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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > exposure control systemに関連した英語例文

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exposure control systemの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 256



例文

The transmissivity variation of the optical system in the optical path is therefore substantially canceled, to enable high precision exposure quantity control.例文帳に追加

従って、前記光路中の光学系の透過率変動を実質的に相殺して高精度な露光量制御を行うことが可能となる。 - 特許庁

A current density control mechanism capable of controlling light exposure is provided on the side of an illuminating optics system 215.例文帳に追加

また、露光量の調整ができるように照明光学系215側に電流密度を制御できる機構を設ける。 - 特許庁

METHOD TO CONTROL SEQUENCE OF MEASUREMENT STEPS FOR ALIGNING A SEMICONDUCTOR WAFER IN EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光装置において半導体ウェハをアライメントするための測定ステップのシーケンスを制御する方法 - 特許庁

To execute exposure control while linking right and left cameras, irrespective of the distance to a subject in a stereoscopic imaging system.例文帳に追加

ステレオ撮像システムにおいて、被写体距離に関わらず左右のカメラ間で連携して露光制御を行うこと。 - 特許庁

例文

During exposure operation and/or alignment measurement, the position information of a wafer stage WST is measured using an encoder system by a control unit.例文帳に追加

露光動作、及び/又はアライメント計測中、制御装置により、エンコーダシステムを用いてウエハステージWSTの位置情報が計測される。 - 特許庁


例文

To provide a communication technology that allows high-speed data communication and maintains hard real time property, in a digital control system of an exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置のデジタル制御システムにおいて、高速にデータ通信が可能で、かつ、ハードリアルタイム性が維持される通信技術を提供すること。 - 特許庁

This control module operates an emission matter sample receiving system to achieve accurate exposure during the diagnostic routine.例文帳に追加

かかる制御モジュールは、診断ルーチン中に正確な暴露を行うべく、排出物質サンプル受け取りシステムを操作する。 - 特許庁

To provide an electronic image pickup device which accurately performs automatic exposure control all the time regardless of the variable power rate of a photographing optical system, etc.例文帳に追加

撮影光学系の変倍率等に関わらず常に正確な自動露出制御を行ない得る電子的撮像装置を提供する。 - 特許庁

In the averaged light measuring system, the exposure control is performed in accordance with the predetermined light measuring patterns to be exclusively used.例文帳に追加

平均測光方式においては、予め定められた専用の測光パターンに基づいて露出制御を行う。 - 特許庁

例文

To prevent the transfer rate of light emission control signals from being increased in a light emitting device employing a multiplex exposure system.例文帳に追加

多重露光方式を採用した発光装置において発光制御信号の転送レートの増大を防止する。 - 特許庁

例文

When an exposure (AE) is determined to be appropriate, measured data are stored into an inside memory of a system control circuit and then processing is advanced to a step S208.例文帳に追加

露出(AE)が適正と判断したならば、測定データ等をシステム制御回路の内部メモリ等に記憶し、ステップS208に進む。 - 特許庁

This invention, for example, can be applied to a solid imaging device which performs exposure control by a rolling shutter system.例文帳に追加

本発明は、例えば、ローリングシャッタ方式による露光制御を行う固体撮像装置に適用できる。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus suitably carrying out exposure control and thus capable of carrying out excellent detection of the focal state of an imaging optical system.例文帳に追加

露光制御を適切に行ない、これにより撮影光学系の焦点状態の検出を良好に行うことのできる撮像装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an X-ray CT system for performing a contrast radiography by a helical shuttle scanning smaller in the amount of exposure, and to provide a scanning control method.例文帳に追加

造影撮影を被曝量のより小さいヘリカルシャトルスキャンで行うX線CT装置およびスキャン制御方法を実現する。 - 特許庁

To provide a holding apparatus and an exposure apparatus for tilting or deforming an optical element without complicating a control system of a deformation drive.例文帳に追加

変形駆動の制御系を複雑化させずに光学素子のチルト又は変形が可能な保持装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

With such constitution, temperature control of the substrates becomes accurate by the transfer system, variations in temperature of each substrate are reduced, and exposure of high accuracy is provided.例文帳に追加

従って、搬送装置による基板温度制御が正確になり、基板毎の温度のばらつきが少なくなり、高精度の露光を行なうことができる。 - 特許庁

To provide a camera system with which a light control feasible distance at which an object is photographed with proper exposure is easily grasped and to provide a flashing device.例文帳に追加

被写体を適正な露出で撮影できる調光可能距離を容易に把握できるカメラシステムおよび閃光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging system capable of exposure control matching the state of a subject while making a camera small-sized.例文帳に追加

カメラの小型化を達成しつつ、被写体の状況に対応した露出制御が可能な撮像システムを提供する。 - 特許庁

To provide an Image pickup device or the like that configures a system with other devices and ensures controllability and response to exposure control at the same time.例文帳に追加

他の装置とシステムを構成する撮像装置等において、露出制御の制御性と応答性とを同時に確保する。 - 特許庁

Consequently, the exposure control can be performed while the A frame 604 of high luminance is taken into consideration and the digital exposure correction processing is suitably performed for the image distributed from the camera system 100.例文帳に追加

これにより、輝度の高いA枠604を考慮して露光制御することが可能になり、ネットワークカメラ100から配信された画像に対するデジタル覆い焼き処理を適切に行なうことができる。 - 特許庁

After driving control is switched to a system of the determined cartridge, the photosensitive material is fed from the cartridge to perform exposure in an exposure unit 3.例文帳に追加

そして、そのカートリッジの系統に駆動制御を切り替えた上で、そのカートリッジから感光材料を繰り出し、露光ユニット3においてこれを露光する。 - 特許庁

To freely control the balance of a color temperature over a wide range in the complementary color balance function of a camera system wherein photographing of a wide dynamic range is performed by combining long-time exposure and short-time exposure.例文帳に追加

長時間露光と短時間露光とを組み合わせることにより、広ダイナミックレンジの撮影を行うようにしたカメラシステムの補色バランス機能において、色温度のバランスを広い範囲で自在に制御する。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method which can reduce time duration necessary for exposure treatment by attaining improvement of efficiency of treatment in a control system, so that a device can be manufactured by a high throughput as a result.例文帳に追加

制御系における処理の効率化を図ることにより露光処理に要する時間を短縮することができ、その結果として高いスループットでデバイスを製造することができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aberration control system for liquid immersion lithography and a method for compensating the heat effect of the exposure energy for a liquid immersion fluid over the entire exposure region.例文帳に追加

露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する液浸リソグラフィ収差制御システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

A system controller 112 is provided with a parameter calculation part 112b for automatically calculating parameters needed to trace and image celestial bodies and a divided exposure control part 112c which controls the divided exposure imaging.例文帳に追加

システムコントローラ112には、天体追尾撮像に必要なパラメータを自動的に算出するためのパラメータ算出部112bと、分割露光撮像を制御するための分割露光制御部112cとが設けられている。 - 特許庁

To provide an exposure controller which is small in power consumption, can reduce component cost and can control the exposure highly precisely independently of power voltage with few system resources.例文帳に追加

消費電力が少なく、部品コストを低減でき、なおかつ、少ないシステムリソースで、電源電圧に依存せずに精度の高い露出制御装置を提供する。 - 特許庁

To prevent misalignment of an exposure position due to the change of a mask position while preventing decrease in the accuracy of gap control in exposure by a proximity XY-step system.例文帳に追加

プロキシミティXYステップ方式の露光において、ギャップ制御の精度低下を防止しながら、マスクの位置の変化による焼付け位置のずれを防止する。 - 特許庁

To prevent stoppage of an exposure operation, and to improve reliability of a system to be manufactured by detecting errors which are likely to be generated at processing of control data for controlling the exposure operation, and completely correcting the errors.例文帳に追加

露光動作を制御するための制御データの処理の際に発生し得るエラーを検知し、そのエラーを完全に訂正することにより、露光動作の停止を防止すると共に製造されるデバイスの信頼性を向上させる。 - 特許庁

Particularly, the exposure system relates to production of the sensitometric control patch having exposure gradient enabling measurement of sensitometric data of the photographic element, on the photographic element.例文帳に追加

本発明は、特に、写真素子の感光データの測定を可能とする露光勾配を持つ感光性コントロールパッチの写真素子上への生成に関する。 - 特許庁

Exposure light 10 from a mercury lamp 1 by applying power from a light source control device 2 is adjusted to a specified state inside an exposure optical system 7, when a shutter 3 is in its open state and is injected to a reticle 4.例文帳に追加

光源制御装置2からの電力投入により水銀ランプ1から発生した露光光10は、シャッタ3が開状態の時、露光用光学系7内で所定の状態に整えられ、レチクル4へと射出される。 - 特許庁

This system enables any licensee to know the history of exposure dose record of radiation workers if they work in multiple nuclear installations, and helps the licensees to implement appropriate exposure control.例文帳に追加

これにより、放射線業務従事者が複数の原子炉施設で作業を行う場合に、どの原子炉設置者でもその放射線業務従事者の被ばく前歴を知ることができることから、適切な被ばく管理を行うことが可能となる。 - 経済産業省

The exposure device is provided which has a projection optical system for projecting an image of a reticle pattern to an object of exposure, a detecting system for detecting a predetermined mark by the projection optical system for focusing the projection optical system and the object, and a control unit for driving to control a member provided toward a reticle from the optical system when the detecting system works to detect.例文帳に追加

レチクルのパターンの像を被露光体に投影する投影光学系と、前記投影光学系と前記被露光体との合焦を行うために前記投影光学系を介して所定のマークを検出する検出系と、前記検出系の検出動作時に前記投影光学系よりも前記レチクル側に配置された部材を駆動制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

The electronic camera corrects the sensitivity of an image pickup element, when the hand shaking value detected by the sensor 90 lies outside an allowable range, and a system controller 3 calculating an exposure value on the basis of the sensitivity and the luminance value of a subject, decides a diaphragm value and exposure time for executing proper exposure control from the calculated exposure value.例文帳に追加

この電子カメラは、手振れセンサ90により検出された手振れ値が許容範囲外の場合には、撮像素子の感度を補正し、当該感度と被写体の輝度値とに基づいて露出値を算出するシステムコントローラ3を備えているシステムコントローラ3は、算出した露出値から適正な露光制御を実行するための絞り値と露出時間とを決定する。 - 特許庁

The exposure system enables production of the peculiar sensitometric control patch on the exposed film strip, and the sensitometric control patch includes gradient of exposure areas that enables acquisition of all the sensitometric characteristics of the photographic film.例文帳に追加

露光システムは、露光されたフィルムストリップ上への特有の感光性コントロールパッチの生成を可能とし、この感光性コントロールパッチは、当該写真フィルムの感光特性の全ての取得を可能とする露光領域の勾配を含む。 - 特許庁

The immersion lithography fluid control system includes an exposure region 40 in a gap between an optical member 4, such as a lens, and a workpiece (W) arranged in opposition to the optical member and a fluid control device that holds an immersion fluid in a region in the vicinity of the exposure region.例文帳に追加

液浸リソグラフィ用の流体制御システムは、レンズのような光学素子4と、光学部材に対向して配置されるワークピース(W)との間のギャップ内の露光領域40おびその近傍の領域に液浸流体を保持しておく流体制御デバイスを備えている。 - 特許庁

The UV dosage control system controls a UV exposure to the film, thereby enabling the system to control the oxygen scavenging speed of the activated composition.例文帳に追加

UV線量制御システムは、フィルムが受けるUV露光量を制御し、その結果、活性化された組成物の酸素スカベンジング速度を制御することができる。 - 特許庁

Further, the imaging system may include system control circuitry (28) configured to control exposure of the digital detector by the radiation source and to acquire image data from the digital detector.例文帳に追加

さらに、このイメージング・システムは、放射線源によるディジタル検出器の曝射を制御し、ディジタル検出器から画像データを取得するように構成されているシステム制御サーキットリ(28)を含み得る。 - 特許庁

To provide a photography system, its control method and a program for control which enhance detection ratio of a human face at the time of electronic zooming and perform focusing and exposure control to the human face with sufficient precision.例文帳に追加

電子ズーム時における人物の顔の検出率を向上させ、人物の顔への焦点調節と露出制御を精度よく行う撮影装置及びその制御方法並びに制御用プログラムを提供する。 - 特許庁

This digital camera 100 is provided with a photographic lens optical system 1, a diaphragm 2, an imaging device 3, a holding gain control circuit 4, a luminance level detector 11, an exposure control circuit 12, a device control circuit 13, or the like.例文帳に追加

デジタルカメラ100は、撮影レンズ光学系1、絞り2、撮像素子3、保持利得制御回路4、輝度レベル検出器11、露出制御回路12、デバイス制御回路13などを備えている。 - 特許庁

Each of the video cameras 10-1 to 10-3 uses the received optimum control variable to allow each automatic control system to conduct control, so as to reduce dispersion in exposure and color reproducibility or the like among the image pickup devices.例文帳に追加

各ビデオカメラ10-1〜10-3で、この供給された最適な制御値を用いて自動制御系での制御を行うことにより、ビデオカメラ間で露出や色再現等のばらつきを少なくできる。 - 特許庁

A control part 17 controls the intensity of light by the packager exposure optical system 12 and the beam scanning optical system 13 and an exposure time every small work domain, and the ultraviolet curable resin 51 of a plurality of rank portions in a prescribed small work domain is exposed at once.例文帳に追加

また、制御部17は、一括露光光学系12およびビームスキャン光学系13による光の強度や露光時間をワーク小領域ごとに制御し、所定のワーク小領域における複数の階層分の紫外線硬化樹脂51を1度に露光させる。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of improving through-put by shortening an alignment processing time and performing an alignment correction without stopping an exposure line by correcting a deviation amount of alignment measured by a sensor by using recipes to control respective devices, and a method for controlling the exposure system.例文帳に追加

センサにより計測されたアライメントのズレ量を、各装置を制御するためのレシピを用いて補正することにより、アライメント処理時間を短縮し、露光ラインを止めずにアライメント補正することを可能として、スループットを向上させることができる露光システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

A system control circuit 50 of the imaging apparatus provided with an automatic exposure mechanism divides photographing image data into a plurality of areas, generates an exposure evaluation value on the basis of the luminance for each area and generates a color evaluation value for each pixel in each area.例文帳に追加

自動露出機構を備えた撮像装置において、システム制御回路50では、撮影画像データを複数のエリアに分割し、エリアごとに輝度に基づく露出評価値を生成するとともに、上記各エリア中の画素ごとに色評価値を生成する。 - 特許庁

The exposure correction device comprises: selecting the picture data at any range from the picture data generated by photographing processing for an object image in a photographing means; preparing the histogram of the picture data at any range by a system control circuit 50; and conducting the exposure correction for the picture data based on the histogram.例文帳に追加

撮像手段の被写体像の撮像処理によって生成される画像データから任意の範囲の画像データを選択し、システム制御回路50が当該任意の範囲の画像データのヒストグラムを作成した後、当該ヒストグラムに基づく画像データの露出補正が行われる - 特許庁

In an exposure apparatus for exposing a wafer to an exposure light transmitted through a reticle via the projecting optical system having a lens driving mechanism for driving the projecting lens, a lens controlling portion so creates a lens driving signal for the lens driving mechanism as to control the lens driving mechanism.例文帳に追加

投影レンズを駆動するレンズ駆動機構を有した投影光学系を介してレチクルを透過した露光光によりウエハを露光する露光装置において、レンズ制御部は、レンズ駆動機構のためのレンズ駆動信号を生成し、レンズ駆動機構を制御する。 - 特許庁

The control means acquires an exposure image of the imaging element in a state wherein the main reflecting surface 61 is moved to a mirror-up position and an eye piece shutter of the finder optical system is opened, and performs detection processing for detecting a defective pixel of the imaging element 7 based upon the exposure image.例文帳に追加

制御手段は、主反射面がミラーアップ位置に移動され且つファインダ光学系のアイピースシャッタが開放された状態において撮像素子による露光画像を取得し、当該露光画像に基づき撮像素子の欠陥画素を検出する検出処理を実行する。 - 特許庁

A light reception element 305 is installed in an exposure amt. control system of a digital camera which forms the image of an object on an image pickup element 303 by a photographing lens 301, converts it into image data and controls the exposure amt. based on the image data.例文帳に追加

被写体の像を撮影レンズ301によって撮像素子303上に結像し画像データに変換し、該画像データに基いて、露光量を制御するデジタルカメラの露光量制御システムにおいて、受光素子305を備える。 - 特許庁

The system control circuit 50 computes an exposure amount in the imaging element 14, prepares light quantity data indicating a light quantity decline around the photographing lens 310 corresponding to an F stop value used in photographing on the basis of the exposure amount, and corrects the imaging signals of the imaging element 14 on the basis of the light quantity data.例文帳に追加

システム制御回路50は、撮像素子14における露光量を演算し、露光量に基づいて、撮影で用いる絞り値に応じた撮影レンズ310の周辺の光量低下を表す光量データを作成し、光量データに基づいて撮像素子14の撮像信号を補正する。 - 特許庁

To provide a control method for an exposure head and an electrophotographic system mounting the exposure head in which an image of high image quality having uniform density can be outputted even when a large quantity of image where high density images are arranged while being shifted is printed by correcting deterioration in the quantity of light of each light emitting element through a convenient arrangement.例文帳に追加

簡易な構成で各発光素子の光量劣化を補正し、たとえ高濃度な画像が偏って配置された画像を大量に印字した場合でも、濃度ムラのない高画質な画像出力が可能な露光ヘッドの制御方法並びに露光ヘッドを搭載した電子写真装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an exposure system capable of effectively cooling an optical material without vibration, a detrerioration in positional stability, response to a positional control, or the like to decrease a failure rate of the wafer by precisely exposure transcribing a circuit pattern, which manufactures a high performance device.例文帳に追加

光学部材を、振動・位置安定性・位置制御の応答性の悪化等を伴わずに効果的に冷却することができ、その結果、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

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