「exposure control system」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In the step S208, using the measured data acquired in the exposure control, a system controller continues to perform length measurement control by a length measurement controller until a measured length (AF) is determined to be a focal length(step S209).例文帳に追加

ステップＳ２０８では、露出制御で得られた測定データを用いて、システム制御部は測距（ＡＦ）が合焦と判断されるまで、測距制御部を用いて測距制御を行う（ステップＳ２０９）。 - 特許庁

A system control circuit 11 automatically controls exposure by adjusting the values of plural control parameters for controlling the stop value of an iris 2, the sensitivity of an image pickup element 3, an electronic shutter and a CDS/AGC circuit 4.例文帳に追加

システムコントロール回路１１は、アイリス２の絞り値、撮像素子３の感度及び電子シャッタ、ＣＤＳ／ＡＧＣ回路４を制御する複数の制御パラメータの値を調整することによって露出を自動制御する。 - 特許庁

CALCULATION METHOD OF OPTICAL CHARACTERISTICS, CALCULATION APPARATUS OF OPTICAL CHARACTERISTICS, CONTROL METHOD OF OPTICAL CHARACTERISTICS, CONTROL APPARATUS OF OPTICAL CHARACTERISTICS, OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

光学特性の算出方法、光学特性の算出装置、光学特性の管理方法、光学特性の管理装置、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.例文帳に追加

露光光ＢによりマスクＲのパターンを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する露光装置９において、マスクＲのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Ｂの露光量を制御する制御装置２３とを備える。 - 特許庁

A film filling camera having a function to set exposure conditions automatically has an exposure control function in which an exposure correction of +1.5 EV or more is conducted against a photometry value only when a film whose sensitivity of the system sensitivity defined as Ls in a formula (1) below is lower than a specific value is filled.例文帳に追加

露光条件を自動で設定する機能を有するフィルム装填式カメラにおいて、下の式（１）でＬｓとして定義されるシステム感度が特定の値以下となる感度のフィルムが装填された場合のみ、測光値に対して＋1.5ＥＶ以上の露出補正を行う露光制御機能を有することを特徴とするカメラである。 - 特許庁

The control unit 110, when a preceding lot designates only a specific exposure apparatus 101(or 102) and designation of a successive lot includes exposure apparatuses 102(or 101) other than at least the above specified exposure apparatus, controls the system to start conveying-in of substrates of the successive lot before the conveying-in of all substrates of the preceding lot is completed.例文帳に追加

制御部１１０は、先行ロットが特定の露光装置１０１（又は１０２）のみを指定するものであり、かつ後続ロットの指定が少なくとも上記特定の露光装置以外の露光装置１０２（又は１０１）を含むものである場合には、先行ロットの全基板の搬入が完了する前に、後続ロットの基板の搬入を開始させる。 - 特許庁

The exposure control system includes: an overlap determination unit 22 that determines whether or not a position of a foreign matter adhered to the backside of a photomask overlaps with a position of a chuck 12 holding the photomask; and an exposure decision unit 24 that decides to perform exposure while holding the photomask by the chuck when it is determined that the position of the foreign matter does not overlap with the position of the chuck 12.例文帳に追加

フォトマスクの裏面に付着した異物の位置とフォトマスクを保持するチャック１２の位置とが、フォトマスクをチャックで保持したときに重なるか否かを判定する重なり判定部２２と、異物の位置とチャックの位置とが重ならないと判定された場合に、フォトマスクをチャックで保持して露光を行うことを決定する露光決定部２４とを備える。 - 特許庁

In the exposure device equipped with the exposure head provided with a two or more kinds of organic EL light emitting elements, a system control part 45 controls at least either the light emitting time or the emitted light quantity of the organic EL light emitting element 20 to expose a patch image 3A for measuring density with two or more kinds of exposure preset to color photosensitive material 3.例文帳に追加

複数の有機ＥＬ発光素子が設けられた露光ヘッドを備えた露光装置であって、システム制御部４５により、有機ＥＬ発光素子２０の発光時間、発光光量の少なくとも一方が制御されてカラー感光材料３に対して予め定められた複数の露光量でそれぞれ濃度測定用のパッチ画像３Ａが露光される。 - 特許庁

The additional filter selecting device selects the additional filter 18 to be a prescribed X-ray exposure to the subject 5 by a system control part 17 on the basis of at least one of patient information, inspection information, environment information and system information.例文帳に追加

患者情報、検査情報、環境情報又はシステム情報のうち少なくとも１つの情報に基づいてシステム制御部１７によって被検体５に対して所定のＸ線被曝量となる付加フィルタ１８を選択する。 - 特許庁

The control system controls the light source and the image capturing system to synchronize the lamp trigger in order to prevent that the remaining of flashing, after ending of the continuous exposing duration, influences image exposure in the continuous flashing duration.例文帳に追加

制御システムは、フラッシュ継続期間中に露光継続期間が終わり、フラッシュの残りの部分が画像露光に影響しないように、照明光源および画像取込み装置を制御してランプトリガーを同期化させることができる。 - 特許庁

A feedforward control system 200 compensates a vibration damping system of an exposure device main body based on an output of acceleration sensors 18 instantaneously detecting acceleration of a vibrational component transmitted from a floor face F.例文帳に追加

フィードフォワード制御系２００は、床面Ｆから伝達される振動成分である加速度をいち早く検出する加速度センサ群１８の出力に基づいて、露光装置本体部の振動制御系を補償する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRIVING MOVABLE BODY, PATTERNING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE, POSITION CONTROL METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、位置制御方法及び位置制御システム、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an exposure control system for a video camera which can perform control to a proper exposure level even when a subject with high luminance has a thick color by providing a detection part for a luminance signal component generated on the basis of a video signal generated by an image pickup element, a detection part for a color difference signal component, and a diaphram control means which controls the diaphram quantity of an iris.例文帳に追加

撮像素子により生成される映像信号に基づいて形成される輝度信号成分の検波部と、色差信号成分の検波部と、両者の加算信号に基づいて前記アイリスの絞り量を制御する絞り量制御手段とを備えることにより、輝度の高い被写体において、濃い色彩がある場合でも適切な露出レベルに制御しうるビデオカメラの露出制御方式を提供する。 - 特許庁

Also, information related to the exposure control of an electronic image pickup system is transmitted from a CPU 150 which corresponds to a controller of a film recording system to the CPU 184 of an electronic image pickup system, and the electronic image pickup system sets CCD diaphragm, a CCD gain, etc. according to the information.例文帳に追加

また、フイルム記録系の制御装置に相当するＣＰＵ（１５０）から電子撮像系の露出制御に関する情報が電子撮像系のＣＰＵ（１８４）に伝達され、電子撮像系はこれら情報に従ってＣＣＤ絞り、ＣＣＤゲイン等が設定される。 - 特許庁

The controller 16 puts the spectral width control system 30 in a nonoperating state and oscillates the light source 1 at a first oscillation frequency in the measurement processing, and shifts the spectral width control system 30 to an operating state in the exposure process and makes the light source 1 oscillate at a second oscillation frequency.例文帳に追加

制御部１６は、計測処理ではスペクトル幅制御システム３０を非動作状態にして光源１を第１発振周波数で発振させ、露光処理ではスペクトル幅制御システム３０を動作状態にして光源１を第２発振周波数で発振させる。 - 特許庁

In a first mode, in accordance with a control instruction of a system control part 118, the focus drive control part 112 drives the focus lens to a focusing position of the focus lens 104 focusing on the object with the position of the zoom lens 101 driven during exposure.例文帳に追加

システム制御部１１８の制御指示に従い、フォーカス駆動制御部１１２は第１のモードにおいて、露光中に駆動されるズームレンズ１０１の位置にて被写体に合焦するフォーカスレンズ１０４の合焦位置へ当該フォーカスレンズを駆動する。 - 特許庁

The system control unit 209 performs control so that a display color of the auxiliary image for exposure adjustment is changed in accordance with operation input of an iris dial 214c and performs control so that a display color of the auxiliary image for focus adjustment is changed in accordance with operational input of a focus ring 214b.例文帳に追加

また、システム制御部２０９は、アイリスダイヤル２１４ｃの操作入力に応じて露出調整用の補助画像の表示色を変更するように制御し、且つ、フォーカスリング２１４ｂの操作入力に応じてフォーカス調整用の補助画像の表示色を変更するように制御する。 - 特許庁

In the case of detecting a pixel defect, a pixel defect information acquisition section 112a provided to a system controller 112 uses an exposure control device 103 and a CCD driver 106 to control an exposure and charge storage time of a CCD imaging element 105 thereby acquiring the information with respect to the pixel defect in a prescribed operating state of the CCD imaging element 105.例文帳に追加

画素欠陥の検出時には、システムコントローラ１１２に設けられた画素欠陥情報取得部１１２ａが露出制御機構１０３およびＣＣＤドライバ１０６を用いてＣＣＤ撮像素子１０５の露光および電荷蓄積時間を制御することにより、ＣＣＤ撮像素子１０５の所定の動作状況における画素欠陥に関する情報が取得される。 - 特許庁

A system controller 112 is provided with a stereo adaptor detection section 112d that detects the mounted stereo adaptor, an automatic exposure(AE) control section 112e that analyzes an object image signal with respect to a photometry area to calculate photometry information required for the exposure control, and a photometry area setting section 112f that sets the photometry area.例文帳に追加

システムコントローラ１１２には、ステレオアダプタの装着を検出するステレオアダプタ検出部１１２ｄ、測光エリアに関する被写体画像信号を解析して露出制御に必要な測光情報を算出するための自動露出（ＡＥ）制御部１１２ｅ、および上述の測光エリアの設定を行う測光エリア設定部１１２ｆが設けられている。 - 特許庁

A glucose sensor package system includes a glucose sensor 300 and a protective package 310 indicating exposure to temperature changes in order to indicate proper temperature control.例文帳に追加

ブドウ糖センサ３００と、適正な温度制御を示すために温度変化への暴露を知らせる保護パッケージ３１０とを含むブドウ糖センサパッケージシステムである。 - 特許庁

To eliminate the trouble that a stereoscopic imaging system has lower image processing capability of stereoscopic imaging when performing exposure control using an electronic shutter function.例文帳に追加

ステレオ撮像システムにおいて、電子シャッタ機能を用いた露光制御を行った場合に、ステレオ撮像の画像処理能力が低下する不具合を発生させないこと。 - 特許庁

To provide an electronic camera capable of simply and accurately performing the exposure control at high speed independently of the presence/no presence of a photographing lighting system and strobe light.例文帳に追加

撮影光学系やストロボ光の有無にかかわらず、露出制御を単純かつ高速、正確に行うことが可能な電子カメラを提供すること。 - 特許庁

To provide the vacuum pressure circuit of an exposure apparatus that can improve reliability of the system even when the vacuum pressure in a vacuum line decreases during empty suction control.例文帳に追加

空引き制御において真空ラインの真空圧が下がってもシステムとしての信頼性の向上を図ることができる露光装置の真空圧回路を提供する。 - 特許庁

To provide a photometric mechanism by which proper exposure control is attained by performing correct photometry corresponding to the viewing angle of a photographing screen changing in accordance with the change of the focal distance of a photographing optical system.例文帳に追加

撮影光学系の焦点距離の変化に応じて変化する撮影画面の画角に対応した正確な測光を行なうことができ適正な露出制御を可能とした測光機構を提供する。 - 特許庁

To provide the technique for improving the productivity of a semiconductor device for a manufacturing method of the semiconductor device including an exposure process which is automatically performed by a control system.例文帳に追加

制御システムによって自動処理される露光工程を含む半導体装置の製造方法において、半導体装置の生産性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an accelerator system having a wide ion beam current control range and preventing a possibility that a great exposure dose from being transported on the downstream side by mistake at power saving and a long maintenance period.例文帳に追加

広範囲のイオンビーム電流調整範囲をもち、しかも省電力且つ長メンテナンス周期で、間違って多くの照射線量が下流側に輸送されてしまう虞れのない加速器システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a new transmission system related to an exposure sequence period between a camera and an electronic flash device in order to reduce electric energy consumed for the switching control of an X contact.例文帳に追加

本発明は、Ｘ接点のスイッチング制御に消費する電力量を削減するために、カメラと電子閃光装置との間における露光シーケンス期間の新しい伝達方式を提示することを目的とする。 - 特許庁

The exposure apparatus EX includes a stage apparatus ST composed of a wafer stage WST and a measurement stage MST supported so as to have a six degree of freedom and a main control system MC for controlling the stage apparatus ST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、６自由度を有するよう支持されたウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴからなるステージ装置ＳＴ、及びステージ装置ＳＴを制御する主制御系ＭＣを備える。 - 特許庁

To provide a new transmission system for an exposure sequence period between a camera and an electronic flashing device, to reduce the amount of power consumed for switching control of an X-contact.例文帳に追加

Ｘ接点のスイッチング制御に消費する電力量を削減するために、カメラと電子閃光装置との間における露光シーケンス期間の新しい伝達方式を提示することを目的とする。 - 特許庁

To sufficiently ensure the accuracy of light quantity control while reducing the manufacturing cost of an exposure device used for a print head, etc. in a solid scanning optical system.例文帳に追加

固体走査光学系におけるプリントヘッドなどに使用される露光装置の製造コストを安価にしつつ、光量制御の精度も十分に確保する。 - 特許庁

Furthermore, the image pickup device 102 changes the frame frequency to the frame frequency different from the frame frequency of the NTSC system only when an exposure time is shorter than or equal to a predetermined time under the control of a CPU.例文帳に追加

さらに、撮像素子１０２は、ＣＰＵの制御下で、露光時間が一定以下の場合のみ、ＮＴＳＣ方式のフレーム周波数から外れたフレーム周波数とする。 - 特許庁

To provide a radiation control device and a radiation image capturing system that may suppress an exposure dose with respect to a subject, while preventing degradation of a quality of a radiation image in a region of interest.例文帳に追加

関心領域における放射線画像の画質の低下を防止しつつ、被検者に対する被曝量を抑制することのできる放射線制御装置および放射線画像撮影システムを得る。 - 特許庁

To provide an exposure system which can execute stable tone expression by scanning the inside of one pixel by a plurality of the number of times without carrying out complicate control by a simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成により、複雑な制御を行うことなく１画素内を複数回走査して安定した階調表現を行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging system and an imaging apparatus that can control a picture that a user is interested in to proper exposure even when the whole picked-up image and a portion of its enlarged image are displayed at the same time.例文帳に追加

撮像画像全体と一部を拡大した画像を同時に表示する場合でも、ユーザが注目する画面を適正な露出にできる撮像システム及び撮像装置を提供する。 - 特許庁

A part of the driving profile which regulates the movement of the stage under light exposure of at least one shot region is constructed by a sine wave whose frequency is lower than the resonant frequency in a control system of the stage.例文帳に追加

前記駆動プロファイルのうち少なくとも１つのショット領域の露光中の前記ステージの移動を規定する部分は、前記ステージの制御系における共振周波数よりも低い周波数の正弦波から構成されている。 - 特許庁

An optimum synchronous shifting speed for a given sectional region at an outer boundary part of a sensitive substrate (W) is determined by a main control system 20, on the basis of exposure map data stored in a memory unit 19.例文帳に追加

主制御系２０が、記憶装置１９に記憶された露光マップデータに基づいて、感応基板Ｗの外周部の特定の区画領域に関する、適正化された同期移動速度を決定する。 - 特許庁

In an improved exposure sensing and control system, a sound or other vibrations, which is or are generated by the passage of radiation pulses of a projection beam, is or are sensed using a microphone or other sound sensor.例文帳に追加

マイクロホンまたは他の音響センサを用いて、投影ビームの放射のパルスの通過によって生じる音または他の振動を検出する。 - 特許庁

To provide a camera that realizes photography with proper exposure and can freely control lighting effect under any photographic condition and a multiple-lamp photography system for the camera.例文帳に追加

どのような撮影条件であっても、適正露出で撮影することができ、照明効果を自由に制御することができるカメラ及びカメラの増灯撮影システムを提供する。 - 特許庁

A computer system 28 receives the orientation signal and the still image from the removable solid-state memory card 24 and implements exposure control on the still image in accordance with the orientation signal.例文帳に追加

コンピュータシステム２８は、取り外し可能固体メモリカード２４から方向信号と静止画像を入力し、静止画像に対する露光制御を方向信号に応じて実施する。 - 特許庁

To efficiently control a rotationally asymmetric component in imaging characteristics in the case where the light amount distribution of exposure light transmitting at least some of optical members of a reticle and a projection optical system is rotationally asymmetric.例文帳に追加

レチクル及び投影光学系の少なくとも一部の光学部材を通過する露光光の光量分布が非回転対称になるような場合に、結像特性のうちの非回転対称な成分を効率的に制御する。 - 特許庁

Since an exposure control system can be constituted of a board arrangement adapted to a current device specification, a large distribution board is not required to be prepared in accordance with a maximum number of channels and thereby the size of the image recorder can be reduced.例文帳に追加

現在のデバイス仕様に即した基板構成で露光制御系を構成することができるため、最大チャンネル数に合わせて予め無駄に大型の分配基板を装備する必要がなく、装置自体の小型化を図ることができる。 - 特許庁

Moreover, the control unit 161 changes settings of the exposing conditions of the exposure unit 5 to provide the constant line width of the wafer treated later by the coating development treatment system based on the trend of the line width.例文帳に追加

そして，制御装置１６１は，当該線幅の傾向に基づいて，今後塗布現像処理システムで処理されるウェハの線幅が一定になるように，露光装置５の露光条件の設定を変更する。 - 特許庁

In the non-follow system, the exposure control is performed by using the predetermined light measuring pattern as the objective light measuring pattern without changing the objective light measuring patterns.例文帳に追加

非追従方式においては、対象測光パターンを変更せず、予め定められた測光パターンを対象測光パターンとして用いて露出制御を行う。 - 特許庁

Furthermore, replacing work incident to alteration of device specification becomes convenient because a main image distribution board 154 or the sub-image distribution board 166 is integrated with an exposure optical system control board 162.例文帳に追加

また、主画像分配基板１５４又は副画像分配基板１６６と、露光光学系制御基板１６２とが一体となり、デバイス仕様変更による交換作業が簡便となる。 - 特許庁

An open-close mechanism is provided between a local space and a chamber which controls the temperature of all exposure system, and a passage is opened by the open-close mechanism so as to control the temperature of the local space through the chamber.例文帳に追加

局部空間と装置全体を温度制御するチャンバーとの間に開閉機構を設け局部内の温度が大きく外れた場合には、開閉口を開放して本体チャンバーから温度制御を行う。 - 特許庁