LASER CONTROL SECTION例文帳に追加
露光装置およびレーザー制御部用回路基板 - 特許庁
EXPOSURE AMOUNT CONTROL SYSTEM FOR DIGITAL CAMERA例文帳に追加
デジタルカメラの露光量制御システム - 特許庁
AUTOMATIC EXPOSURE CONTROL SYSTEM OF DIGITAL CAMERA例文帳に追加
ディジタルカメラの自動露出制御システム - 特許庁
EXCIMER LASER CONTROL DEVICE AND EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
エキシマレーザ制御装置及び露光システム - 特許庁
EXPOSURE CONTROL SYSTEM OF DIGITAL CAMERA例文帳に追加
ディジタルカメラの露出制御システム - 特許庁
EXPOSURE APPARATUS, TEMPERATURE CONTROL SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
露光装置、温調システムおよびデバイス製造方法 - 特許庁
RADIATION EXPOSURE DOSE CONTROL SYSTEM AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
放射線被曝線量管理システム及び記憶媒体 - 特許庁
AUTOMATIC EXPOSURE CONTROL FOR DIGITAL IMAGE OBTAINING SYSTEM例文帳に追加
ディジタル画像取得システム用の自動照射制御 - 特許庁
CONTROL SYSTEM OF THERMAL DEFORMATION OF REFLECTING MIRROR AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
反射鏡の熱変形の制御システム及び露光装置 - 特許庁
CONTENT EXPOSURE CONTROL SYSTEM, CONTENT EXPOSURE CONTROL METHOD, DISTRIBUTION DEVICE, USER TERMINAL, AND CONTENT EXPOSURE CONTROL PROGRAM例文帳に追加
コンテンツ露出制御システム、コンテンツ露出制御方法、配信装置、ユーザ端末、およびコンテンツ露出制御プログラム - 特許庁
METHOD OF DESIGNING CONTROL SYSTEM, CONTROL SYSTEM, METHOD OF REGULATING CONTROL SYSTEM, AND METHOD FOR EXPOSURE例文帳に追加
制御系の設計方法、制御系、制御系の調整方法及び露光方法 - 特許庁
STAGE DEVICE, CONTROL SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ステージ装置、制御システム、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM FOR OBTAINING SENSITOMETRIC CONTROL PATCH WITH EXPOSURE GRADIENT例文帳に追加
露光勾配のある感光性コントロールパッチを生成するための露光システム - 特許庁
To reduce load at developing of exposure control data, in an electron beam exposure system.例文帳に追加
電子ビーム露光装置において露光制御データを展開する際の負担を軽減する。 - 特許庁
DEFORMATION CONTROL METHOD OF SUBSTRATE, NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD AND NEAR-FIELD EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
基板の変形量制御方法、近接場露光方法及び近接場露光装置 - 特許庁
EXPOSURE CONTROL SYSTEM, EXPOSURE CONTROL METHOD, ITS PROGRAM AND RECORDING MEDIUM, CAMERA CONTROL SYSTEM AND CAMERA例文帳に追加
露出制御システム、露出制御方法、そのプログラムと記録媒体およびカメラ制御システムとカメラ - 特許庁
The exposure of the pixel pattern part with 3 μm resolution and the exposure of the control pattern part with 1 μm resolution are continuously carried out using an exposure system.例文帳に追加
露光装置でいずれかの順序で連続して3μmの解像度で画素パターン部を露光する。 - 特許庁
To measure a transmittance change in nearly all optical systems including a projection exposure system in an exposure process so as to control cumulated exposure more accurately.例文帳に追加
露光中に、投影露光系を含めて概ね全光学系の透過率変化を測定し、積算露光量をより正確に制御する。 - 特許庁
To surely control the scheduled time of exposure finishing in an exposure time controlling system used for an exposure device for an autography.例文帳に追加
オートラジオグラフィの露出装置に用いられる露出時間管理システムであって、露出終了予定時刻を確実に管理する。 - 特許庁
To provide an exposure control/radiation work control system realizing exposure control in a real time, and a method therefor.例文帳に追加
リアルタイムは被ばく管理を実現する被ばく管理、放射線作業管理システムとその方法を提供する。 - 特許庁
AUTOMATIC FOCUS/EXPOSURE CONTROL DEVICE OF IMAGING SYSTEM AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
撮像システムの自動合焦/露光量制御装置および方法 - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM, DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND CONTROL METHOD例文帳に追加
露光装置、デバイス製造方法、デバイスおよび制御方法 - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM, CONTROL METHOD THEREFOR, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
露光装置及びその制御方法並びにデバイス製造方法 - 特許庁
RADIATION DISTRIBUTION MONITOR, RADIATION DETECTOR, AND EXPOSURE CONTROL SYSTEM例文帳に追加
放射線分布監視装置,放射線検出装置及び被曝管理装置 - 特許庁
CONTROL METHOD FOR STAGE DEVICE, EXPOSURE SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE例文帳に追加
ステージ装置の制御方法、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁
TEMPERATURE CONTROL DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
温度制御装置、露光システムおよびデバイス製造方法 - 特許庁
OPTICAL HEAD DRIVING METHOD, OPTICAL HEAD CONTROL SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM, AND IMAGE FORMING SYSTEM例文帳に追加
光ヘッドの駆動方法、光ヘッドの制御装置、露光装置および画像形成装置 - 特許庁
Corresponding to the calculated exposure value, the exposure time of a motor-driven stop or CCD in the lens system 2 is controlled by an exposure control means 5 and even when there are a plurality of moving parts, suitable exposure control is executed corresponding to an image pickup target.例文帳に追加
算定された露出値に応じて露出制御手段5によりレンズ系2内の電動絞りやCCDの露光時間を制御して、動体部が複数の場合でも撮像対象に合わせて適切な露出制御を行うようにする。 - 特許庁
例文 (256件) |
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